薄化工藝介紹及不良案例分析

玻璃薄化工藝介紹及不良案例分析內(nèi)容1.化學(xué)薄化設(shè)備介紹2.化學(xué)薄化工藝介紹3.主要不良案例分析一、化學(xué)薄化設(shè)備介紹設(shè)備組成：Loader單元預(yù)清洗單元蝕刻單元清洗單元干燥單元Unloader單元洗氣裝置供酸裝置溫度控制器HF酸濃度計(jì)化學(xué)薄化設(shè)備實(shí)圖二、化學(xué)薄化工藝介紹1.反應(yīng)時(shí)間與玻璃質(zhì)量損失的關(guān)系（注：圖表中所研究玻璃為石英玻璃）圖1.反應(yīng)時(shí)間與玻璃質(zhì)量損失之間的關(guān)系2.反應(yīng)速率與反應(yīng)溫度的關(guān)系圖2.玻璃在HF酸中反應(yīng)速率與反應(yīng)溫度之間的關(guān)系3.反應(yīng)速率與HF酸濃度的關(guān)系圖3.玻璃在HF酸中反應(yīng)速率與HF酸濃度之間的關(guān)系25℃時(shí)不同濃度HF酸中各組分的濃度(mol/l)[HF]tCompositionH+

HF2-

(HF)2

F-

HF1.40.02820.01810.46860.01010.41662.790.03960.02891.04910.01080.62335.580.05580.04462.28030.01130.9198.40.06840.05693.5630.01151.148811.230.0790.06734.87040.01171.343122.50.11150.099610.17390.01191.9412說明反應(yīng)速率與(HF)2的濃度有很大的相關(guān)性，是HF酸溶液中的最主要活性成分，因?yàn)橐詺滏I形式存在的H－F鍵比HF分子中的H－F鍵更脆弱，與SiO2反應(yīng)時(shí)更容易斷裂。三、主要薄化不良案例分析1.不可擦拭臟污臟污區(qū)域正常區(qū)域可判定不可擦拭臟污在蝕刻過程中產(chǎn)生結(jié)論：薄化前的玻璃表面品質(zhì)直接決定薄化后玻璃表面品質(zhì)為什么局部蝕刻速率不一致為什么不是所有玻璃表面都是玻璃成分為什么膠類物質(zhì)未被清除為什么局部表面不平整為什么產(chǎn)生不可擦拭臟污因?yàn)椴ＡП砻娌皇撬袇^(qū)域都是玻璃成分因?yàn)椴ＡП晃g刻時(shí)局部蝕刻速率不一致因?yàn)椴ＡП』瘯r(shí)局部表面不平整清除不徹底、臟污漏擦拭薄化前玻璃表面有膠類物質(zhì)未被清除測量系統(tǒng)環(huán)境材料工藝方法設(shè)備人檢查方法檢查工具溫度照度濕度膠的黏度無塵布去污性能X3無塵布更換頻度X2擦拭方法X1工作技能識(shí)別臟污能力清潔度工具產(chǎn)生臟污接觸位置酒精濃度X4接觸次數(shù)2.薄化表面不勻薄化表面不勻產(chǎn)生原因：1.Conveyer故障處理故障必須先停止蝕刻液供應(yīng)，必將造成玻璃表面藥液殘留，繼續(xù)與玻璃進(jìn)行蝕刻速率不一致的反應(yīng)。形成水波紋狀表面不勻2.瀑布流分叉（瀑布流蝕刻方式）瀑布流平臺(tái)由于蝕刻后反應(yīng)物堆積造成分叉，玻璃傳送至分叉位置時(shí)蝕刻速率降低造成局部不平整。3.Nozzle堵塞（噴淋式蝕刻方式）Nozzle堵塞造成玻璃局部蝕刻液更新不及時(shí)，間接降低藥液濃度，從而降低蝕刻速率，形成表面不勻。薄化表面不勻?qū)︼@示的影響光線透過玻璃表面，在表面不勻處形成折射，造成光的垂直分量減弱，與周圍正常相比產(chǎn)生亮度的差異。薄化表面不勻改善方向（以瀑布流蝕刻方式為例）1.對循環(huán)藥液儲(chǔ)罐增加過濾裝置，防止蝕刻產(chǎn)物堆積在瀑布流平臺(tái)，造成瀑布流分叉。2.增加瀑布流平臺(tái)的保養(yǎng)頻度，及時(shí)清理瀑布流平臺(tái)的堆積產(chǎn)物。3.調(diào)整蝕刻液配方，使部分蝕刻產(chǎn)物溶于蝕刻液中，減少堆積和堵塞。強(qiáng)力推薦!大量電子行業(yè)電子企業(yè)/工廠方面(涵蓋LCD/LCM/TFT/TP/3D/POL實(shí)戰(zhàn)技術(shù)）。包括多家著名電子企業(yè)的內(nèi)部管理制度,表格,流程,成本,績效考核,供應(yīng)鏈,質(zhì)量管理