行業(yè)標準《電子薄膜用高純鋁濺射靶材》編制說明

電子薄膜用高純鋁濺射靶材標準編制說明標準編制說明一、前言2090要原材料。具體負責集成電路用鋁濺射靶材的行業(yè)標準的制定。二、標準制定的背景和必要性微電子行業(yè)重要的原材料。了越來越高的要求，在需求數(shù)量方面也在不斷增加。近年來，我國電地區(qū)之一。但是大量靶材需要從國外進口。近幾年，隨著靶材產業(yè)的提高我國靶材與電子產品的國際競爭力有著不行低估的作用。AL規(guī)，制定本標準的目的在于：國家進展的需要，填補國內空白，標準電子薄膜用高純鋁濺射靶材的質量；進展國內高科技產業(yè)，將國內行業(yè)與世界接軌，靶材行業(yè)在國內興；帶動超高純鋁金屬的進展，增加高技術產業(yè)，提高國家競爭力；增加企業(yè)的產權意識，保護學問產權。三、現(xiàn)行國家標準、行業(yè)標準的執(zhí)行狀況靶材產業(yè)屬于國內興產業(yè)，本公司制定的“集成電路用鋁濺射靶材”暫無相應的國家或行業(yè)的質量標準。在制定中以地方標準及用戶的相關技術要求為根底。靶材作為濺射沉積薄膜的原材料有很強的應用目的和應用背景。三、現(xiàn)行國家標準、行業(yè)標準的執(zhí)行狀況靶材產業(yè)屬于國內興產業(yè)，本公司制定的“集成電路用鋁濺射靶材”暫無相應的國家或行業(yè)的質量標準。在制定中以地方標準及用戶的相關技術要求為根底。靶材作為濺射沉積薄膜的原材料有很強的應用目的和應用背景。滿足實際需要的靶材，充分發(fā)揮其作用。1、純度要求四、主要技術指標、試驗方法和檢驗規(guī)章的目的和依據1、純度要求在實際應用中，鋁靶材的用途不一樣，對鋁靶材的純度要求也不全都。依據靶材的使用背景和客戶要求，鋁靶材純度分為4N、4N5、2、尺寸確實定及公差范圍2、尺寸確實定及公差范圍靶材有不同的尺寸要規(guī)格及偏差的靶材。平板顯示器和太陽能用鋁靶材主要以板材為主。3、微觀構造要求AL法，熱處理工藝等進展掌握。通過對目前行業(yè)內主流客戶普遍使用的鋁靶材的晶向的具體分析，我們制定了合格高純鋁靶材的晶向分布要求。4、焊接結合率要求或是背散射電子像〕XRD可以定量的分析計算各個晶向所EBSD4、焊接結合率要求對于釬焊的AL靶材，在濺射前與無氧銅(或其它材料)焊接到一5、外觀質量要求靶材的使用是在等氬離子密封腔體內，所以靶材外表無造成使用上不良的因素，如變形、凹陷、銹跡、臟污、碰傷、擦傷、異物等缺進展。6、5、外觀質量要求靶材的使用是在等氬離子密封腔體內，所以靶材外表無造成使用上不良的因素，如變形、凹陷、銹跡、臟污、碰傷、擦傷、異物等缺進展。6、內部質量要求鑒于靶材的使用條件，靶材內部需無氣孔、夾雜物等缺陷。由于度和放電現(xiàn)象等，還影響著濺射薄膜的電學和光學性能。7、產品加工凈化要求8、檢驗規(guī)章與試驗方法8、檢驗規(guī)章與試驗方法依據實際檢測需要和客戶要求，協(xié)商后進展檢驗。9、包裝、運輸、儲存要求確保產品不在包裝、運輸、儲存過程中有二次污染，牢靠運輸，與用戶協(xié)商確定。五、主要參考標準與文獻G