2022年全球與拋光墊市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局分析

拋光墊產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)疽鈭D2022年全球與拋光墊市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局分析一、拋光墊行業(yè)發(fā)展概況1、定義及參數(shù)拋光墊又稱拋光皮，拋光布，拋光片，是化學(xué)機(jī)械拋光中決定表面質(zhì)量的重要輔料。拋光墊的力學(xué)性能，如材質(zhì)硬度、彈性模量等都起到重要作用，同時(shí)，其表面特征，如微孔形狀、孔隙率、溝槽形狀等，可通過影響拋光液流動(dòng)和分布，來影響拋光效率和平坦性指標(biāo)。而由于在CMP拋光中發(fā)揮的作用和原理不同，拋光墊更多是機(jī)械摩擦作用，同時(shí)承載拋光液以便化學(xué)反應(yīng)發(fā)生，因此相對(duì)起化學(xué)反應(yīng)作用的拋光液品類要較少，產(chǎn)品的通用性相對(duì)更強(qiáng)。CMP拋光墊的參數(shù)指標(biāo)2、常見結(jié)構(gòu)拋光墊是一種具有一定彈性且疏松多孔的材料，一般由含有填充材料的聚氨酯構(gòu)成。拋光墊根據(jù)溝槽結(jié)構(gòu)形式不同分為四個(gè)類別，每種結(jié)構(gòu)的應(yīng)用領(lǐng)域各有不同。常見拋光墊結(jié)構(gòu)二、拋光墊產(chǎn)業(yè)鏈拋光墊上游主要為聚氨酯、無紡布、拋光墊溝槽加工機(jī)等，拋光墊廠商位于產(chǎn)業(yè)鏈中游，通常外購(gòu)聚氨酯彈性體原材料。拋光墊企業(yè)通常外購(gòu)聚氨酯彈性體，再經(jīng)過貼膠、雕槽、切片等工藝制成拋光墊，提供給下游晶圓廠驗(yàn)證，驗(yàn)證通過后逐步實(shí)現(xiàn)批量供貨。三、全球拋光墊行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀近年來全球拋光墊市場(chǎng)規(guī)模呈現(xiàn)出逐步增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，2021年全球拋光墊市場(chǎng)規(guī)模約為8.71億美元，同比增長(zhǎng)18.34%。2016-2021年全球拋光墊市場(chǎng)規(guī)模及增速四、中國(guó)拋光墊行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀CMP拋光材料是半導(dǎo)體制造材料的重要組成部分之一，化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)借助于拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和納米磨粒的機(jī)械磨削雙重耦合作用，可以在原子水平上實(shí)現(xiàn)材料的去除，可以在0.35μm及其以下尺寸器件上同時(shí)實(shí)現(xiàn)局部和全局平坦化，被廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件、計(jì)算機(jī)硬盤、微機(jī)電系統(tǒng)、集成電路等領(lǐng)域。2015-2021年，中國(guó)CMP拋光材料市場(chǎng)規(guī)模由22.47億元增長(zhǎng)至41.97億元，期間年均復(fù)合增長(zhǎng)率為10.97%。2015-2021年中國(guó)CMP拋光材料市場(chǎng)規(guī)模及增速在CMP過程中，拋光墊起到了儲(chǔ)存拋光液、輸送拋光液、排出廢物、傳遞加工載荷、保證拋光過程平穩(wěn)進(jìn)行等作用，其成本占CMP總成本的三分之一左右。數(shù)據(jù)顯示，我國(guó)拋光墊市場(chǎng)規(guī)模也在持續(xù)增長(zhǎng)，2021年達(dá)到13.85億元，同比上升15.9%。2015-2021年中國(guó)拋光墊市場(chǎng)規(guī)模及增速2018-2021年，我國(guó)拋光墊產(chǎn)量自0.33萬片迅速增長(zhǎng)至14.69萬片，期間年均復(fù)合增速為254.4%；2015-2021年，拋光墊需求量自36.2萬片增長(zhǎng)至75.11萬片，期間年均復(fù)合增速為12.94%?？傮w來看，供不應(yīng)求。2015-2021年中國(guó)拋光墊產(chǎn)量及需求量變化情況目前國(guó)內(nèi)不同品牌、不同類型拋光墊產(chǎn)品價(jià)格存在較大的差異，行業(yè)供應(yīng)商會(huì)根據(jù)不同型號(hào)、不同制程、不同市場(chǎng)區(qū)域以及不同銷量等多因素來區(qū)別定價(jià)。近年來我國(guó)拋光墊市場(chǎng)銷售均價(jià)持續(xù)下降，2015年我國(guó)拋光墊平均價(jià)格為2050元/片，2021年下滑至1844元/片。2015-2021年中國(guó)拋光墊銷售均價(jià)走勢(shì)圖五、拋光墊行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局1、市場(chǎng)份額全球CMP市場(chǎng)長(zhǎng)期以來被美國(guó)和日本企業(yè)壟斷。在拋光墊市場(chǎng)中，美國(guó)陶氏化學(xué)的市場(chǎng)份額達(dá)79%，占據(jù)絕對(duì)優(yōu)勢(shì)地位。相對(duì)來說，其他企業(yè)的市場(chǎng)份額較小。2020年全球CMP拋光墊競(jìng)爭(zhēng)格局2、重點(diǎn)企業(yè)—鼎龍股份鼎龍股份作為國(guó)內(nèi)拋光墊行業(yè)的龍頭企業(yè)，目前形成營(yíng)收規(guī)模的主要是打印復(fù)印耗材類產(chǎn)品以及CMP拋光墊產(chǎn)品。目前公司打印復(fù)印耗材業(yè)務(wù)營(yíng)收仍是第一大業(yè)務(wù)營(yíng)收來源，半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)營(yíng)收占比逐步提升，成為公司的第二大業(yè)務(wù)營(yíng)收來源。2022年上半年，公司半導(dǎo)體材料(含CMP拋光墊、CMP拋光液、CMP清洗液、PI漿料)業(yè)務(wù)收入為2.54億，占比19.32%。2022年上半年鼎龍股份營(yíng)業(yè)收入構(gòu)成六、拋光墊行業(yè)研究方向目前，國(guó)內(nèi)外學(xué)者在CMP拋光墊的研究方面取得了一系列進(jìn)展。隨著對(duì)加工質(zhì)量、加工效率的要求越來越高，可以對(duì)以下幾個(gè)方面進(jìn)行更深入的研究：1、拋光墊的表面紋理影響著拋光液的流動(dòng)及分布，進(jìn)而影響著拋光質(zhì)量和拋光效率。目前，對(duì)于拋光墊表面紋理的研究多針對(duì)特定的形狀，對(duì)表面紋理設(shè)計(jì)的理論研究較少，有必要進(jìn)一步探究拋光墊表面紋理幾何參數(shù)對(duì)拋光性能的影響，建立一個(gè)完善的理論體系指導(dǎo)表面紋理設(shè)計(jì)。2、目前，學(xué)者們多利用光學(xué)手段直接監(jiān)測(cè)拋光墊的表面磨損狀態(tài)，監(jiān)測(cè)手段較單一。探究拋光過程中聲發(fā)射信號(hào)、力信號(hào)等間接信號(hào)與拋光墊磨損狀態(tài)的關(guān)系，融合多傳感器信號(hào)對(duì)拋光墊磨損狀態(tài)進(jìn)行監(jiān)測(cè)，可以獲得更高的監(jiān)測(cè)精度，發(fā)展前景較好。3、雖然利用親水性聚合物作為拋光墊的基體可以實(shí)現(xiàn)拋光墊的自修整，而不需要附加修整器，但是拋光墊自修整性能受到拋光參數(shù)的影響，基體遇水溶脹也會(huì)引起其力學(xué)性能的變化，因此需要進(jìn)一步探究加工參數(shù)對(duì)自修整性能的影響，改進(jìn)拋光墊材質(zhì)，避免拋光墊遇水溶脹引起拋光性能波動(dòng)過大。4、相較于單面化學(xué)機(jī)械拋光，雙面化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得更優(yōu)的整體和局部平整度，加工效率更高。目前，針對(duì)雙面化學(xué)機(jī)械拋光墊的研究較少。針對(duì)雙面化學(xué)機(jī)械拋光，探究拋光墊的性能優(yōu)化方法，了解其磨損特點(diǎn)，并改進(jìn)其修整方式，具有不可忽視的價(jià)值。5、除了拋光墊的拋光效率和拋光質(zhì)量，拋光墊的使用壽命也是制造商們選擇拋光墊時(shí)所需要參考的一個(gè)重要指標(biāo)。由于相關(guān)的研究實(shí)驗(yàn)耗時(shí)長(zhǎng)、實(shí)驗(yàn)成本高等，因此目前針對(duì)拋光墊使用壽命的研究