半導(dǎo)體材料行業(yè)專題報(bào)告光刻膠高精度光刻關(guān)鍵材料

半導(dǎo)體材料行業(yè)專題報(bào)告-光刻膠高精度光刻關(guān)鍵材料光刻膠——高精度光刻的關(guān)鍵在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，上游微電子材料和設(shè)備是支撐該行業(yè)的關(guān)鍵部分。上游微電子材料包括半導(dǎo)體制造過程中用到的所有化學(xué)材料，包括硅片、光刻膠及輔助材料、光掩模、CMP拋光材料、工藝化學(xué)品、濺射靶材、特種氣體等。其中，光刻膠是占據(jù)極其重要地位的關(guān)鍵原材料。由于中高端光刻膠的相關(guān)生產(chǎn)技術(shù)目前主要掌握在日本手中，我國已加大政策扶持力度，力求加速在光刻膠領(lǐng)域的國產(chǎn)替代進(jìn)程。光刻是將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片上，為后續(xù)刻蝕工藝做準(zhǔn)備的過程。光刻是IC制造過程中耗時最長、難度最大的工藝之一，耗時占IC制造50%，成本占IC制造1/3。在一次芯片制造中，往往要對硅片進(jìn)行上十次光刻，其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，通過顯影后，被曝光的光刻膠將被去除，電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過刻蝕工藝，實(shí)現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對光刻精度至關(guān)重要。光刻膠是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。由于光刻膠具有光化學(xué)敏感性和防腐蝕的保護(hù)作用，因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細(xì)電路圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是技術(shù)壁壘高，不可替代，難以保存。光刻膠按照應(yīng)用場景不同可分為半導(dǎo)體光刻膠、LCD光刻膠、PCB光刻膠。光刻膠處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的材料環(huán)節(jié)，上游為基礎(chǔ)化工材料和精細(xì)化學(xué)品行業(yè)，中游為光刻膠制備環(huán)節(jié)，下游為半導(dǎo)體制造，最后市場是電子產(chǎn)品應(yīng)用終端。光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核心部分，它對光形式的輻射能，特別是在紫外區(qū)光的輻射能會發(fā)生反應(yīng)；曝光時間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都和感光劑的特性直接相關(guān)。溶劑是光刻膠中容量最大的成分；因?yàn)楦泄鈩┖吞砑觿┒际枪虘B(tài)物質(zhì)，為了將他們均勻地涂覆，要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解，形成液態(tài)物質(zhì)，且使之具有良好的流動性，可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些特性，如可以通過添加染色劑來改善光刻膠，使其發(fā)生反射。光刻膠的品種多種多樣，基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，按技術(shù)可分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型三種。另外，正性和負(fù)性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類，光照后形成可溶物質(zhì)的為正性膠，形成不可溶物質(zhì)的為負(fù)性膠。由于性能較優(yōu)，正性光刻膠應(yīng)用更廣，但由于光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有一定的應(yīng)用市場。光刻膠最為重要的技術(shù)指標(biāo)包括分辨度、對比度、敏感度。優(yōu)秀的光刻膠必須具備高分辨度、高敏感度和高對比度，以保證能將精密的圖像從掩模版轉(zhuǎn)移到硅片上。另外，光刻膠的技術(shù)要求高，所有的技術(shù)指標(biāo)都必須達(dá)標(biāo)，因此除上述三個硬性指標(biāo)外，好的光刻膠還必須具有強(qiáng)蝕刻阻抗性、高純度、低溶解度、高粘附性、小的表面張力、低成本、長壽命周期以及較高的玻璃化轉(zhuǎn)換溫度。光刻膠有以下主要技術(shù)參數(shù)：光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域?qū)掗?，半?dǎo)體光刻膠尤為重要光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大。在光刻膠不斷發(fā)展進(jìn)步的過程中，衍生出非常多的種類，按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，光刻膠可以劃分為半導(dǎo)體用光刻膠、液晶顯示(LCD)用光刻膠、印刷電路板(PCB)用光刻膠、其他用途光刻膠。其中，PCB光刻膠壁壘相對較低，而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)最先進(jìn)水平。半導(dǎo)體光刻膠半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長的不同來分類。常用曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、G線（436nm）、I線（365nm）、深紫外（DUV，包括248nm和193nm）和極紫外（EUV），相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運(yùn)而生。不同的光刻膠中，根據(jù)不同的需求，關(guān)鍵配方成份如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑等也有所不同，使得光刻膠有不同的性能，進(jìn)而能夠滿足相應(yīng)的需求。目前主要的光刻膠有G線光刻膠、I線光刻膠、KrF光刻膠和ArF光刻膠四種，其基本信息如下所示。為滿足更高集成度更精密的集成電路制造，必須采用更短波長的光源，半導(dǎo)體光刻膠也需做出適應(yīng)性改變。隨著IC集成度的提高，世界集成電路的制程工藝水平已由微米級、亞微米級、深亞微米級進(jìn)入到納米級階段。光的波長對圖形精細(xì)化轉(zhuǎn)移有著至關(guān)重要的作用，因?yàn)樗鼤绊懜泄獠牧戏直媛?。波長越短，則分辨率越高。為適應(yīng)集成電路線寬不斷縮小的要求，光刻膠的波長由紫外寬譜向G線(436nm)→I線(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)→EUV（<13.5nm）的方向轉(zhuǎn)移，并通過分辨率增強(qiáng)技術(shù)不斷提升光刻分辨率。I線光刻膠和ArF光刻膠市場仍將保持增長。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場，G線&I線、KrF、ArF&液浸ArF三類光刻膠三分天下，占比分別占24%、22%、42%。其中，ArF/液浸ArF光刻膠主要對應(yīng)目前先進(jìn)IC制程。隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用，光刻膠使用次數(shù)增加，ArF光刻膠市場需求將加速擴(kuò)大。在EUV技術(shù)成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流。未來，隨著功率半導(dǎo)體、傳感器、LED市場的持續(xù)擴(kuò)大，I線市場將持續(xù)增長。而隨著精細(xì)化需求增加，I線光刻膠將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場需求將不斷增加。高端光刻膠亟待國產(chǎn)化。目前市場上正在使用的KrF和ArF光刻膠基本被日本和美國企業(yè)所壟斷，包括陶氏化學(xué)、JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化等企業(yè)。目前KrF和ArF還未在我國實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但、、晶瑞股份等光刻膠龍頭已開始以募資或合作方式加大對以上兩種光刻膠的研發(fā)力度，高端光刻膠投產(chǎn)指日可待。LCD光刻膠在LCD面板制造領(lǐng)域，光刻膠也是極其關(guān)鍵的材料。根據(jù)使用對象不同，可分為RGB膠（彩色膠）、BM膠（黑色膠）、OC膠、PS膠、TFT膠等。光刻工藝包含表面準(zhǔn)備、涂覆光刻膠、前烘、對準(zhǔn)曝光、顯影、堅(jiān)膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、最終檢查等步驟，以實(shí)現(xiàn)圖形復(fù)制轉(zhuǎn)移，制造特定微結(jié)構(gòu)。下面通過彩色LCD面板的顯示原理來說明LCD光刻膠在LCD屏中是如何應(yīng)用的。由于LCD是非主動發(fā)光器件，因此其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源，通過驅(qū)動器與控制器形成灰階顯示，再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍(lán)三基色，依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。然而，彩色濾光片的產(chǎn)生，必須由光刻膠來完成。彩色濾光片是由玻璃基板、黑色矩陣、顏色層、保護(hù)層及ITO導(dǎo)電膜構(gòu)成。其中，顏色層（Color）主要由三原色光刻膠分別經(jīng)涂布、曝光、顯影形成，是彩色濾光片最主要的部分。黑色矩陣（BlackMatrix，簡稱BM）是由黑色光刻膠作用形成的模型，作用為防止漏光。光刻膠質(zhì)量的好壞將直接影響到濾光片的顯色性能。除了彩色光刻膠和黑色光刻膠之外，TFTArray正性光刻膠也非常重要，其主要用于TFT-LCD制程中的Array段，主導(dǎo)TFT設(shè)計(jì)的圖形轉(zhuǎn)移，其解析度、熱穩(wěn)定性、剝膜性、抗蝕刻能力都優(yōu)于負(fù)性光刻膠。目前LCD光刻膠市場基本被日韓公司所占領(lǐng)。平板顯示器領(lǐng)域，TFT-LCD（薄膜晶體管液晶顯示器）是市場的主流，彩色濾光片是TFT-LCD實(shí)現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件，占面板成本的15%左右；彩色光刻膠和黑色光刻膠是制備彩色濾光片的核心材料，占彩色濾光片成本的27%左右。TFT-LCD用光刻膠技術(shù)壁壘較高，市場基本被如JSR、住友化學(xué)、三菱化學(xué)等日韓公司占領(lǐng)，占有率可達(dá)90%。PCB光刻膠PCB光刻膠是PCB制造過程的關(guān)鍵材料。PCB光刻膠主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠和阻焊油墨。其中,干膜光刻膠被廣泛應(yīng)用在PCB制造過程中。干膜光刻膠作用原理如下所述：在加熱加壓的條件下將干膜光刻膠壓合在覆銅板上，通過曝光、顯影將底片(掩膜板或陰圖底版)上的電路圖形復(fù)制到干膜光刻膠上，再利用干膜光刻膠的抗蝕刻性能，對覆銅板進(jìn)行蝕刻加工，最終形成印制電路板的精細(xì)銅線路。PCB光刻膠面臨產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整，需求不斷增大。PCB光刻膠行業(yè)不斷面臨技術(shù)提升和產(chǎn)品升級，濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價格更低廉，正在對干膜光刻膠的部分市場進(jìn)行替代。根據(jù)輻射固化委員會的數(shù)據(jù)，2013年我國濕膜光刻膠的應(yīng)用比例為35%，需求量為3.2萬噸。該委員會進(jìn)一步預(yù)測，我國濕膜光刻膠需求增速將達(dá)到6%，2017年我國濕膜光刻膠的需求量達(dá)到4.1萬噸。根據(jù)招股說明書，PCB光刻膠平均銷售單價約為3.2萬元/噸（不含稅），測算2017年中國濕膜光刻膠市場規(guī)模達(dá)到15億元。中國己成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地，內(nèi)資企業(yè)崛起。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，2015年我國PCB光刻膠產(chǎn)值達(dá)12.6億美元，占全球市場份額高達(dá)70%。根據(jù)招股書，包括容大感光、、、北京達(dá)等在內(nèi)的內(nèi)資企業(yè)占據(jù)國內(nèi)46%左右濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額。2015年我國PCB光刻膠產(chǎn)值全球占比已超過我國PCB產(chǎn)值的全球占比，中國已從完全進(jìn)口PCB光刻膠向PCB光刻膠出口大國的角色轉(zhuǎn)變。目前國內(nèi)PCB光刻膠供給以在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化逐步推進(jìn)。下游需求旺盛，光刻膠市場向好光刻膠市場前景向好，保持較好上升勢頭。在半導(dǎo)體、LCD、PCB等需求持續(xù)擴(kuò)大的拉動下，光刻膠市場將持續(xù)擴(kuò)大。2018年全球光刻膠市場規(guī)模為85億美元，2014-2018年復(fù)合增速約5%。根據(jù)IHS數(shù)據(jù)，未來光刻膠市場規(guī)模復(fù)合增速有望維持5%。疊加光刻膠國產(chǎn)化趨勢，我們認(rèn)為本土光刻膠企業(yè)將充分受益。國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模穩(wěn)定增長，從2011年到2018年復(fù)合增長率達(dá)12%，2018年國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模約為62.3億元。在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，近年來全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模不斷擴(kuò)大，并且隨著5G全面鋪開，物聯(lián)網(wǎng)和手機(jī)對芯片的需求持續(xù)增大，半導(dǎo)體光刻膠市場在未來也會穩(wěn)步上升.LCD面板、PCB市場增長進(jìn)一步拉動LCD和PCB光刻膠需求。在LCD光刻膠領(lǐng)域，隨著全球面板市場穩(wěn)步上升，產(chǎn)能向大陸轉(zhuǎn)移，催生LCD光刻膠需求增長。據(jù)IHS2019年6月發(fā)布的數(shù)據(jù)，2019年全球TFT-LCD和OLED整體平板顯示容量約為3.34億平方米，2023年有望上升至3.75億平方米，其中，TFT-LCD面板市場容量約為3.09億平方米，未來需求將穩(wěn)步增長。而在PCB領(lǐng)域，長年以來，中國PCB產(chǎn)值增速持續(xù)領(lǐng)跑全球，全球市場份額不斷提升。根據(jù)預(yù)測，2015-2020年中國PCB產(chǎn)值年復(fù)合增長率為3.5%，2020年中國PCB產(chǎn)值有望達(dá)到311.0億美元。受益于我國PCB產(chǎn)業(yè)景氣度持續(xù)，我國PCB光刻膠市場規(guī)模將穩(wěn)速增長。日韓美壟斷市場，光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫光刻膠市場遭日韓美公司壟斷光刻膠市場主要由日韓美公司壟斷，大陸企業(yè)市占率不足10%。光刻膠屬于高技術(shù)壁壘材料，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，純度要求高，需要長期積累。由于技術(shù)壁壘高并且要與光刻設(shè)備協(xié)同研發(fā)，光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭競爭的格局。根據(jù)《現(xiàn)代化工》數(shù)據(jù)，目前全球前五大光刻膠廠商占據(jù)全球約87%的市場份額。其中，日本光刻膠公司龍頭領(lǐng)跑，日本JSR、東京應(yīng)化、日本信越、富士電子材料市占率合計(jì)達(dá)72%，大陸企業(yè)市場份額不足10%。半導(dǎo)體光刻膠市場被日本企業(yè)壟斷。目前，在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、羅門哈斯、日本信越、富士材料等頭部廠商壟斷。其中，在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，全球的EUV和ArF光刻膠主要是JSR、陶氏、信越化學(xué)等供應(yīng)商，份額最大的是JSR、信越化學(xué)，TOK也有研發(fā)。LCD光刻膠市場由日韓企業(yè)主導(dǎo)。全球LCD光刻膠市場，RGB和BM光刻膠核心技術(shù)由日韓企業(yè)壟斷。LCD光刻膠的核心技術(shù)為高分子顏料的制備和生產(chǎn)，技術(shù)主要掌握在Ciba等日本顏料廠商手中。其中RGB光刻膠的主要生產(chǎn)商有JSR、住友化學(xué)、三菱化學(xué)、LG化學(xué)等；黑色光刻膠主要生產(chǎn)商有東京應(yīng)化、新日鐵化學(xué)、三菱化學(xué)、CHEIL、ADEKA等，幾家占到全球總產(chǎn)量90%；TFTArray正性光刻膠供應(yīng)商主要有日本東京應(yīng)化

（TOK）、美國羅門哈斯(Rohm&Haas)、德國默克公司、韓國AZ、DONGJINSEMICHEM和臺灣永光化學(xué)；OC光刻膠主要供應(yīng)商有JSR、JNC、LGC、三星、科隆等；PS光刻膠主要有JSR、CMC、三星、LGC、TNP等。我國PCB光刻膠產(chǎn)值占全球市場七成，但多為外資企業(yè)在華建廠。2002年起外企開始在華布局建廠，打破我國PCB光刻膠全部依賴進(jìn)口的局面。PCB光刻膠應(yīng)用初期，市場集中度較高，供應(yīng)商多為日本、臺灣地區(qū)及歐美企業(yè)。2002年以前，我國干膜光刻膠及光成像阻焊油墨完全依賴進(jìn)口，本土供給為零。此后，受益于PCB行業(yè)在中國大陸高速發(fā)展，PCB光刻膠龍頭如臺灣長興化學(xué)、日本旭化成、日本日立化成、美國杜邦等開始瞄準(zhǔn)中國大陸市場，陸續(xù)在內(nèi)地建廠。但是目前國內(nèi)PCB光刻膠供給以在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化推進(jìn)仍在繼續(xù)。產(chǎn)業(yè)地位至關(guān)重要，光刻膠國產(chǎn)化勢在必行。參考2019年7月份日韓貿(mào)易沖突事件，日本在2019年7月1日突然宣布限制向韓國出口包括光刻膠在內(nèi)的半導(dǎo)體材料。這三種原材料很難短時間在其他國家找到替代供應(yīng)商，但同時又是面板、存儲器生產(chǎn)中極其關(guān)鍵的材料，韓國面臨的窘迫處境使人深思，更應(yīng)該激發(fā)我國對光刻膠等關(guān)鍵原材料獨(dú)立自主開發(fā)的重要性的認(rèn)知。光刻膠技術(shù)在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，國產(chǎn)替代勢在必行。國產(chǎn)光刻膠技術(shù)遠(yuǎn)落后于國外我國光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展滯后于下游產(chǎn)業(yè)發(fā)展，與國外差距大。近幾年全球消費(fèi)電子產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、光電產(chǎn)業(yè)向我國轉(zhuǎn)移的趨勢愈加明顯，隨著下游產(chǎn)品PCB、LCD、半導(dǎo)體等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，國內(nèi)市場對于LCD、半導(dǎo)體的需求迅猛增加。但是，我國光刻膠行業(yè)起步時間較晚，應(yīng)用結(jié)構(gòu)較為單一，主要集中于PCB光刻膠。國產(chǎn)光刻膠以PCB光刻膠為主，半導(dǎo)體和LCD光刻膠自給率極低，原材料依賴進(jìn)口。根據(jù)信越官網(wǎng)數(shù)據(jù)，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中，PCB光刻膠占比高達(dá)95%，半導(dǎo)體光刻膠、LCD光刻膠占比都僅有2%。2015年中國光刻膠行業(yè)前五大外資廠商市占率達(dá)89.7%，分別為臺灣長興化學(xué)、日立化成、日本旭化成、美國杜邦、臺灣長春化工。相較之下，中國企業(yè)份額不足10%，半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠都嚴(yán)重依賴進(jìn)口。雖然目前光刻膠的國產(chǎn)化正在加速，但半導(dǎo)體和LCD高端光刻膠與國外有較大差距。并且，國產(chǎn)光刻膠很多原材料也依賴于進(jìn)口。多因素導(dǎo)致我國半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)落后于國外水平半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)差距明顯，造成與國際先進(jìn)水平差距的原因很多。過去由于我國在規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是重生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了最重要的基礎(chǔ)材料、設(shè)備與應(yīng)用研究。相比之下，日本重視向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈縱深發(fā)展，積極研發(fā)光刻膠，全球前10名光刻膠企業(yè)中有7家來自日本，包括日立化成、東京應(yīng)化、三菱化學(xué)、旭化成、住友電木、住友化學(xué)、富士膠片，合占全球市場60%以上份額。光刻膠成分復(fù)雜、制備難度大，自主研發(fā)難度高。光刻膠的研發(fā)關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑、添加劑等，開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多，需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計(jì)和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面調(diào)整，自主研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)難度非常之高。光刻膠質(zhì)量依賴于上游原材料，但高端光刻膠原材料被高度壟斷。光刻膠的上游包括基礎(chǔ)化工材料和精細(xì)化學(xué)品行業(yè)。目前國內(nèi)廠家更多掌握的是低端光刻膠，如PCB光刻膠，但193nm（ArF）等高端光刻膠所需的精細(xì)化學(xué)品短時間內(nèi)不能自給自足，例如樹脂。由于高端光刻膠所需的原材料仍被國際廠商高度壟斷，我國只能進(jìn)口，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)在啟動ArF光刻膠項(xiàng)目時，仍需要承受原材料被封鎖的風(fēng)險(xiǎn)。分析發(fā)現(xiàn)，國際光刻膠龍頭的商業(yè)模式都是在發(fā)展光刻膠產(chǎn)品的同時，向上游原材料領(lǐng)域拓展，已基本能做到光刻膠生產(chǎn)自給自足，其最終目的是通過覆蓋更全面的產(chǎn)業(yè)鏈降低被他國封鎖和制裁的風(fēng)險(xiǎn)。目前國內(nèi)廠商也在考慮更加周密謹(jǐn)慎的商業(yè)模式，例如選擇與合作伙伴同時開發(fā)關(guān)鍵原材料以確保ArF項(xiàng)目的原材料供應(yīng)不至于斷裂。下游廠商對光刻膠選擇謹(jǐn)慎保守，后發(fā)廠商切入供應(yīng)鏈有一定難度。光刻膠壁壘高并且對后續(xù)質(zhì)量保障要求很高，雖然在集成電路制造中光刻成本不高，但其耗費(fèi)時間可長達(dá)整個制造過程的40%-50%，足見光刻的技術(shù)難度以及對后續(xù)質(zhì)量保障的重要程度，這導(dǎo)致下游廠商在使用光刻膠時非常謹(jǐn)慎。考慮到光刻膠的質(zhì)量不好會導(dǎo)致后續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量被嚴(yán)重影響，即使對高端光刻膠有著高需求，客戶也更愿意選擇高質(zhì)量低風(fēng)險(xiǎn)的外商而不愿切換為新興的國產(chǎn)品牌。即使切換，由于下游廠商對光刻膠驗(yàn)證周期長、過程不確定性大，一經(jīng)合作成功，通常將不再輕易更換新廠家，這極可能造成光刻膠市場先行者為大，后來者很難切入供應(yīng)鏈的情況。因此，光刻膠國產(chǎn)替代面臨外憂內(nèi)患的局面，即國產(chǎn)廠家對外需要對抗實(shí)力強(qiáng)勁的外商，對內(nèi)要應(yīng)對殘酷的市場競爭。國產(chǎn)光刻膠雖有突破，但離穩(wěn)定商用仍有距離。我國化工原料品種齊全，可為光刻膠產(chǎn)業(yè)提供充足和價格低廉的基礎(chǔ)原料，但由于資金和技術(shù)差距，光刻膠原料如引發(fā)劑、增感樹脂等被外資壟斷。近年來，盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破，但國產(chǎn)光刻膠距離商用仍有很長的路要走。目前，國外阻抗已達(dá)到15次方以上，而國內(nèi)企業(yè)只能做到10次方，難以滿足客戶的產(chǎn)品要求。即使有的產(chǎn)品工藝達(dá)標(biāo)了，批次穩(wěn)定性也不好。光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程加速國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)尚不成熟，但已奮起直追。國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)商主要生產(chǎn)PCB光刻膠，半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠生產(chǎn)規(guī)模相對較小。我國光刻膠生產(chǎn)企業(yè)包括：蘇州瑞紅、北京科華、濰坊星泰克、、容大感光、、、等。其中，北京科華承擔(dān)了KrF(248nm)光刻膠產(chǎn)業(yè)化課題，目前已完成年產(chǎn)能10噸248nmKrF光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)，193nmArF干法光刻膠中試產(chǎn)品也已完成在國內(nèi)一流集成電路制造企業(yè)的測試。南大光電已設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前南大廣電的第一條ArF產(chǎn)線已完成安裝，正處于調(diào)試階段。我國素來大力支持半導(dǎo)體發(fā)展，戰(zhàn)略規(guī)劃和財(cái)政扶持文件發(fā)布頻繁。為了應(yīng)對中美半導(dǎo)體爭端，扶持國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，從2000年夏天發(fā)布的《18號文件》（又稱《鼓勵軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》）開始，國家就通過發(fā)布各種政策來支持國內(nèi)廠商發(fā)展。這些政策通過減稅、補(bǔ)貼等方式幫助國產(chǎn)廠商在與美日韓臺廠商的競爭中獲得了部分價格優(yōu)勢。從2016年起，相關(guān)半導(dǎo)體扶持政策更是密集出臺。在光刻膠領(lǐng)域，政策紅利同樣是巨大的，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)錯綜復(fù)雜，環(huán)環(huán)相扣，國產(chǎn)廠商也在可承受范圍內(nèi)試圖擴(kuò)大對國產(chǎn)光刻膠的使用程度?！吨袊圃?025》中提出要穩(wěn)步加強(qiáng)對集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，而《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》中更是明確提出了推動集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的四大任務(wù)，其中之一就是突破集成電路關(guān)鍵裝備和材料，以減少海外廠商對行業(yè)發(fā)展的壟斷，增強(qiáng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體配套能力。其中，光刻膠和光刻機(jī)是集成電路發(fā)展戰(zhàn)略中不可或缺的重要配套。光刻膠領(lǐng)域重點(diǎn)海外公司光刻膠海外五龍頭具有豐富的電子材料產(chǎn)品線，全產(chǎn)業(yè)覆蓋能力至關(guān)重要。五家頭部公司壟斷光刻膠約90%市場份額，使得光刻膠市場頭部集中化明顯。五家頭部公司重視將光刻膠上游精細(xì)化學(xué)品納入業(yè)務(wù)范圍，以減少原材料來源被封鎖的風(fēng)險(xiǎn)。由于日本掌握了光刻膠開發(fā)技術(shù)，而高技術(shù)壁壘使得這種情況在短時間內(nèi)很難發(fā)生逆轉(zhuǎn)，因此主要市場份額掌握在日本手中。分析發(fā)現(xiàn)，五家公司在光刻膠領(lǐng)域各有優(yōu)勢，但其中有四家并非一開始就以光刻膠為目標(biāo)產(chǎn)品，且都有非常豐富而分散的產(chǎn)品線。僅東京應(yīng)化一家以光刻膠技術(shù)為戰(zhàn)略切入點(diǎn)獲取巨大市場份額，但此后該公司同樣開始發(fā)展豐富的電子產(chǎn)品線，從中可窺見這些電子材料巨頭的經(jīng)營模式都是試圖成為有能力覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)，以分散微電子材料生產(chǎn)的風(fēng)險(xiǎn)。合成橡膠——全球第一的光刻膠龍頭JSR株式會社為全球第一光刻膠生產(chǎn)廠商，占據(jù)全球光刻膠市場28%的份額，其光刻膠產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體及顯示行業(yè)。該公司成立于1957年12月，在日本率先開發(fā)出合成橡膠。自1969年轉(zhuǎn)變?yōu)樗饺斯疽詠?，JSR已將其石油化工業(yè)務(wù)從合成橡膠擴(kuò)展到包括乳液、塑料和其他材料在內(nèi)的更廣的范圍，并增加了半導(dǎo)體、平板顯示器等業(yè)務(wù)領(lǐng)域。在成立的第40年時將公司名稱更改為JSRCorporation。截至2018年12月31日J(rèn)SR株式營業(yè)收入達(dá)到302億元，實(shí)現(xiàn)的凈利潤為19億元。JSR緊跟半導(dǎo)體制程發(fā)展，提前布局EUV光刻膠。EUV，全稱是ExtremeUltravioletLithography，主要利用波長為10-14nm的極紫外光源實(shí)現(xiàn)光刻圖案化材料成為EUV光阻材料，具體為采用14nm光源的軟X射線。由于目前JSR公司已經(jīng)實(shí)現(xiàn)ArF和KrF光刻膠的量產(chǎn)并已經(jīng)進(jìn)入相關(guān)先進(jìn)制程晶圓產(chǎn)線的范圍，因此，對于未來增量市場，JSR公司主要布局EUV光刻膠材料在10nm及以下制程的應(yīng)用，特別是7nm制程的量產(chǎn)，此部分新增市場成為JSR關(guān)注的重點(diǎn)。目前由于全球范圍內(nèi)EUV光刻膠均處于技術(shù)儲備和升級階段，因此前沿的EUV產(chǎn)品，高端的制程技術(shù)成為此領(lǐng)域的核心競爭優(yōu)勢。JSR產(chǎn)品中展示了當(dāng)光阻厚度為25nm，L/S窗口為13nm，線寬粗糙度（linewidthroughness,LWR）為4.5nm的EUV光刻膠產(chǎn)品曝光后效果，采用的光源為NXE3300B。JSR成立光刻膠制備和認(rèn)證中心為EUV光刻膠制備做好了準(zhǔn)備。2017年3月份，由JSR株式會社和IMEC

（IntelligentMachineryExpertControl）微電子研究所共同成立的EUV光刻膠制備和認(rèn)證中心（EUVRMQC）在比利時成立，可以為半導(dǎo)體行業(yè)制造和控制EUV光刻膠。根據(jù)JSR披露信息，在14nm和16nm制程中還有部分剩余的市場份額，JSR目標(biāo)是確保下一代10nm及以下制程中EUV光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，同時JSR公司尋求成為對于7nm以下的EUV光刻膠第一個實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的供應(yīng)商。東京應(yīng)化——產(chǎn)品豐富的光刻膠領(lǐng)導(dǎo)者東京應(yīng)化（TOK）歷史悠久，在全球光刻膠領(lǐng)域具有領(lǐng)導(dǎo)地位。東京應(yīng)化株式會社1940年由東京應(yīng)化研究所改組而來，發(fā)展至今已有80年，企業(yè)歷史悠久。東京應(yīng)化很早便進(jìn)入光刻膠市場，1968年，東京應(yīng)化便研發(fā)出半導(dǎo)體用正膠，隨后在1972年又研發(fā)出半導(dǎo)體用負(fù)膠。同時東京應(yīng)化憑借持續(xù)的技術(shù)突破逐步發(fā)展成為全球光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)之一。2006年東京應(yīng)化率先展開ArF浸沒光刻膠的研發(fā)，2019年東京應(yīng)化同樣是引領(lǐng)10nm以下制程工藝的極紫外光（EUV）光刻膠研發(fā)的企業(yè)之一。目前東京應(yīng)化在全球光刻膠市場中占有21%的份額，僅次于日本合成橡膠（JSR）。在光刻膠細(xì)分市場中，東京應(yīng)化是全球最大的i/g型光刻膠供應(yīng)商，占有25.9%的市場份額；同時也是最大的KrF型光刻膠供應(yīng)商，占有34%的市場份額；是全球第三大的ArF型光刻膠供應(yīng)商，占有20.3%的市場份額，僅次于日本合成橡膠和信越化工。東京應(yīng)化依靠先進(jìn)的產(chǎn)品及豐富的產(chǎn)品線構(gòu)筑競爭壁壘。經(jīng)過多年的技術(shù)積累和技術(shù)突破，東京應(yīng)化的先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品在歷次技術(shù)迭代中均扮演著行業(yè)引領(lǐng)者的角色，其產(chǎn)品在生產(chǎn)品質(zhì)和技術(shù)水平上均處于行業(yè)領(lǐng)先地位，具有很強(qiáng)的競爭力。同時東京應(yīng)化注重寬領(lǐng)域布局，形成豐富的材料及設(shè)備產(chǎn)品線，積極為客戶提供完整的產(chǎn)品及服務(wù)。光刻膠產(chǎn)品涵蓋了包括i/g線光刻膠、KrF/ArF光刻膠、EUV光刻膠、電子束光刻膠在內(nèi)的從中低端到高端的所有應(yīng)用類型，同時東京應(yīng)化還提供用于光刻的其他的輔助性材料，如層間絕緣膜、擴(kuò)散劑、液體顯影劑、反提取劑等。羅門哈斯——世界最大的精細(xì)化學(xué)品制造商之一美國羅門哈斯公司（Rohm&Haas）成立于1909年，其總公司設(shè)于美國賓州費(fèi)城，是世界上最大的精細(xì)化學(xué)品制造商之一。羅門哈斯公司是一家研究、生產(chǎn)、經(jīng)營特殊材料（精細(xì)化工和電子材料）且年銷售額達(dá)到80多億美元的跨國公司，在世界精細(xì)化工業(yè)界居領(lǐng)先地位。該公司的技術(shù)被廣泛應(yīng)用于建筑涂料和工業(yè)涂料、粘合劑和密封膠、建筑材料、個人護(hù)理和家用及工業(yè)用化學(xué)品、計(jì)算機(jī)和電子部件、紡織和印染、皮革、紙品、塑料、醫(yī)藥、工業(yè)水處理及鹽類中。通過收購羅門哈斯，整合了雙方的優(yōu)勢。2009年4月1日，陶氏化學(xué)公司完成對羅門哈斯公司的收購，同年的06月3日，陶氏化學(xué)宣布成立涂料材料業(yè)務(wù)部，成為一家全球領(lǐng)先的特殊化學(xué)品和高新材料企業(yè)。涂料材料業(yè)務(wù)部的成立，充分整合了陶氏化學(xué)原有相關(guān)業(yè)務(wù)和羅門哈斯的專長，進(jìn)一步加強(qiáng)陶氏化學(xué)在精細(xì)化工領(lǐng)域的優(yōu)勢。完成對羅門哈斯的收購是陶氏化學(xué)在功能化學(xué)品和特殊化學(xué)品業(yè)務(wù)上的一個重要里程碑，雙方不僅實(shí)現(xiàn)在技術(shù)、研發(fā)領(lǐng)域的優(yōu)勢互補(bǔ)，并且充分整合市場渠道和地域優(yōu)勢。新成立的陶氏高新材料事業(yè)部，營業(yè)額將達(dá)到140億美元。同時可能實(shí)現(xiàn)每年約30億美元的增長。陶氏高新材料事業(yè)部的業(yè)務(wù)以前羅門哈斯為主，業(yè)務(wù)范圍包括：特殊材料、粘合劑和功能聚合物，涂料、電子材料以及建筑材料。羅門哈斯是全球第三大光刻膠生產(chǎn)商。在光刻膠領(lǐng)域，羅門哈斯占據(jù)了全球15%的光刻膠市場份額，是排在日本合成橡膠和東京應(yīng)化之后的全球第三大光刻膠生產(chǎn)商。羅門哈斯i/g線光刻膠業(yè)務(wù)較強(qiáng)，市場份額達(dá)18.4%，位于行業(yè)第二。KrF/ArF光刻膠市場占有率相對較低，分別為11%和4.3%。信越化學(xué)——實(shí)力雄厚的綜合性化學(xué)材料公司信越化學(xué)（Shin-EtsuChemical）是一家歷史悠久實(shí)力雄厚的化學(xué)品公司，在多領(lǐng)域均處于國際龍頭地位。信越化學(xué)1926年在日本長野成立，前身為信越氮肥料株式會社，以化學(xué)肥料起家。二戰(zhàn)結(jié)束后，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起，信越化學(xué)在日本政府的支持下大力投入有機(jī)硅產(chǎn)業(yè)的研發(fā)。1970年至1986年，日本有機(jī)硅產(chǎn)量擴(kuò)大了10倍，達(dá)到6萬噸，實(shí)現(xiàn)了從有機(jī)硅進(jìn)口國到出口國的轉(zhuǎn)換，成為日本經(jīng)濟(jì)騰飛的重要一環(huán)。在此背景下，信越化學(xué)乘機(jī)快速發(fā)展，奠定了日后成為全球硅晶圓龍頭企業(yè)的基礎(chǔ)?，F(xiàn)在的信越化學(xué)有著豐富且廣泛的產(chǎn)品布局，且在多領(lǐng)域均處于世界領(lǐng)先地位。信越化學(xué)的主營業(yè)務(wù)有PVC&氯堿、半導(dǎo)體單晶硅、有機(jī)硅、電子&功能化學(xué)品等。2018年，信越化學(xué)在全球50強(qiáng)化學(xué)公司中排第22位，PVC市場全球第一，硅晶圓全球第一，有機(jī)硅全球第四，光刻膠全球第四，光掩膜全球第一，信息素全球第一，纖維素全球第二。2019財(cái)年信越化學(xué)營收15940億日元，經(jīng)常性利潤達(dá)4153億日元，約合249億人民幣。信越化學(xué)注重研發(fā)與需求的結(jié)合，不斷引領(lǐng)技術(shù)進(jìn)步。信越化學(xué)按照應(yīng)用主題劃分研發(fā)部門，有半導(dǎo)體白河研究所、聚氯乙烯高分析材料研究所、有機(jī)硅電子材料技術(shù)研究所、磁性材料研究所、新功能材料研究所等各類尖端材料研究機(jī)構(gòu)。公司研發(fā)始終以市場需求為導(dǎo)向，緊密聯(lián)系制造部門，以實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)化為研發(fā)目標(biāo)。并且為提高效率，信越化學(xué)的研究部門全都位于工廠內(nèi)。2001年信越化學(xué)在全球率先實(shí)現(xiàn)12寸硅晶圓的量產(chǎn)，成為引領(lǐng)硅晶圓行業(yè)發(fā)展的龍頭企業(yè)。目前信越化學(xué)的單晶硅純度可以達(dá)到11N（99.999999999%）且具有高度均勻的結(jié)晶構(gòu)造。富士電子材料——膠片巨頭成功轉(zhuǎn)型造就行業(yè)典范進(jìn)入21世紀(jì)，膠片巨頭富士膠片（Fujifilm）成功轉(zhuǎn)型，為企業(yè)帶來新的發(fā)展活力。富士膠片成立于1934年，在上世紀(jì)的膠片時代，富士憑借其優(yōu)質(zhì)的照相機(jī)膠卷及相關(guān)沖印化學(xué)品長期處于行業(yè)巨頭地位。然而膠片行業(yè)剛進(jìn)入21世紀(jì)便受到了來自數(shù)碼相機(jī)的強(qiáng)烈沖擊，市場空間以每年20%的速度迅速萎縮。面對技術(shù)迭代的時代浪潮，富士膠片積極探索轉(zhuǎn)型路徑，基于在膠片業(yè)務(wù)中積累的光學(xué)、化學(xué)及信息技術(shù)等方面的經(jīng)驗(yàn)，成功發(fā)展出了包括影像事業(yè)、醫(yī)療健康及高性能材料事業(yè)、文件處理事業(yè)三大事業(yè)領(lǐng)域及旗下的數(shù)十個業(yè)務(wù)群組，實(shí)現(xiàn)了盈利能力的穩(wěn)定增長，進(jìn)入了新的發(fā)展階段。目前醫(yī)療健康及高性能材料和文件處理已經(jīng)取代膠片影像業(yè)務(wù)成為富士膠片最大的業(yè)務(wù)板塊。2018財(cái)年，富士膠片營收24315億日元，其中健康醫(yī)療及高性能材料貢獻(xiàn)10390億日元，占到43%，文件處理業(yè)務(wù)貢獻(xiàn)10056億日元，占到41%，傳統(tǒng)的影像業(yè)務(wù)只貢獻(xiàn)了3869億日元，僅占到16%。電子材料是富士膠片的高性能材料業(yè)務(wù)的重要部分，主要生產(chǎn)光刻膠所必須的光產(chǎn)酸劑，能夠提供從高級到通用級各種品質(zhì)的產(chǎn)品，同時可以提供定制化的產(chǎn)品服務(wù)。富士膠片光刻膠產(chǎn)品涵蓋負(fù)膠、i線膠、KrF膠、ArF膠、電子束膠等。2018財(cái)年，富士膠片高性能材料板塊營收2780億日元，約合182億人民幣，占富士膠片整理業(yè)務(wù)的11%。光刻膠領(lǐng)域重點(diǎn)本土公司光刻膠是目前半導(dǎo)體領(lǐng)域中技術(shù)壁壘最高的一種上游材料，因?yàn)槠浜诵募夹g(shù)很難短時間內(nèi)掌握，光刻膠企業(yè)往往需要長時間的研發(fā)積累基礎(chǔ)。參考2019年7月份日韓貿(mào)易沖突事件，日本在2019年7月1日突然宣布限制向韓國出口包括光刻膠在內(nèi)的半導(dǎo)體材料。這三種原材料很難短時間在其他國家找到替代供應(yīng)商，但同時又是面板和存儲器生產(chǎn)中極其關(guān)鍵的材料，韓國面臨的窘迫處境使人深思，更應(yīng)該激發(fā)我國對光刻膠等關(guān)鍵原材料獨(dú)立自主開發(fā)的重要性的認(rèn)知，光刻膠的國產(chǎn)替代勢在必行。國內(nèi)光刻膠龍頭公司業(yè)務(wù)多樣，光刻膠方向布局多年，已切入中高端光刻膠研究。國內(nèi)光刻膠競爭格局未定，龍頭廠商們多布局光刻膠多年且具有多種多樣的產(chǎn)品線和投產(chǎn)領(lǐng)域。各家企業(yè)的業(yè)務(wù)模式各有特點(diǎn)，有的在半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)嵙π酆窈笸ㄟ^收購而切入高端光刻膠領(lǐng)域，如；有的主營PCB油墨印刷業(yè)務(wù)，受益于PCB擴(kuò)產(chǎn)而帶動光刻膠的研究發(fā)展，如和；有的專業(yè)制造光刻膠上游的精細(xì)化學(xué)品和超純制劑，同時深耕光刻膠多年，已成為中端光刻膠龍頭，如晶瑞股份；有的業(yè)務(wù)范圍和產(chǎn)品線覆蓋產(chǎn)業(yè)鏈多領(lǐng)域，目前業(yè)已同步推動ArF光刻膠研發(fā)投產(chǎn)項(xiàng)目。我們認(rèn)為雖然模式多樣，但由于ArF和KrF是未來光刻膠技術(shù)發(fā)展方向，所以早期研發(fā)投入大，已在高端光刻膠領(lǐng)域獲得認(rèn)證或研發(fā)投產(chǎn)的公司將充分受益?！e極布局光刻膠的半導(dǎo)體材料龍頭是一家產(chǎn)品線豐富的材料公司，電子半導(dǎo)體材料是其主要發(fā)展方向之一。通過收購等方式，雅克科技已涉足電子特種氣體和IC材料等領(lǐng)域。雅克科技參股控股多家半導(dǎo)體晶圓制造、新材料、化學(xué)品生產(chǎn)公司，其業(yè)務(wù)基本覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上中下游。通過不斷并購和參股其他公司獲取先進(jìn)光刻膠技術(shù)。雅克科技于2016年底收購韓國UPChemical96.28%股份，從前驅(qū)體開始對半導(dǎo)體材料布局，并得以與UPChemical的核心客戶三星和SK海力士合作。據(jù)公司公告披露，2019年公司參股10%科特美信材料，間接參與韓國COTEMCo.,Ltd的經(jīng)營管理，切入TFT光刻膠板塊。2020年2月，雅克子公司斯洋國際斥資3.35億元收購LG化學(xué)彩膠業(yè)務(wù)，獲取彩色光刻膠關(guān)鍵技術(shù)，填補(bǔ)國內(nèi)技術(shù)空白。至此雅克科技已掌握彩色光刻膠技術(shù)和TFT光刻膠技術(shù)，成為面板用光刻膠主要供應(yīng)商。在市場波動較大的情況下，雅克營收和利潤保持快速增長。2018年實(shí)現(xiàn)營收15.5億元，同比增長36.58%，歸母凈利潤1.3億元，同比增長284.9%。根據(jù)2020年2月29日公布的2019年度業(yè)績快報(bào)，2019年實(shí)現(xiàn)營收18.4億元，同比增長18.62%，歸母凈利潤2.5億元，同比增長90.64%。2020年3月12日，披露2020年第一季度業(yè)績報(bào)告，最新季度歸母凈利潤約為7000萬元~8500萬元，同比增長約146.97%~190.55%。我們預(yù)測隨著半導(dǎo)體材料占產(chǎn)品營收份額越來越大，多品類光刻膠的下游需求旺盛將會使雅克科技營收持續(xù)穩(wěn)步增長?！劢笰rF光刻膠的新進(jìn)入者是我國MO源龍頭企業(yè)，現(xiàn)已延伸業(yè)務(wù)范圍至電子特氣和光刻膠研發(fā)。南大光電是從事高純金屬有機(jī)化合物（MO源）的研究、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)。南大光電是全球主要的MO源生產(chǎn)商，其在全球的市場占有率超過了30%。公司在MO源的合成制備、純化技術(shù)、分析檢測、封裝容器等方面已全面達(dá)到國際先進(jìn)水平，主要產(chǎn)品有三甲基鎵、三甲基銦、三乙基鎵、三甲基鋁等。南大光電產(chǎn)品的技術(shù)水平已全面達(dá)到國際先進(jìn)水平，產(chǎn)品純度≥6N，可以實(shí)現(xiàn)MO源產(chǎn)品的全系列配套供應(yīng)。除了MO源領(lǐng)域，南大光電通過設(shè)立子公司全椒南大光電材料有限公司新增電子特氣業(yè)務(wù)，生產(chǎn)作為半導(dǎo)體芯片制備中主要支撐材料的高純磷烷、砷烷等特種氣體，在IC行業(yè)已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品快速替代進(jìn)口，成為公司新的利潤增長點(diǎn)。通過參股北京科華進(jìn)軍光刻膠領(lǐng)域。由于LED行業(yè)呈現(xiàn)下滑趨勢，為迎接國產(chǎn)半導(dǎo)體的上升勢頭，南大光電通過參股北京科材料有限公司，迅速切入光刻膠領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)在集成電路相關(guān)材料領(lǐng)域的快速布局。在2017年時，南大光電獲得國家02專項(xiàng)“193nm光刻膠及配套材料啟動項(xiàng)目”的立項(xiàng)；2018年成立寧波南大光電材料有限公司，推進(jìn)“ArF193nm光刻研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”，并獲得國家02專項(xiàng)立項(xiàng)，收到財(cái)政撥款約1.3億元；在2018年年底，考慮到自身發(fā)展特點(diǎn)和未來的發(fā)展需求，南大光電退出了北京科華的股權(quán)，通過投資6.55億元來建設(shè)193nm的ArF干式和浸沒式的光刻膠項(xiàng)目。目前ArF光刻膠是使用量最大的高端光刻膠，市場被少數(shù)國外廠商壟斷。南大光電若能在ArF光刻膠方面實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，將填補(bǔ)國內(nèi)技術(shù)空白，在光刻膠國產(chǎn)化道路上邁出重要一步，并實(shí)現(xiàn)十分可觀的收益。的營收于2017年到2019年呈現(xiàn)較大增速，主要得益于其前期在電子特氣領(lǐng)域的布局，從2017年開始電子特氣逐漸形成新的利潤增長點(diǎn)，而MO源步入穩(wěn)定期。南大光電2019年創(chuàng)造營收31629.47萬元，相較2018年22817萬元同比上漲38.62%。2019年歸母凈利潤5329.67萬元，相較2018年5124.23萬元同比上漲4.01%。我們預(yù)測隨著電子特氣和光刻膠市場需求的不斷擴(kuò)張，南大光電未來的營收將迎來大幅增長?！就罷FT-LCD光刻膠龍頭是一家致力于實(shí)現(xiàn)新材料自主化的優(yōu)秀材料公司。其發(fā)展從光通信領(lǐng)域紫外固化材料的自主研發(fā)生產(chǎn)開始，至今以逐步拓展至集成電路制造、屏幕顯示和醫(yī)藥中間體領(lǐng)域。從2017年開始，電子化學(xué)材料成為其核心產(chǎn)品之一，其中包括用于TFT-LCD液晶面板的正性光刻膠和其他配套新材料。不斷深入推進(jìn)半導(dǎo)體材料布局，5000t/aTFT-LCD光刻膠項(xiàng)目于2019年順利投產(chǎn)。飛凱材料以紫外固化材料為核心，開展合成樹脂合成，積極拓展光刻膠業(yè)務(wù)，其戰(zhàn)略是在穩(wěn)固當(dāng)前業(yè)務(wù)已有市場份額的情況下不斷豐富產(chǎn)品線，尋求新的業(yè)務(wù)增長點(diǎn)。隨著“3500t/a紫外固化光刻膠項(xiàng)目”建設(shè)完畢并投入使用，5000t/aTFT-LCD光刻膠項(xiàng)目于2019年順利投產(chǎn)，1000t/a光刻膠配套產(chǎn)品（顯影液、剝離液、蝕刻液、清洗液）項(xiàng)目和5000噸/年光刻膠擴(kuò)建項(xiàng)目建設(shè)完畢，其TFT光刻膠及其原材料項(xiàng)目將促進(jìn)TFT-LCD新的增長動能。注重研發(fā)，2019年累計(jì)研發(fā)支出達(dá)到12164.3萬元，同比增長6.71%。飛凱材料以技術(shù)為重，不斷增加研發(fā)投入，根據(jù)2019年財(cái)報(bào)，其已擁有320個專利，專利數(shù)量位居行業(yè)首位，遠(yuǎn)超行業(yè)平均。公司研發(fā)人員2019年度已達(dá)418名，占據(jù)總?cè)藬?shù)的25.3%。目前飛凱材料正在自主研發(fā)IC用BARC材料，用于增強(qiáng)光刻膠分辨率。其TFT正型光刻膠已進(jìn)入客戶測試階段，在高端濕膜光刻膠領(lǐng)域飛凱材料已通過下游廠商認(rèn)證。受益大量技術(shù)積累，營收從2017年開始迎來大幅度增長。自2017年?duì)I收同比增長110.26%以后，2018年創(chuàng)造營收14.5億元，同比上漲76.83%，歸母凈利潤2.8億元，同比增長250%。2019年創(chuàng)造營收15.1億元，同比增長4.14%，歸母凈利潤2.6億元，同比降低7.14%，主要原因?yàn)檠邪l(fā)成本的升高以及宏觀市場的影響。公司毛利率穩(wěn)定保持在40%左右，遠(yuǎn)高于行業(yè)中位值。從飛凱材料各產(chǎn)品毛利分布情況看，從2017年電子化學(xué)品成為其主要營收來源，該項(xiàng)產(chǎn)品創(chuàng)造了超過一半的營收貢獻(xiàn)，且增加趨勢明顯?？紤]到公司對OLED材料掌握自主專利技術(shù)，隨著公司來自O(shè)LED材料以及面板需求的不斷擴(kuò)大，我們預(yù)測飛凱材料未來盈利將持續(xù)增加?！獓@光刻膠配套產(chǎn)品拓展業(yè)務(wù)線專業(yè)從事各類光刻膠專用電子化學(xué)品的研發(fā)生產(chǎn)，主營業(yè)務(wù)收入來自光刻膠專用化學(xué)品，具體分為光引發(fā)劑和光刻樹脂兩大類。從應(yīng)用來看，PCB、液晶顯示器以及半導(dǎo)體光刻膠的光引發(fā)劑該公司都有涉及，且具備行業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的低聚物樹脂合成技術(shù)。強(qiáng)力新材PCB光刻膠專用化學(xué)品受益PCB產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，市場份額穩(wěn)步提升，LCD光刻膠專用化學(xué)品主要包括彩色光刻膠和黑色光刻膠的關(guān)鍵材料肟酯類系列高感度光引發(fā)劑，此類光引發(fā)劑體系系列產(chǎn)品獲多項(xiàng)專利，打破相關(guān)領(lǐng)域壟斷。此外，公司