

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文檔簡(jiǎn)介
第二章晶向檢測(cè)之一第一頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一本章內(nèi)容一、晶向檢測(cè)二、晶體缺陷檢測(cè)三、光學(xué)顯微鏡技術(shù)四、電子顯微鏡技術(shù)第二頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一一、晶向檢測(cè)第三頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第四頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一1、硅單晶的特點(diǎn)硅單晶晶體結(jié)構(gòu)a=5.43?
硅單晶晶體結(jié)構(gòu):兩套簡(jiǎn)單面心立方格子套構(gòu)形成的金剛石結(jié)構(gòu)。第五頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一是垂直于晶面的矢量。通常用密勒指數(shù)(h,k,l)表示。
[hkl]晶向和<hkl>晶面垂直
(a)[100](b)[110](c)[111]2、晶向第六頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第七頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一硅單晶的不同晶面結(jié)構(gòu)及其特點(diǎn){110}第八頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一二、晶向檢測(cè)的常用方法
外貌觀察法
光點(diǎn)定向法(工業(yè)生產(chǎn)中常用方法)
X射線衍射法(工業(yè)生產(chǎn)中常用方法)第九頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一(一)光點(diǎn)定向測(cè)試1、光點(diǎn)定向測(cè)試儀原理結(jié)構(gòu)圖第十頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一<100>
<110>
<111>
硅單晶的光學(xué)定向圖形2、樣品處理——腐蝕坑的顯示
第十一頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一硅單晶
<111>的光學(xué)定向圖形
晶向偏離度——晶體的軸與晶體方向不吻合時(shí),其偏離的角度稱(chēng)為晶向偏離度。晶錠端面與被測(cè)晶向偏離,腐蝕坑對(duì)稱(chēng)性就會(huì)偏離,利用這種特性可以確定晶向偏離度。
3、晶向偏離度的測(cè)試
第十二頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一此型儀器設(shè)有兩個(gè)工作臺(tái),可同時(shí)進(jìn)行操作,右側(cè)工作臺(tái)帶有托板,可對(duì)圓柱形晶體進(jìn)行端面與柱面定向,也可以對(duì)晶片的端面進(jìn)行定向,左側(cè)工作臺(tái)可對(duì)晶片的端面進(jìn)行定向,儀器精度為±30″最小讀數(shù)為1″,數(shù)字顯示。
4、光點(diǎn)定向的應(yīng)用
第十三頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一該型定向儀儀專(zhuān)門(mén)用于硅單晶錠的粘結(jié),是和多線切割機(jī)配套使用的半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用設(shè)備。第十四頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一(三)X射線衍射法
X射線的波長(zhǎng)范圍一般為10-2~102?,有強(qiáng)的穿透能力,原子和分子的距離(1~10?)正好在X射線的波長(zhǎng)范圍之內(nèi),X射線對(duì)物質(zhì)的散射和衍射能傳遞豐富的微觀結(jié)構(gòu)信息,因此X射線衍射是研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的最主要的方法。當(dāng)用波長(zhǎng)為λ的單色x射線照射晶體時(shí),在X射線作用下晶體的若干層原子面會(huì)發(fā)生布喇格定律衍射,應(yīng)用X射線在晶體中的衍射現(xiàn)象,可以得到晶向、晶向偏離度、晶體的原子面間距、晶體表面缺陷等許多晶體結(jié)構(gòu)信息。使用X射線衍射儀確定晶向及偏離度,具有快速、精確的特點(diǎn)。
1、X射線簡(jiǎn)介
第十五頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第十六頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第十七頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一衍射(Diffraction)又稱(chēng)為散射,波遇到障礙物或小孔后通過(guò)散射繼續(xù)傳播的現(xiàn)象。衍射現(xiàn)象是波的特有現(xiàn)象,一切波都會(huì)發(fā)生衍射現(xiàn)象。衍射時(shí)產(chǎn)生的明暗條紋或光環(huán),叫衍射圖樣。產(chǎn)生衍射的條件是:當(dāng)孔或障礙物尺寸與光的波長(zhǎng)相同數(shù)量級(jí),甚至比波長(zhǎng)還要小時(shí),產(chǎn)生衍射。因此光波長(zhǎng)越小,越容易產(chǎn)生衍射現(xiàn)象。晶體可以作為X射線的空間衍射光柵,即當(dāng)一束X射線通過(guò)晶體時(shí)將會(huì)發(fā)生衍射;衍射波疊加的結(jié)果使射線的強(qiáng)度在某些方向上增強(qiáng)、而在其它方向上減弱;分析在照相底片上獲得的衍射花樣,便可確定晶體結(jié)構(gòu)。1913年英國(guó)物理學(xué)家布拉格父子(W.H.Bragg,W.L.Bragg)在勞厄發(fā)現(xiàn)的基礎(chǔ)上,不僅成功地測(cè)定了NaCl、KCl等的晶體結(jié)構(gòu),并提出了作為晶體衍射基礎(chǔ)的著名公式——布拉格定律:
2、X射線衍射及布喇格定律
第十八頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第十九頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一當(dāng)相鄰原子面散射后的光程差(2dsinθ)等于入射光波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí),即
相鄰原子面散射波干涉加強(qiáng),產(chǎn)生明顯的衍射光束。布拉格定律衍射掠射角X射線入射X射線被晶格原子散射后出射上原子層下原子層第二十一頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一
對(duì)于半導(dǎo)體硅,它具有金剛石結(jié)構(gòu),其晶格常數(shù)a=5.43073?,其面間距與一些主要的低指數(shù)晶面(h、k、l)的關(guān)系為;
(2.2),表2.4第二十二頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一X-rayDiffractionPattern2ISimpleCubicl=2dhklsinhklBragg’sLaw:l(CuK)=1.5418?BaTiO3atT>130oCdhkl20o
40o60o(hkl)第二十三頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十四頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十五頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一圖2.9X射線衍射儀的原理結(jié)構(gòu)示意圖X射線衍射儀由X射線發(fā)生器、測(cè)角儀和探測(cè)記錄系統(tǒng)3部分組成3、X射線衍射儀的組成X射線發(fā)生器測(cè)角儀探測(cè)記錄系統(tǒng)第二十六頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十七頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十八頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第二十九頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一2.X射線測(cè)角儀第三十頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第三十一頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一3.X射線的探測(cè)第三十二頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一4.第三十三頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第三十四頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一(1)晶體結(jié)構(gòu)(晶向、晶格常數(shù)、原子面間距)的測(cè)量測(cè)量時(shí)將樣品置于衍射儀的測(cè)角儀上,由x射線源發(fā)出的射線,經(jīng)濾光片后得到單色x射線照射到樣品上,使樣品表面與入射X射線束的掠射角為θ。4、X射線衍射儀的使用與測(cè)量第三十五頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第三十六頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第三十七頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第三十八頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一2ISimpleCubicl=2dhklsinhklBragg’sLaw:l(CuK)=1.5418?dhkl20o
40o60o(hkl)通過(guò)X射線衍射儀測(cè)試得到衍射角θ,根據(jù)布拉格公式求得晶體的原子面間距d;根據(jù)晶面與面間距的關(guān)系示,確定晶體晶向.第三十九頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一第四十頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一(2)晶向偏離度的測(cè)量轉(zhuǎn)動(dòng)測(cè)角儀,使樣品圍繞水平和垂直軸轉(zhuǎn)動(dòng),當(dāng)樣品表面轉(zhuǎn)到一定位置時(shí),在計(jì)數(shù)管內(nèi)會(huì)出現(xiàn)最大的衍射強(qiáng)度,記下圍繞水平方向轉(zhuǎn)動(dòng)角α和垂直方向轉(zhuǎn)動(dòng)角β??梢宰C明,晶向的偏離角度Φ與α、β角的關(guān)系為由此可以求出樣品表面的晶向偏離度。第四十一頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一5、半導(dǎo)體工業(yè)中單晶定向儀該型X射線定向儀主要用于4英寸以下小直徑晶棒的OF面定向,晶錠水平放置在夾具內(nèi),在X-RAY照射下,測(cè)出OF面,依機(jī)械方式緊固晶錠,然后將晶錠帶同夾具一起固定在磨床上加工OF面。第四十二頁(yè),共四十四頁(yè),編輯于2023年,星期一精密快速地測(cè)定天然和人造單晶
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