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2019-6-16謝謝觀賞1§7.3X射線多晶衍射法實(shí)驗(yàn)條件:單色的X射線、多晶樣品或粉末樣品7.3.1特點(diǎn)和原理角要滿足布拉格方程2dh*k*l*sin
nh*nk*nl*=n
n=1,2,3§7.3X射線多晶衍射法2019-6-16謝謝觀賞27.3.2粉末衍射圖的獲得常用方法有二種:照相法和衍射儀法1、照相法相機(jī)為金屬圓筒,直徑(內(nèi)徑)為57.3mm,緊貼內(nèi)壁放置膠片,在圓筒中心軸有樣品夾,可繞中心軸旋轉(zhuǎn),樣品位置和中心軸一致。4R=2L即=(弧度)=(度)
2R=57.3nm
=La,b,c,,,I(2)
h,k,l§7.3X射線多晶衍射法2019-6-16謝謝觀賞32、衍射儀法單色X光照射在壓成平板的粉末樣品Y上,它和計(jì)數(shù)器由馬達(dá),按和2角大小的比例由低角度到高角度同步地轉(zhuǎn)動(dòng),以保證可能的衍射線進(jìn)入計(jì)數(shù)器.
[I(2)]§7.3X射線多晶衍射法7.3.3粉末衍射的應(yīng)用1、物相分析由粉末衍射圖得:I(2)各種晶體的譜線有自已特定的位置,數(shù)目和強(qiáng)度。其中更有若干條較強(qiáng)的特征衍射線,可供物相分析。JCPDS(JointCommitteeonPowderDiffrac-tionStandards)(也稱PDF卡PowderDiffrationFile)dA、dB、dC、dD、dE、dF、dG、dHdB、dC、dA、dD、dE、dF、dG、dHdC、dA、dB、dD、dE、dF、dG、dH§7.3X射線多晶衍射法4謝謝觀賞2019-6-162019-6-16謝謝觀賞52、衍射圖的指標(biāo)化利用粉末樣品衍射圖確定相應(yīng)晶面的晶面指面hkl的值(又稱米勒指數(shù))就稱為指標(biāo)化。得到系統(tǒng)消光的信息,從而推得點(diǎn)陣型式,并估計(jì)可能的空間群。立方晶系a=b=c=ao,===90§7.3X射線多晶衍射法2019-6-16謝謝觀賞63、晶粒大小的測定hkl=B―b
晶粒大小與衍射峰寬之間滿足謝樂(Scherrer)公式:垂直于晶面hkl方向的平均厚度衍射峰的半高寬晶體形狀有關(guān)的常數(shù),常取0.89hkl必須進(jìn)行雙線校正和儀器因子校正實(shí)測樣品衍射峰半高寬儀器致寬度§7.3X射線多晶衍射法2019-6-16謝謝觀賞7§7.4電子衍射法簡介電子、質(zhì)子和中子等微觀粒子都有波性,它們的射線也會(huì)產(chǎn)生衍射現(xiàn)象,亦作測定微觀結(jié)構(gòu)的工具。電子射線波長與速度v有關(guān),根據(jù)德布羅意關(guān)系式=h/p=h/=h/=h/10000V電場電子射線的波長12.3pm§7.4電子衍射法簡介2019-6-16謝謝觀賞87.4.1電子衍射法與X射線衍射法比較
電子衍射法X射線衍射法穿透能力小于10-4mm可達(dá)1mm以上散射對(duì)象主要是原子核主要是電子研究對(duì)象適宜氣體、薄膜適宜晶體結(jié)構(gòu)和固體表面結(jié)構(gòu)適合元素各種元素不適合元素H由于中子穿透能力大,所以用中子衍射法確定晶體中H原子位置就更有效?!?.4電子衍射法簡介2019-6-16謝謝觀賞97.4.2電子衍射法測定氣體分子的幾何結(jié)構(gòu)分子內(nèi)原子之間的距離和相對(duì)取向是固定的,原子之間散射次生波的干涉同樣會(huì)產(chǎn)生衍射。原子散射因子Aj近似等于原子序數(shù)ZjI=+
(sinRjkS)/RjkSS=(4/)sin(/2)維爾電子衍射強(qiáng)度公式是:§7.4電子衍射法簡介2019-6-16謝謝觀賞10例如:用40000V的電子射線得到CS2蒸氣的衍射圖,其中強(qiáng)度最大的衍射角分別是2.63o、4.86o、7.08o。已知CS2是對(duì)稱的直線分子,求C-S鍵長。由實(shí)驗(yàn)得
S1=0.04713pm-1;S2=0.08698pm-1;S3=0.1265pm-1由衍射強(qiáng)度公式計(jì)算:[]I=Z+2Z+[4ZCZSsin(RS)/RS]+2Zsin(R’S)/R’S即I=62+2?162+[4?6?16sin(RS)/RS]+[2?162sin(2RS)/2RS]I’=(I
–62–2162)/168=[2sin(2RS)+3sin(RS)]/RSI’對(duì)RS作圖I’(I)最大處的(RS)i=7.1;13.5;19.7計(jì)算得:Ri
=(RS)i/Si=
153pm;155pm;157pm平均
R=155±1pm§7.4電子衍射法簡介7.4.3低能電子衍射法在表面分析中的應(yīng)用LEED(LowEnergyElectronDiffraction)能量為10~1000eV的低能電子射線波長為400~40pm,相當(dāng)于或小于晶體中原子間距,晶體可以對(duì)它產(chǎn)生衍射。但由于電子穿透能力較差,所以這個(gè)能量范圍內(nèi)產(chǎn)生的衍射只是來自晶體內(nèi)500~1000pm的深度的電子散射(相當(dāng)于表面幾層原子)。表面分析
Ni(100)晶體表面低能電子衍射圖表面格子§7.4電子衍射法簡介11謝謝觀賞2019-6-16§7.5X射線熒光光譜分析7.5.1X射線熒光分析方法及應(yīng)用X射線原子熒光(特征X射線)1、莫斯萊定律及定性分析方法莫斯萊(moseley)定律=k(Z-s)-2
特征波長與原子序數(shù)Z關(guān)系是定性分析的基礎(chǔ)§7.5X射線熒光光譜分析12謝謝觀賞2019-6-162019-6-16謝謝觀賞13Mo(Z=42):(特征波長和相對(duì)強(qiáng)度I)K1(0.0709nm)100;L1(0.5406nm)100;K2(0.0713nm)50;L2(0.5414nm)12;K1(0.0632nm)14;L1(0.5176nm)50。不同元素的同名譜線波長變化規(guī)律:K1線Fe(Z=26)為0.1936nm;
Cu(Z=29)為0.1540nm;
Ag(Z=47)為0.0559nm;
Pb(Z=82)為0.0165nm§7.5X射線熒光光譜分析2、定量分析在指定波長下,X射線熒光強(qiáng)度與被測元素的含量成正比,是定量分析的依據(jù)。[1]基體效應(yīng):
基體指被分析元素以外的主量元素,而基體效應(yīng)是指樣品中基本化學(xué)組成以及物理、化學(xué)狀態(tài)變化,對(duì)分析譜線強(qiáng)度的影響。(1)影響定量分析因素a、用輕元素作稀釋物與試樣混合均勻的稀釋法;b、將樣品制得很薄的薄膜樣品法;c、用標(biāo)樣作工作曲線來校正的?!?.5X射線熒光光譜分析14謝謝觀賞2019-6-162019-6-16謝謝觀賞15[2]不均勻效應(yīng):
對(duì)于多相合金、粉末等不均勻材料,X射線熒光強(qiáng)度與顆粒大小有關(guān),顆粒大吸收大,顆粒小熒光強(qiáng)??朔k法:
可用磨細(xì)粒度,制成液體或固熔體。粉末表面可以壓實(shí),固體表面可以刨光表面。[3]譜線干擾:
原子的X射線光譜比光學(xué)光譜簡單但對(duì)于復(fù)雜試樣仍不可忽視。a、選擇無干擾譜線;b、降低X光管電壓,使干擾元素不能激發(fā);c、改進(jìn)儀器性能,提高分辨率本領(lǐng);d、在光路中安置濾光片??朔k法:§7.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞16(2)定量分析方法[1]標(biāo)準(zhǔn)曲線法:配制一套系列標(biāo)準(zhǔn)樣品,繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線,并在標(biāo)準(zhǔn)曲線上查得待測元素含量。[2]標(biāo)準(zhǔn)加入法:又稱增量法,將試樣分成n份,在n—1份試樣中分別加入不同含量(1-3倍)待測元素。然后測定各試樣的分析譜線強(qiáng)度。并以譜線強(qiáng)度對(duì)加入的元素含量作圖,當(dāng)待測元素含量較小時(shí),可獲得近似線形校正曲線,直線外推至橫坐標(biāo)(含量)交點(diǎn),即為試樣中待測元素含量。[3]內(nèi)標(biāo)法:在試樣和一系列標(biāo)樣中都加入相同的內(nèi)標(biāo)元素,測定各個(gè)樣品的待測元素分析譜線的熒光強(qiáng)度IL及內(nèi)標(biāo)元素內(nèi)標(biāo)譜線的熒光強(qiáng)度II,以IL/II對(duì)系列標(biāo)樣中被測元素的含量作圖,得內(nèi)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)曲線。由曲線查得試樣中待測元素的含量?!?.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞173、應(yīng)用X射線熒光分析方法是一種十分有效的成分分析方法,可測定原子序數(shù)5~92的元素的定性及定量分析,并可進(jìn)行多元素同時(shí)檢測,是一種快速精密高的分析方法,其檢測限達(dá)10-5~10-9g·g-1(或g·cm-3)。分析應(yīng)用范圍不斷擴(kuò)大,已被定為國際標(biāo)準(zhǔn)(ISO)分析方法之一。X熒光法與原子發(fā)射光譜有許多共同之處,但它更具有譜線簡單;方法特征性強(qiáng);不破壞試樣;分析含量范圍廣等突出優(yōu)點(diǎn)。隨著儀器技術(shù)及計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展,它將成為元素分析的重要手段之一。§7.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞187.5.2X射線熒光光譜儀1、波長色散型X射線熒光光譜儀根據(jù)其分光的原理不同,X射線熒光光譜儀可分為波長色散和能量色散兩大類型。X射線發(fā)生器分光系統(tǒng)檢測器記錄系統(tǒng)§7.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞19(1)X射線發(fā)生器X射線發(fā)生器由X光管和高電壓發(fā)生器組成。熒光分析用的X光管功率較大,需用水冷卻。一般分析重元素時(shí)選用鎢靶,分析輕元素時(shí)選用鉻靶,使用W-Cr靶材料的X光管可用于較廣范圍的元素測量。高電壓發(fā)生器一般輸出50-100kV,50-100mA,直流電源可獲得更強(qiáng)的X射線?!?.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞20(2)分光系統(tǒng)使用晶體分光器,根據(jù)衍射公式和晶體周期性結(jié)構(gòu),即不同的特征X熒光射線對(duì)應(yīng)不同的色散角,使不同波長的X熒光射線色散,以便選擇待測元素的特征X射線熒光波長進(jìn)行測定?!?.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞21(3)檢測器[1]正比計(jì)數(shù)器:
進(jìn)入計(jì)數(shù)器的X光子與工作氣體產(chǎn)生非彈性碰撞,產(chǎn)生初始離子-電子對(duì)(Ar+、e)即光電離。初始電子被高壓電場加速奔向陽極絲,途中撞擊其它原子產(chǎn)生更多的離子對(duì),鏈鎖反應(yīng),在0.1~0.2s時(shí)間內(nèi)即可由一個(gè)電子引發(fā)102~105個(gè)電子,這種現(xiàn)象稱“雪崩”。大量電子在瞬間奔向陽極,使其電流突然增大,高電壓下降,產(chǎn)生脈沖輸出。在一定條件下,脈沖輸出幅度與入射X射線光子能量成正比。把X射線光子能量轉(zhuǎn)化為電能的裝置,常用的有:§7.5X射線熒光光譜分析2019-6-16謝謝觀賞22[2]閃爍計(jì)數(shù)器:
它由閃爍晶體和光電倍增管組成。當(dāng)X射線穿過鈹窗進(jìn)入閃爍晶體時(shí),閃爍晶體吸收X射線并放出一定數(shù)量的可見光電子,再由光電倍增管檢測,轉(zhuǎn)換成電脈沖信號(hào)。脈沖高度與入射X射線光子能量成正比。[3]半導(dǎo)
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