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文檔簡介
電子衍射結(jié)構(gòu)分析第一頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一[011]∥[012];[111]∥[001]
In740合金晶內(nèi)魏氏組織相的TEM形貌及其電子衍射圖第二頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一主要內(nèi)容透射電鏡的基本結(jié)構(gòu)和成像原理主要部件的結(jié)構(gòu)和工作原理電子衍射概述第三頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一1透射電鏡的基本結(jié)構(gòu)和成像原理第四頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一第五頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一第六頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一電子光學(xué)系統(tǒng)電源與控制系統(tǒng)真空系統(tǒng)透射電子顯微鏡的構(gòu)造第七頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一電子光學(xué)系統(tǒng)照明系統(tǒng)成像系統(tǒng)觀察記錄系統(tǒng)電子槍聚光鏡物鏡中間鏡投影鏡第八頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一透射電鏡的構(gòu)造原理和光路圖1電子槍2陽極3聚光鏡光闌4聚光鏡5樣品6物鏡物鏡光闌選區(qū)光闌中間鏡投影鏡熒光屏或底片照明系統(tǒng)成像系統(tǒng)第九頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一電子光學(xué)系統(tǒng)中各部件的作用(1)電子槍照明系統(tǒng)聚光鏡產(chǎn)生束斑直徑幾十微米的高速電子調(diào)節(jié)照明強度、孔徑角和束斑大小第十頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一電子光學(xué)系統(tǒng)中各部件的作用(2)成像系統(tǒng)物鏡中間鏡投影鏡形成第一副高分辨電子顯維圖象,透射電鏡的分辨率主要取決于物鏡控制電鏡的總放大倍數(shù);控制成像或衍射操作把中間鏡成像進(jìn)一步放大或縮小,達(dá)到照相要求第十一頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一透射電鏡成像與衍射操作的原理(1)中間鏡的物平面與物鏡的焦平面重合中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合成像
衍射第十二頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一透射電鏡成像與衍射操作的原理(2)第十三頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一2主要部件的結(jié)構(gòu)和工作原理樣品平移與傾斜裝置(樣品臺)消像散器光闌第十四頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一1)樣品平移與傾斜裝置(樣品臺)樣品臺的作用:承載樣品;使樣品在物鏡極靴孔內(nèi)平移、傾斜、旋轉(zhuǎn)第十五頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一2)消像散器把固有的橢圓形磁場校正成接近旋轉(zhuǎn)對稱的磁場第十六頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一3)光闌光闌
聚光鏡光闌物鏡光闌選區(qū)光闌限制照明孔徑角襯度光闌,提高成像襯度視場光闌,特定視場成像或衍射分析用第十七頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一3
電子衍射概述電子衍射的特點(與X—射線衍射對比)單晶體、多晶體及非晶體的電子衍射花樣特征第十八頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一3.1電子衍射的特點(與X—射線衍射對比)1)電子波的波長比X—射線短的多,在同樣滿足布拉格定律時,它的衍射角θ非常小,約為10-2rad,而X射線衍射時,最大角可接近π/2.
原因:
根據(jù)布拉格定律:sinθ=λ/2d≤1
常見晶體的晶面間距為1—0.1nm范圍,所以用于衍射的X射線波長在0.05—0.25nm范圍,θ接近π/2.
通常透射電鏡的加速電壓為100—200kV,即電子波的波長在10-2—10-3nm數(shù)量級,θ約為10-2rad.第十九頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一2)電子衍射操作時采用薄膜樣品,薄膜樣品的倒易陣點會沿樣品的厚度方向延伸成桿狀,于是,增加了倒易陣點和厄瓦爾德球相交的機會,結(jié)果使略微偏離布拉格條件的電子束也能發(fā)生衍射.第二十頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一3)由于電子波的波長短,采用厄瓦爾德圖解時,反射球的半徑很大,在衍射角θ較小的范圍內(nèi),反射球面可以近似看成一個平面.可以認(rèn)為,電子衍射產(chǎn)生的衍射斑點大致分布在一個二維倒易截面內(nèi).這個結(jié)果使晶體產(chǎn)生的衍射花樣能比較直觀地反映各晶面的位向,便于實際結(jié)構(gòu)分析.第二十一頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一4)原子對電子的散射能力遠(yuǎn)高于它對X—射線的散射能力(約高出4個數(shù)量級),故電子衍射束的強度較大,攝取衍射花樣時曝光時間僅需數(shù)秒鐘.第二十二頁,共二十三頁,編輯于2023年,星期一3.2單晶體
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