Inventor工業(yè)產(chǎn)品設(shè)計(jì)項(xiàng)目教程課件操作篇項(xiàng)目2任務(wù)2-按摩枕

按摩枕【本節(jié)知識(shí)重點(diǎn)】※創(chuàng)建曲面輪廓

※草圖凸雕※從草圖打孔

※實(shí)體分割

※貼圖、添加材質(zhì)

最終效果圖具體操作方法：1、【新建】→零件文件【Standar.ipt】，調(diào)整空間視圖至“前視圖”?！拘陆ú輬D】→【樣條曲線】命令，繪制枕狀輪廓草圖2、完成草圖后，使用【拉伸】命令將草圖輪廓拉伸成實(shí)體，距離為20mm3、在“瀏覽欄”中找到“原始坐標(biāo)系”→“XZ平面”，使用【平面】命令從【XZ平面】上偏移出一個(gè)新平面4、調(diào)整空間視圖至“頂視圖”，在新平面上新建草圖，使用【樣條曲線】命令繪制一個(gè)“～”形曲面輪廓。封口時(shí)建議使用【直線】命令，且該截面輪廓的寬度要大于實(shí)體的最大寬度，便于之后的拉伸操作5、完成草圖后，使用【拉伸】命令將草圖拉伸80mm，使用“差集”修剪原有實(shí)體6、調(diào)整空間視圖至“前視圖”，調(diào)用原始坐標(biāo)系XZ平面。使用【平面】命令偏移出一個(gè)新平面，并在平面上新建草圖。使用【樣多曲線】命令繪制截面輪廓7、完成草圖后，使用【拉伸】命令拉伸草圖，修剪完成實(shí)體底面的曲線輪廓8、為實(shí)體添加倒圓角效果。選擇【圓角】命令，分別為實(shí)體上邊、下邊倒圓角。倒角半徑分別為7mm、6mm9、調(diào)整空間視圖到“頂視圖”，在原有的平面上新建草圖。使用【矩形】命令繪制一個(gè)寬為0.05，長大于實(shí)體總長的矩形10、完成草圖后，選擇【拉伸】命令將草圖拉伸貫通，修剪已有實(shí)體11、拉伸完成后，原有實(shí)體將被分割出來。選擇標(biāo)題欄中的“選擇實(shí)體”圖標(biāo)，選擇實(shí)體上的分割面。添加材“藍(lán)色”材質(zhì)，便于區(qū)別產(chǎn)品的各部分結(jié)構(gòu)12、調(diào)整空間視圖至“頂視圖”，在“瀏覽器”欄中調(diào)用實(shí)體底面“XY平面”。使用【平面】命令將XY平面偏至實(shí)休上方13、在實(shí)體上方新平面上新建草圖，使用【圓弧】命令繪制兩條弧使用【偏移】命令分別將圓弧向外偏移0.04mm。使用【直線】命令將偏移出的圓弧與原始弧封口閉合14、完成草圖后，使用【拉伸】命令，將草圖拉伸至少10mm，修剪原有實(shí)體15、拉伸完成后，原有實(shí)體將被分割出來。選擇標(biāo)題欄中的“選擇實(shí)體”圖標(biāo)，選擇實(shí)體上的分割面。添加材“藍(lán)色”材質(zhì)，便于區(qū)別產(chǎn)品的各部分結(jié)構(gòu)16、調(diào)整空間視圖至“頂視圖”，在“瀏覽器”欄中調(diào)用實(shí)體頂面上的“平面”。在該平面上新建草圖，使用【點(diǎn)】命令，在草圖上單擊鼠標(biāo)左鍵，任意創(chuàng)建20－30個(gè)點(diǎn)17、使用同樣的方法創(chuàng)建實(shí)體左側(cè)的按摩孔。如果想讓左右的按摩孔對(duì)稱相等，也可以使用【鏡像】命令將已完成的孔特征，以原始坐標(biāo)平面為對(duì)稱軸鏡像到別一側(cè)18、調(diào)整空間視圖，調(diào)用實(shí)休上方平面新建草圖。使用【圓】命令繪制大小兩個(gè)圓19、完成【凸雕】效果后，使用【圓角】命令將按摩貼片邊緣圓滑處理，倒角半徑為0.1mm20、參照以上制圖方法，依次創(chuàng)建出按摩貼片上方的放射孔21、調(diào)整空間視圖至“頂視圖”，使用頂部平面新建草圖。使用【圓】命令繪制兩個(gè)半徑為5mm的圓。使用【凸雕】命令將草圖雕刻到實(shí)體上22、參照之前打孔操作，完成實(shí)體其它位置的按摩貼和放射孔的制作23、仍然使用頂視圖平面新建草圖，繪制圓形按摩墊。在應(yīng)用【拉伸】或【凸雕】命令后，給凸出實(shí)體表面的圓形特征添加“白色”材質(zhì)24、調(diào)整空間視圖至“左視圖”，在“瀏覽欄”中選擇“原始坐標(biāo)系”中的“XY平面”，在平面上新建草圖。按“F7”鍵進(jìn)入實(shí)體剖切面，使用【矩形】命令繪制一個(gè)8×1.5mm的矩形25、創(chuàng)建按摩枕的充電插口裝置。完成草圖后，使用【拉伸】命令將草圖向內(nèi)部拉伸3－5mm，使用“差集”修前已有實(shí)體。鼠標(biāo)左鍵單擊修剪完成的凹槽的內(nèi)面，新建草圖。使用【圓】命令繪制四個(gè)半徑為0.5mm的圓26、完成草圖后