半導體行業(yè)污染物排放標準

文獻排版存檔編號：[UYTR-OUPT28-KBNTL98-UYNN208]文獻排版存檔編號：[UYTR-OUPT28-KBNTL98-UYNN208]半導體行業(yè)污染物排放原則公布上海市環(huán)保局上海市質量技術監(jiān)督局DB31-02-01實施-××-××公布半導體行業(yè)污染物排放原則Thed公布上海市環(huán)保局上海市質量技術監(jiān)督局DB31-02-01實施-××-××公布半導體行業(yè)污染物排放原則Thedischargestandardsofpollutantsforsemiconductorindustry（公布稿）DB31/374—上海市地方原則ICS目次TOC\o"1-2"\h\z

前言為貫徹《中華人民共和國環(huán)保法》、《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國海洋環(huán)保法》，加強半導體公司污染物的排放控制，保障人體健康，維護生態(tài)平衡，結合上海市實際狀況，制訂本原則。本原則重要有下列特點：1）合用于半導體公司水污染物、大氣污染物排放的管理；2）水污染物排放根據(jù)功效區(qū)執(zhí)行分級原則；3）大氣污染物排放不根據(jù)功效區(qū)進行分級；4）對現(xiàn)有半導體公司規(guī)定達成揮發(fā)性有機物（VOCs）排放原則的時限，對其它污染源不再按建設時間規(guī)定排放限值。半導體公司的噪聲控制、固體廢物控制按國家和我市的有關規(guī)定執(zhí)行。本原則實施之日起，半導體公司水污染物排放按本原則執(zhí)行，不再執(zhí)行DB31/199-1997《污水綜合排放原則》；半導體公司大氣污染物排放按本原則執(zhí)行，不再執(zhí)行GB16297-1996《大氣污染物綜合排放原則》。本原則為初次公布。本原則由上海市環(huán)保局提出并歸口。本原則由上海市環(huán)境科學研究院和上海市集成電路行業(yè)協(xié)會負責起草。本原則由上海市人民政府10月13日同意。本原則由上海市環(huán)保局負責解釋。半導體行業(yè)污染物排放原則范疇本原則規(guī)定了半導體公司的水污染物和大氣污染物排放原則值。本原則合用于半導體公司的水污染物排放管理、大氣污染物排放管理，以及半導體公司建設項目環(huán)境影響評價、建設項目環(huán)保設施設計、竣工驗收及其投產(chǎn)后的污染控制與管理。規(guī)范性引用文獻下列原則和本原則表5、表6所列分析辦法原則及規(guī)范所含的條款通過本原則的引用而成為本原則的條款，與本原則同效。GB3095環(huán)境空氣質量原則GB3097海水水質原則GB3838地表水環(huán)境質量原則GB/T12997水質采樣方案設計技術規(guī)定GB/T12998水質采樣技術指導GB/T12999水質采樣樣品的保存和管理技術規(guī)范GB13271鍋爐大氣污染物排放原則GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣辦法GB16297大氣污染物綜合排放原則HJ/T91地表水和污水監(jiān)測技術規(guī)范HJ/T92水污染物排放總量監(jiān)測技術規(guī)范當上述原則和規(guī)范被修訂時，應使用其最新版本。術語和定義下列術語和定義合用于本原則：半導體公司semiconductorindustry指從事半導體分立器件或集成電路的制造、封裝測試的公司。特殊保護水域specialprotectedwaterarea指經(jīng)國家或上海市人民政府同意的自然保護區(qū)范疇內水域；GB3838中II類水域；由我市各區(qū)、縣人民政府規(guī)定的居民集中式生活飲用水取水口衛(wèi)生防護帶水域。廢氣解決設施exhaustgascontroldevices指解決廢氣的濕式洗滌塔、焚燒塔、吸取塔、冷凝塔或其它設備，但不涉及工藝中設備自帶的預解決設備。密閉排氣系統(tǒng)closedventsystem指可將設備或設備組件排出或逃逸的空氣污染物捕集并輸送至廢氣污染防治設備，使傳送的氣體不直接與大氣接觸的系統(tǒng)?，F(xiàn)有污染源和新污染源existingpollutuionsourceandnewpollutionsource現(xiàn)有污染源指2月1日前建設的半導體公司。新污染源指2月1日起建設（涉及改、擴建）的半導體建設項目。建設項目的建設（涉及改、擴建）時間，以環(huán)境影響報告書（表）同意日期為準。技術內容水污染物排放原則原則分級特殊保護水域內不準新建排污口。原有排污口執(zhí)行表1中的A原則和表2中的特殊保護水域原則。排入GB3838中III類水域和排入GB3097中第二類海域的污水執(zhí)行表1中的A原則和表2中的一級原則。排入GB3838中IV、V類水域和排入GB3097中第三類海域的污水執(zhí)行表1中的B原則和表2中的二級原則。排入設立二級污水解決廠的排水系統(tǒng)的污水執(zhí)行表1中的B原則和表2中的三級原則。原則值分類本原則將污染物按其性質及控制方式分成二類。第一類污染物，不分污水排放方式和受納水體的功效類別，一律在車間或車間解決設施排放口采樣，其最高允許排放濃度應達成本原則規(guī)定。第二類污染物，在排放單位排放口采樣，其最高允許排放濃度應達成本原則規(guī)定。本原則對氟化物、懸浮物（SS）、生化需氧量（BOD5）、化學需氧量（CODCr）、氨氮、總有機碳（TOC）6項污染物均規(guī)定了以日均值計的最高允許排放濃度和以瞬時值計的最高允許排放濃度兩項指標，這6項污染物的排放應同時恪守上述兩項指標。其它污染物的最高允許排放濃度以日均值計。原則值半導體公司的水污染物排放執(zhí)行表1和表2的規(guī)定。表1第一類污染物最高允許排放濃度(日均值)單位：mg/L序號污染物A原則B原則1總鎘（按Cd計）2總鉻（按Cr計）3六價鉻（按Cr6+計）4總砷（按As計）（砷化鎵工藝）5總鉛（按Pb計）6總鎳（按Ni計）7總銀（按Ag計）表2第二類污染物最高允許排放濃度單位：mg/L（pH值除外）序號污染物特殊保護水域原則一級原則二級原則三級原則1氟化物（按F計）810(13)10(13)202總銅（按Cu計）113硫化物（按S計）1114總氰化物（按CN-計）5pH6~96~96~9－6懸浮物（SS）50(65)70(91)100(130)－7生化需氧量（BOD5）15(20)20(26)30(39)－8化學需氧量（CODCr）60(78)80(104)100(130)－9氨氮（NH3-N）810(13)15－10總有機碳（TOC）18(23)20(26)30(39)－注：表中括號內的原則限值為瞬時值；無括號的原則限值，除pH值外，其它均為日均值。大氣污染物排放原則原則體系本原則設立下列三項指標：通過排氣筒排放的污染物最高允許排放濃度。通過排氣筒排放的污染物，按排氣筒高度規(guī)定的最高允許排放速率。任何一種排氣筒應同時恪守上述兩項指標，超出其中任何一種均為超標排放。揮發(fā)性有機物（VOCs）解決設施的最低解決效率。原則值位于GB3095中一類區(qū)的污染源嚴禁排放表3所列的大氣污染物。大氣污染物排放的最高允許排放濃度和最高允許排放速率執(zhí)行表3的規(guī)定。揮發(fā)性有機物解決設施的最低解決效率執(zhí)行表4的規(guī)定。半導體公司產(chǎn)生的大氣污染物應由密閉排氣系統(tǒng)導入廢氣解決設施后排放，不應有無組織排放存在。表3大氣污染物排放限值序號污染物最高允許排放濃度(mg/m3)最高允許排放速率排氣筒高度(m)排放速率(kg/h)1硫酸霧101520302氯化氫151520303氟化氫1520304氨-152030205揮發(fā)性有機物(VOCs)100a--a現(xiàn)有污染源自1月1日起執(zhí)行該限值；新污染源自2月1日起執(zhí)行該限值。表4揮發(fā)性有機物（VOCs）解決設施的最低解決效率合用范疇解決設施的最低解決效率揮發(fā)性有機物（VOCs）排放速率>h88％aa現(xiàn)有污染源自1月1日起執(zhí)行該限值；新污染源自2月1日起執(zhí)行該限值。為減少全氟化物（PFCs）排放對環(huán)境產(chǎn)生的影響，集成電路制造公司宜制訂PFCs排放的年削減計劃，通過優(yōu)化工藝、原料替代、循環(huán)運用、污染治理等方法減少PFCs的排放。其它規(guī)定排氣筒高度不應低于15m。排氣筒高度除應恪守表3所列排放速率原則值外，還應高出周邊200m半徑范疇的建筑5m以上，不能達成該規(guī)定的排氣筒，應按其高度對應的表3所列排放速率原則值嚴格50%執(zhí)行。兩個排放相似污染物（不管其與否由同一生產(chǎn)工藝過程產(chǎn)生）的排氣筒，若其距離不大于其幾何高度之和，應合并視為一根等效排氣筒。若有三根以上的近距離排氣筒，且排放同一種污染物時，應以前兩根的等效排氣筒，依次與第三、四根排氣筒取等效值。等效排氣筒的有關參數(shù)計算辦法同GB16297-1996中附錄A。若某排氣筒的高度處在本原則列出的兩個值之間，其執(zhí)行的最高允許排放速率以內插法計算；當某排氣筒高度不不大于本原則列出的最大值（30m）時，應按本原則列出的最大排氣筒高度對應的最高允許排放速率執(zhí)行。內插法的計算公式同GB16297-1996中附錄B。公司內部設立的鍋爐，其大氣污染物排放應執(zhí)行GB13271。監(jiān)測采樣點污水采樣點位設立應符合HJ/T91的規(guī)定，在排放口應設立排污口標志、污水水量計量裝置。污水監(jiān)測采樣方案設計應符合GB/T12997的規(guī)定。廢氣排氣筒中氣態(tài)污染物監(jiān)測的采樣點數(shù)目及采樣點位置的設立，按GB/T16157執(zhí)行。新建（涉及改、擴建）的項目應在廢氣解決設施的進口和出口預設采樣孔。采樣頻率污水樣品采集應符合GB/T12997、GB/T12998和GB/T12999的規(guī)定。污水的采樣頻率應符合HJ/T91的規(guī)定。排氣筒中廢氣樣品采集（不涉及氨的排放速率監(jiān)測）以持續(xù)1h的采樣獲取平均值；或在1h內，以等時間間隔采集4個樣品，并計平均值。特殊狀況下廢氣的采樣時間和頻次若某排氣筒的排放為間斷性排放，排放時間不大于1h，應在排放時段內實施持續(xù)采樣，或在排放時段內以等時間間隔采樣2-4個樣品，并計平均值；氨的排放速率監(jiān)測應按生產(chǎn)周期擬定監(jiān)測頻率，生產(chǎn)周期在8h以內的，每2h采集一次，生產(chǎn)周期不不大于8h的，每4h采集一次，取其最大測定值；在進行污染事故排放監(jiān)測時，按需要設立的采樣時間和采樣頻次，不受上述規(guī)定限制；建設項目環(huán)保設施竣工驗收監(jiān)測的采樣時間和頻次，根據(jù)國家環(huán)?？偩种朴喌慕ㄔO項目環(huán)保設施竣工驗收監(jiān)測方法執(zhí)行。監(jiān)測工況規(guī)定在對污染源的日常監(jiān)督性監(jiān)測中，采樣期間的工況應與當時的運行工況相似，排污單位的人員和實施監(jiān)測的人員都不應任意變化當時的運行工況。建設項目環(huán)保設施竣工驗收監(jiān)測的工況規(guī)定按照國家環(huán)?？偩种朴喌慕ㄔO項目環(huán)保設施竣工驗收監(jiān)測方法執(zhí)行。分析辦法污染物的分析辦法按表5和表6執(zhí)行。表5水污染物分析辦法序號污染物分析辦法辦法來源1總鎘原子吸取分光光度法GB7475等離子發(fā)射光譜法1)2總鉻高錳酸鉀氧化—二苯碳酰二肼分光光度法GB7466火焰原子吸取分光光度法1)等離子發(fā)射光譜法1)3六價鉻二苯碳酰二肼分光光度法GB7467續(xù)表序號污染物分析辦法辦法來源4總砷二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法GB7485硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法GB/T11900新銀鹽分光光度法1)原子熒光法1)等離子發(fā)射光譜法1)氫化物發(fā)生－原子吸取分光光度法1)5總鉛原子吸取分光光度法GB7475等離子發(fā)射光譜法1)6總鎳火焰原子吸取分光光度法GB11912等離子發(fā)射光譜法1)7總銀火焰原子吸取分光光度法GB11907等離子發(fā)射光譜法1)8氟化物離子選擇電極法GB7484離子色譜法HJ/T849硫化物亞甲基藍分光光度法GB/T16489直接顯色分光光度法GB/T17133碘量法HJ/T60氣相分子吸取光譜法1)10總氰化物硝酸銀滴定法異煙酸－吡唑啉酮分光光度法吡啶－巴比妥酸分光光度法GB748611總銅原子吸取分光光度法GB7475等離子發(fā)射光譜法1)12pH值玻璃電極法GB6920便攜式pH計法1)13懸浮物重量法GB11901續(xù)表序號污染物分析辦法辦法來源14生化需氧量(BOD5)稀釋與接種法GB748815化學需氧量(CODCr)重鉻酸鉀法GB11914節(jié)能加熱法1)氯氣校正法1)快速密閉催化消解法1)16氨氮(NH3-N)納氏試劑分光光度法GB7479水楊酸分光光度法GB7481蒸餾和滴定法GB7478氣相分子吸取光譜法1)17總有機碳(TOC)非色散紅外線吸取法GB13193燃燒氧化－非分散性紅外吸取法HJ/T71注：暫采用下列辦法，待國標或上海市地方原則公布后，執(zhí)行對應的原則。1)《水和廢水監(jiān)測分析辦法》（