氮化鋅薄膜的制備研究開題報告

氮化鋅薄膜的制備研究開題報告一、選題背景氮化鋅作為一種半導(dǎo)體材料，在光電子器件、光伏、顯示和照明等領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。而氮化鋅薄膜是氮化鋅應(yīng)用中的基礎(chǔ)，它的制備工藝及薄膜性能對于氮化鋅材料的應(yīng)用和發(fā)展都具有重要意義。目前，氮化鋅薄膜的制備方法有很多種，比如磁控濺射、分子束外延、物理氣相沉積等。但不同制備方法的薄膜質(zhì)量和制備條件都不相同，有一定的局限性。因此，探究更優(yōu)化的氮化鋅薄膜制備方法，提高其質(zhì)量和性能，對于開發(fā)氮化鋅的潛力和應(yīng)用都有重要的促進作用。二、研究目的本研究旨在優(yōu)化氮化鋅薄膜的制備方法，通過比較不同工藝條件下的薄膜性能，得出更優(yōu)化的氮化鋅薄膜制備方案，并對其性能進行評價和分析。三、研究內(nèi)容1.氮化鋅薄膜的制備方法研究（1）磁控濺射法（2）物理氣相沉積法（3）分子束外延法2.氮化鋅薄膜性能測試（1）X射線衍射測試（2）掃描電鏡觀察（3）光學(xué)吸收譜測試（4）霍爾效應(yīng)測試3.工藝條件優(yōu)化（1）薄膜成核和生長的實驗研究（2）薄膜微結(jié)構(gòu)與性能之間的關(guān)系研究四、預(yù)期成果本研究將通過實驗比較不同制備條件下氮化鋅薄膜的性能及微結(jié)構(gòu)，得出更優(yōu)化的制備方案，并對其性能進行評價。預(yù)計得到高質(zhì)量的氮化鋅薄膜，并為其廣泛應(yīng)用提供理論和技術(shù)支持。五、研究方法及進度研究方法主要是通過實驗對比法，采用磁控濺射法、物理氣相沉積法和分子束外延法制備氮化鋅薄膜，并對其薄膜性能進行測試。在此基礎(chǔ)上，通過對薄膜生長過程中的實驗探究和對薄膜微結(jié)構(gòu)與性能之間關(guān)系的研究，提出更優(yōu)化的制備方案。預(yù)計研究周期為10個月，具體計劃如下：第1-2個月：文獻調(diào)研，了解氮化鋅薄膜的制備、性能及應(yīng)用現(xiàn)狀。第3-6個月：通過實驗制備氮化鋅薄膜，測試其性能。第7-8個月：對薄膜生長過程中的實驗探究進行研究第9-10個月：提出更優(yōu)化的制備方案，撰寫學(xué)位論文。六、參考文獻1.張文堂,等.氮化鋅薄膜的制備及其應(yīng)用研究進展[J].光學(xué)精密工程,2017,25(5):1020-1027.2.TodaH,UchiyamaH,YakushimaR,etal.PropertiesofGaN,AlN,andAlGaNfilmsgrownbymolecular-beamepitaxyusingammoniaandnitrogenradicalsources[J].JapJApplPhys,1998,37(3):L239-L242.3.WuSQ,ZhangBP,ZhangQH,etal.HighlytransparentZnOthinfilmsgrownbysputteringdepositionmethod[J].ThinSolidFilms,2006,515(4):1898-1901.4.XuJ,XuG,ZhouP,etal.ZnOthinfilmsdepositedbyspraypyrolysi