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文檔簡介
熔體1、問題的引出:晶體(理想)的特點(diǎn)——晶體(實(shí)際)的特點(diǎn)——整體有序【舉例】熔體與玻璃的特點(diǎn)—?2、從能量角度分析:熱力學(xué)、動(dòng)力學(xué)近程有序遠(yuǎn)程無序ΔGaΔGv熔體晶體能量從熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)角度分析熔體與晶體氣相冷凝獲得的無定形物質(zhì)表面內(nèi)部位能從能量曲線分析熔體和玻璃熔體玻璃真實(shí)晶體理想晶體原因熔體是玻璃製造的中間產(chǎn)物瓷釉在高溫狀態(tài)下是熔體狀態(tài)耐火材料的耐火度與熔體含量有直接關(guān)係瓷胎中40%—60%是玻璃狀態(tài)(高溫下是熔體態(tài))3、為什麼要研究熔體、玻璃?(結(jié)構(gòu)和性能)§2-1熔體的結(jié)構(gòu)——聚合物理論(一)X—RAD結(jié)果(二)熔體結(jié)構(gòu)描述(三)聚合物的形成
(四)聚合物理論要點(diǎn)基本內(nèi)容氣體、熔體、玻璃體和白矽石的XRD圖(一)X—RAD分析:(一)X—RAD結(jié)果:結(jié)論①熔體和玻璃的結(jié)構(gòu)相似②結(jié)構(gòu)中存在著近程有序區(qū)(二)熔體結(jié)構(gòu)描述:眾多理論——“硬球模型”、“核前群理論”、“聚合物理論”聚合物理論的結(jié)構(gòu)描述——①矽酸鹽熔體中有多種負(fù)離子集團(tuán)同時(shí)存在:如Na2O—SiO2熔體中有:[Si2O7]-6(單體)、[Si3O10]-8(二聚體)……[SinO3n+1]-(2n+2);②此外還有“三維晶格碎片”[SiO2]n,其邊緣有斷鍵,內(nèi)部有缺陷。平衡時(shí)各級聚合物分佈呈一定的幾何級數(shù)。1.熔體化學(xué)鍵分析。最基本的離子是Si,O和堿或鹼土金屬離子。
2.Na2O—SiO2熔體聚合物的形成過程3.熔體中多種聚合物的數(shù)量與熔體組成及溫度的關(guān)係。Si-O鍵鍵性的分析R-O鍵的作用(三)、聚合物形成
Si-O鍵鍵性的分析:離子鍵與共價(jià)鍵性(約52%)混合。
Si(1s22s22p63s23p2)——4個(gè)sp3雜化軌道構(gòu)成四面體。
O(1s22s22p4)——sp、sp2、sp3(從鍵角分析應(yīng)在sp和sp2之間)1.熔體化學(xué)鍵分析
Si-O鍵具有高鍵能、方向性和低配位等特點(diǎn)。結(jié)論Si--O形成σ鍵,同時(shí)O滿的p軌道與Si全空著的d軌道形成dπ-pπ
鍵,這時(shí)π鍵疊加在σ鍵上,使Si-O鍵增強(qiáng)和距離縮短。SiOσ鍵
鍵
鍵熔體中R-O鍵的鍵性以離子鍵
為主。當(dāng)R2O、RO引入矽酸鹽熔體中時(shí),Si4+能把R-O上的氧離子吸引到自己周圍,使Si-O鍵的鍵強(qiáng)、鍵長、鍵角發(fā)生改變,最終使橋氧斷裂。R-O鍵的作用:O/Si比升高,[SiO4]之間連接方式可以從石英的架狀——層狀——鏈狀——島狀(用聚合物描述)。熔體形成過程以Na2O—SiO2熔體為例。(1)石英的分化一切矽氧聚合物來源於Na2O和SiO2的相互作用不考慮固相反應(yīng)、低共熔、擴(kuò)散等現(xiàn)象。只考慮Na2O怎樣“攻擊”、“蠶食”石英顆粒從而產(chǎn)生聚合物。聚合物的分佈決定熔體結(jié)構(gòu)。前提石英顆粒表面有斷鍵,並與空氣中水汽作用生成Si-OH鍵,與Na2O相遇時(shí)發(fā)生離子交換:SiONaOO122Si-OHSi-O-Na1處的化學(xué)鍵加強(qiáng)!2處的化學(xué)鍵減弱!Na2O“進(jìn)攻”弱點(diǎn)——石英骨架“分化”——形成聚合物。Na+的攻擊-誘導(dǎo)效應(yīng)結(jié)果分化過程示意圖:結(jié)果三維晶格碎片各種低聚物各種高聚物取決於溫度、組成、時(shí)間(2)升溫和無序化:以SiO2結(jié)構(gòu)作為三維聚合物、二維聚合物及線性聚合物。在熔融過程中隨時(shí)間延長,溫度上升,熔體結(jié)構(gòu)更加無序化,線性鏈:圍繞Si-O軸發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)、彎曲;
二維聚合物:層發(fā)生褶皺、翹曲;三維聚合物:(殘餘石英碎片)熱缺陷數(shù)增多,同時(shí)Si-O-Si鍵角發(fā)生變化。(3)縮聚反應(yīng):[SiO4]Na4+[SiO4]Na4——[Si2O7]Na6+Na2O[SiO4]Na4+[Si2O7]Na6——[Si3O10]Na8+Na2O[SiO4]Na4+[SinO3N+1]Na(2n+2)——-——[Sin+1O3n+4]Na(2n+4)+Na2O各種低聚物相互作用形成高聚物-----(4)熔體中的可逆平衡:結(jié)果:使熔體中有多種多樣的聚合物,高溫時(shí)低聚物各自以分立狀態(tài)存在,溫度降低時(shí)有一部分附著在三微碎片上,形成“毛刷”結(jié)構(gòu)。溫度升高“毛刷”脫開。反應(yīng)的實(shí)質(zhì)是:(1)當(dāng)熔體組成不變時(shí),隨溫度升高,低聚物數(shù)量增加;否則反之。3、熔體中多種聚合物的數(shù)量與熔體組成及溫度的關(guān)係1100120013001400(℃)聚合物濃度(%)6050403020100(SiO3)4Si3O10Si2O7(SiO2)nSiO4某硼矽酸鹽熔體中聚合物分佈隨溫度的變化(2)當(dāng)溫度不變時(shí),熔體組成的O/Si比(R)高,則表示鹼性氧化物含量較高,分化作用增強(qiáng),從而Onb增多,低聚物也增多。12108642087654321負(fù)離子含[SiO4]數(shù)各級聚合物的[SiO4]量(%)R=2.3R=2.5R=2.7R=3[SiO4]四面體在各種聚合物中的分佈與R的關(guān)係把聚合物的形成大致分為三個(gè)階段:
初期:主要是石英顆粒的分化;
中期:縮聚反應(yīng)並伴隨聚合物的變形;
後期:在一定溫度(高溫)和一定時(shí)間(足夠長)下達(dá)到聚合
解聚平衡。
總結(jié)最終熔體組成是:不同聚合程度的各種聚合體的混合物。即低聚物、高聚物、三維碎片、游離堿、吸附物。
聚合體的種類、大小和數(shù)量隨熔體組成和溫度而變化。
(四)、聚合物理論要點(diǎn):(1)、矽酸鹽熔體是由不同級次、不同大小、不同數(shù)量的聚合物組成的混合物。所謂的聚合物是指由[SiO4]連接起來的矽酸鹽聚離子。(2)、聚合物的種類、大小、分佈決定熔體結(jié)構(gòu),各種聚合物處於不斷的物理運(yùn)動(dòng)和化學(xué)運(yùn)動(dòng)中,並在一定條件下達(dá)到平衡。(3)、聚合物的分佈決定熔體結(jié)構(gòu),分佈一定,結(jié)構(gòu)一定。(4)、熔體中聚合物被R+,R2+結(jié)合起來,結(jié)合力決定熔體性質(zhì)。(5)聚合物的種類、大小、數(shù)量隨溫度和組成而發(fā)生變化。習(xí)題
P1043-1
補(bǔ)充題:用聚合物理論的觀點(diǎn),說明Na2O-SiO2熔體,隨Na2O含量的增加各級聚合物將發(fā)生怎樣的變化,並用圖表示出聚合物的分佈隨溫度和O/Si的變化趨勢。
第二節(jié)熔體的性質(zhì)一、粘度(η)
1.概念——液體流動(dòng)時(shí),一層液體受到另一層液體的牽制。在剪切應(yīng)力下產(chǎn)生的剪切速度dv/dx
與剪應(yīng)力σ成正比。即σ=ηdv/dx
定義:使相距一定距離的兩個(gè)平行平面以一定速度相對移動(dòng)所需的力。
單位:Pa.s
物理意義:表示相距1米的兩個(gè)面積為1m2的平行平面相對移動(dòng)所需的力為1N。
流動(dòng)度:φ=1/η(1)絕對速度理論(2)自由體積理論(3)過剩熵理論2.粘度的理論解釋(1)絕對速度理論流動(dòng)度粘度T升高———————η下降T升高——△E下降——η下降活化能不僅與熔體組成有關(guān),還與熔體中[SiO4]聚合程度有關(guān)。將黏度公式取對數(shù):logη=A+B/T其中:A=logη0;B=(△E/k)logeLogη~1/T並非直線關(guān)係;低溫活化能是高溫的2-3倍(多數(shù));Tg—Tf溫度範(fàn)圍活化能突變。結(jié)論:E=180300550KJ/mol0.500.751.001.25(1/T)Logη(dPa.s)151050鈉鈣矽酸鹽玻璃的Logη~1/T關(guān)係曲線(2)自由體積理論論——
液體內(nèi)分佈著不規(guī)則,大小不等的空隙,液體流動(dòng)必須打開這些“空洞”,允許液體分子的運(yùn)動(dòng),這種空洞為液體分子流動(dòng)提供了空間,這些空隙是由系統(tǒng)中自由體積Vf的再分佈所形成的。T體積膨脹至V形成Vf
為分子運(yùn)動(dòng)提供空隙。Vf越大易流動(dòng)η小。(晶體熔化成液體時(shí)一般體積增大10%)VFT關(guān)係式:此式在玻璃Tg以上溫度適用,在Tg附近Vf為一微小數(shù)則有WLF關(guān)係式:fg——玻璃轉(zhuǎn)變時(shí)的自由體積分?jǐn)?shù)(大多數(shù)材料取0.025)?α——熔體與玻璃膨脹係數(shù)之差多數(shù)有機(jī)物~5х10-4/KB~1
(3)過剩熵理論
——液體由許多結(jié)構(gòu)單元構(gòu)成,液體的流動(dòng)就是這些結(jié)構(gòu)單元的再排列過程。D與分子重排的勢壘成正比,接近常數(shù)。
說明——1.由於實(shí)際粘滯流動(dòng)的複雜性,上述三種η~T關(guān)係式仍有局限性。
2.由自由體積理論和過剩熵理論都可以推出VFT,因此成為VFT公式的理論依據(jù)和解釋。3.粘度與玻璃轉(zhuǎn)變密切相關(guān),因此自由體積和過剩熵理論也應(yīng)用於玻璃轉(zhuǎn)變本質(zhì)的研究。總結(jié)3.
玻璃生產(chǎn)中的粘度點(diǎn):1014.5dpa.s失去流動(dòng)性,應(yīng)變點(diǎn)1013~13.4dpa.s
退火點(diǎn)1012~13dpa.sTg點(diǎn)4.5×107dpa.s軟化點(diǎn)105dpa.s流動(dòng)點(diǎn)104~8dpa.s成型操範(fàn)圍4.熔體粘度與組成的關(guān)係(1)O/Si的影響:分子式O/Si[SiO4]連接程度粘度(dpa.s)
SiO22/1骨架1010Na2O.2SiO25/2層狀280Na2O.SiO23/1鏈狀1.62Na2O.SiO24/1島狀<1
在1400℃時(shí)鈉矽系統(tǒng)玻璃粘度表
(2)
R+對矽酸鹽熔體(SiO2)粘度的影響:隨加入量增加而顯著下降。
(3)
Al2O3補(bǔ)網(wǎng)作用R+對R2O-SiO2熔體黏度的影響
R2O含量<25mol%,O/Si比較低時(shí),對粘度起主要作用的是四面體間Si-O的鍵力;再引入R2O,其中Li+半徑小,削弱Si-O鍵的作用大,所以Li2O降粘度較Na2O、K2O顯著,此時(shí)相應(yīng)熔體的粘度
當(dāng)R2O含量>25mol%,O/Si比高時(shí),此時(shí)[SiO4]之間連接已接近島狀,孤立[SiO4]很大程度上依靠鹼金屬離子相連。再引入R2O,Li+鍵力大使熔體粘度升高,所以Li2O升高粘度較Na2O、K2O顯著,此時(shí)相應(yīng)的熔體粘度
(5)R2+對粘度作用:
R2+對O/Si影響與R+相同,同時(shí)應(yīng)考慮離子極化對粘度的影響。1008060402000.501.001.502.00離子半徑
(P)Si●Mg●ZnNi●●CaSr●Ba●●PbCa●●Cu●MnCd+2價(jià)離子對74SiO2-10CaO-16Na2O熔體粘度的影響Zn2+、Cd2+、Pb2+(含18e外層)有很大的極化作用,因此比鹼金屬離子熔體有更低的粘度。R2+降粘度次序:Pb2+>Ba2+>Cd2+>Zn2+>Ca2+(某些情況)>Mg2+R2+的解聚作用?。ò霃奖萊+大)聚集作用大(電荷高)(6)B2O3對粘度的影響(硼反常)
a.在B2O3-SiO2中加入Na2O。
[BO4]Na2O(a)b.在R2O-B2O3-SiO2系統(tǒng)中,當(dāng)RO+R2O/B2O3<1,[BO4]為基本單位,再加入R2O,[BO4]破壞,所以粘度下降;當(dāng)RO+R2O/B2O3>1,引入R2O,[BO4]增加,粘度增加。(b)or(c)粘度B2O3c.在Na2O-SiO2中加入
B2O3。(7)
混合堿效應(yīng)熔體中引入一種以上的R2O與RO時(shí),粘度比等量的一種R2O或RO高,這可能和離子半徑、配位數(shù)等結(jié)晶條件不同而相互制約有關(guān)。例:
思路:組成
結(jié)構(gòu)
性質(zhì)
組成變聚合物分佈變結(jié)合力變活化能變粘度變二、表面張力-表面能定義:擴(kuò)展液體表面需要做功,表面能即將表面增大一個(gè)單位面積所需要作的功(或把質(zhì)點(diǎn)從內(nèi)部移到表面所消耗的能量)。
比較:數(shù)值相同,但表面張力是向量,表面能是標(biāo)量。
單位:N/m或J/m2
矽酸鹽熔體的表面張力比一般液體高,它隨其組成而變化,一般波動(dòng)在220~380mN/m之間。σ影響溫度組成單位表面的質(zhì)點(diǎn)數(shù)表面質(zhì)點(diǎn)受內(nèi)部的結(jié)合力影響表面張力(σ)的因素——
5.B2O3的影響:[BO3]作平行於表面排列,層間結(jié)合力較小,表面張力很小(σ=80N/m),這樣的表面與熔體內(nèi)部之間能量差較小,所以B2O3是瓷釉中常用的降低表面張力的組分。
6.兩種熔體混合時(shí),表面張力不具加和性,其中較小的被排擠到表面富集,混合體的表面張力以較小的為主。7.負(fù)離子對粘度也有影響,F(xiàn)-和SO32-都有降低粘度的明顯作用。8.添加各種氧化物對熔體表面張力的影響
使σ增加的:SiO2
、Al2O3
、CaO、MgO(無表面活性)
使σ下降的:
(1)
K2O、PbO、B2O3
、Sb2O3
、Cr2O3
(有表面活性,當(dāng)加入量多時(shí)粘度下降。)
(2)
V2O5As2O5SO3(強(qiáng)表面活性劑)
例如:Al-Si酸鹽熔體σ=317mN/m,加入33%K2O使此熔體表面張力降至212mN/m;加入7%V2O5則表面張力可降至100mN/m
表面與介面
例如:石英的粉碎。1kg直徑為10-2米變成10-9米,表面積和表面能增加143倍。由於高分散系比低分散系能量高得多,必然使物系由於分散度的變化而使性質(zhì)方面有很大差別。
物理性質(zhì):熔點(diǎn)、沸點(diǎn)、蒸汽壓、溶解度、吸附、潤濕和燒結(jié)等
化學(xué)性質(zhì):化學(xué)活性、催化、固相反應(yīng)等總述理想晶體和玻璃體實(shí)際晶體和玻璃體理想晶體和玻璃體:假定任一個(gè)原子或離子都處在三維無限連續(xù)的空間中,周圍對它作用完全相同。實(shí)際晶體和玻璃體:處於物體表面的質(zhì)點(diǎn),其境遇和內(nèi)部是不同的,表面的質(zhì)點(diǎn)由於受力不均衡而處於較高的能階,所以導(dǎo)致材料呈現(xiàn)一系列特殊的性質(zhì)。內(nèi)容提要
固體表面力場與表面能。離子晶體在表面力場作用下,離子的極化與重排過程。多相體系中的介面化學(xué):如彎曲效應(yīng)、潤濕與粘附,表面改性。多晶材料中的晶界分類,多晶體的組織,晶界應(yīng)力與電荷。粘土膠粒帶電與水化等一系列由表面效應(yīng)而引起的膠體化學(xué)性質(zhì)如泥漿的流動(dòng)性和觸變性、泥團(tuán)的可塑性等。
第一節(jié)固體的表面主要內(nèi)容:固體表面的特徵、結(jié)構(gòu)和固體的表面能
定義表面--把一個(gè)相和它本身蒸汽或真空接觸的分界面。介面--把一相與另一相(結(jié)構(gòu)不同)接觸的分界面。
二、晶體表面結(jié)構(gòu)三、固體的表面能一、固體表面的特徵(1)
絕大多數(shù)晶體是各向異性,因而同一晶體可以有許多性能不同的表面。(2)同一種物質(zhì)製備和加工條件不同也會有不同的表面性質(zhì)。(3)晶格缺陷、空位或位錯(cuò)而造成表面不均勻。(4)在空氣中暴露,表面被外來物質(zhì)所污染,吸附外來原子可佔(zhàn)據(jù)不同的表面位置,形成有序或無序排列,也引起表面不均勻。(5)
固體表面無論怎麼光滑,從原子尺寸衡量,實(shí)際上也是凹凸不平的。1.固體表面的不均勻性,表現(xiàn)在:
一、固體表面的特徵
晶體中每個(gè)質(zhì)點(diǎn)周圍都存在著一個(gè)力場,在晶體內(nèi)部,質(zhì)點(diǎn)力場是對稱的。但在固體表面,質(zhì)點(diǎn)排列的週期重複性中斷,使處於表面邊界上的質(zhì)點(diǎn)力場對稱性破壞,表現(xiàn)出剩餘的鍵力,稱之為固體表面力。表面力的分類:定義:(1)範(fàn)得華力(分子引力)(2)長程力2.固體表面力場
(1)範(fàn)得華力(分子引力)
是固體表面產(chǎn)生物理吸附或氣體凝聚的原因。與液體內(nèi)壓、表面張力、蒸汽壓、蒸發(fā)熱等性質(zhì)有關(guān)。來源三方面:定向作用力FK(靜電力),發(fā)生於極性分子之間。
誘導(dǎo)作用力FD
,發(fā)生於極性與非極性分子之間。
分散作用力FL(色散力)
,發(fā)生於非極性分子之間。運(yùn)算式:F範(fàn)=FK+FD+FL
1/r7
說明:分子間引力的作用範(fàn)圍極小,一般為3~5A0。
當(dāng)兩個(gè)分子過分靠近而引起電子層間斥力約等於B/r3,
故範(fàn)得華力只表現(xiàn)出引力作用。
(2)長程力:屬固體物質(zhì)之間相互作用力,本質(zhì)仍是範(fàn)得華力。按作用原理可分為:
A.依靠粒子間的電場傳播的,如色散力,可以加和。
B.一個(gè)分子到另一個(gè)分子逐個(gè)傳播而達(dá)到長距離的。如誘導(dǎo)作用力。表面力的作用:液體:總是力圖形成球形表面來降低系統(tǒng)的表面能。固體:使固體表面處於較高的能量狀態(tài)(因?yàn)楣腆w不能流動(dòng)),
只能借助於離子極化、變形、重排並引起晶格畸變來降低表面能,其結(jié)果使固體表面層與內(nèi)部結(jié)構(gòu)存在差異。二、晶體表面結(jié)構(gòu)1.離子晶體表面超細(xì)結(jié)構(gòu)(微觀質(zhì)點(diǎn)排列)顯微結(jié)構(gòu)(表面幾何狀態(tài))說明:
1.
離子晶體MX在表面力作用下,處於表面層的負(fù)離子X在外側(cè)不飽和,負(fù)離子極化率大,通過電子雲(yún)拉向內(nèi)側(cè)正離子一方的極化變形來降低表面能。這一過程稱為鬆弛,它是瞬間完成的,接著發(fā)生離子重排。NaCl
晶體圖3-1離子晶體表面的電子雲(yún)變形和離子重排NaCl
晶體圖3-1離子晶體表面的電子雲(yún)變形和離子重排2.從晶格點(diǎn)陣穩(wěn)定性考慮作用力較大,極化率小的正離子應(yīng)處於穩(wěn)定的晶格位置而易極化的負(fù)離子受誘導(dǎo)極化偶極子排斥而推向外側(cè),從而形成表面雙電層。重排結(jié)果使晶體表面能量趨於穩(wěn)定。3、NaCl形成雙電層厚度為0.02nm,在Al2O3、SiO2、ZrO2等表面上也會形成雙電層。
4、當(dāng)表面形成雙電層後,它將向內(nèi)層發(fā)生作用,並引起內(nèi)層離子的極化和重排,這種作用隨著向晶體的縱深推移而逐步衰減。表面效應(yīng)所能達(dá)到的深度,與陰、陽離子的半徑差有關(guān),差愈大深度愈深。
5、離子極化性能愈大,雙電層愈厚,從而表面能愈低。
應(yīng)用:矽酸鹽材料生產(chǎn)中,通常把原料破碎研磨成微細(xì)粒子(粉體)以便於成型和高溫?zé)Y(jié)。分析面心立方結(jié)構(gòu)(100)、(110)、(111)三個(gè)低指數(shù)面上原子的分佈。(112.晶體表面的幾何結(jié)構(gòu)
實(shí)驗(yàn)觀測表明:固體的實(shí)際表面是不規(guī)則和粗糙的,最重要的表現(xiàn)為表面粗糙度和微裂紋。
表面粗糙度:(1)使表面力場變得不均勻,其活性及其它表面性質(zhì)也隨之發(fā)生變化。
(2)直接影響固體表面積,內(nèi)、外表面積比值以及相關(guān)的屬性。
(3)與兩種材料間的封接和結(jié)合介面間的嚙合和結(jié)合強(qiáng)度有關(guān)。表面裂紋因晶體缺陷或外力而產(chǎn)生。表面裂紋在材料中起著應(yīng)力倍增器的作用,使位於裂紋尖端的實(shí)際應(yīng)力遠(yuǎn)大於所施加的應(yīng)力。格裏菲斯關(guān)於微裂紋的公式:表面裂紋ub為破壞化學(xué)鍵所需能量us
為表面能
2.
離子晶體的表面能r0為0K時(shí)的表面能;LS為1m2表面上的原子數(shù);nis、nib分別表示第i個(gè)原子在晶體表面和晶體體內(nèi)最鄰近的原子數(shù);Uo為晶格能;N為阿佛加德羅常數(shù)。三、固體的表面能
1.共價(jià)晶體表面能
說明:
實(shí)際表面能比理想表面能的值低,原因可能為:
(1)
可能是表面層的結(jié)構(gòu)與晶體內(nèi)部相比發(fā)生了改變,表面被可極化的氧離子所屏蔽,減少了表面上的原子數(shù)。
(2)
可能是自由表面不是理想的平面,而是由許多原子尺度的階梯構(gòu)成,使真實(shí)面積比理論面積大。
總結(jié)
固體和液體的表面能與溫度、氣壓、第二相的性質(zhì)等條件有關(guān)。溫度上升,表面能下降。一、彎曲表面效應(yīng)彎曲表面:由於表面張力的存在而產(chǎn)生一個(gè)附加壓力ΔΡ。
對於球面:ΔΡ=2γ/rγ:為表面張力;
對於非球面:ΔΡ=γ(1/r1+1/r2)r:主曲率半徑。
討論:(1)
當(dāng)
r1=r2時(shí),ΔΡ=2γ/r;
(2)當(dāng)為兩塊相互平行的平板間的液體液面上ΔΡ=γ/r1(因?yàn)閞2=∞),當(dāng)r1
很小時(shí),此時(shí)壓力稱為毛細(xì)管力。附加壓力ΔΡ總是指向曲面的曲率中心,當(dāng)曲面為凸面時(shí)為正值,凹面時(shí)為負(fù)值。與曲率半徑成反比,而與表面張力成正比。第二節(jié)介面行為
潤濕是固-液介面上的重要行為。
應(yīng)用:機(jī)械的潤滑、金屬焊接、陶瓷和搪瓷的
坯釉結(jié)合、陶瓷與金屬的封接等。
定義:固液接觸後,體系吉布斯自由焓降低時(shí)
就稱為潤濕。分類::二、潤濕與粘附按潤濕程度附著潤濕鋪展?jié)櫇窠n潤濕
附著潤濕的吉布斯自由焓變化為:
ΔG1=γSL-(γLV+γSV)
附著功:W=γLV+γSV-γSL
W愈大表示固液介面結(jié)合愈牢,
即附著潤濕愈強(qiáng)。
附著潤濕液-氣介面(L-g)
固-氣介面(S-g)
固-液介面(S-L)固體液體潤濕張力:F=γLVcosθ
=γSV-γSL由此可看出:
在潤濕系統(tǒng)中(γSV>γSL),γLV
減小會使θ縮小,而在不潤濕系統(tǒng)中γLV
減小會使θ增大。
cosθ=γSV-γSLγLVθθ(A)(B)
(C)潤濕與液滴的形狀(A)潤濕,θ<90o(B)不潤濕,θ>90o(C)完全潤濕,θ=0o
,液體鋪開
鋪展?jié)櫇?90180
浸漬潤濕
浸漬潤濕指固體浸入液體中的過程。例:生坯的浸釉。浸漬潤濕自由能的變化:-ΔG=γLVcosθ=γSV-γSL
討論:若γSV>γSL,則θ<90o,浸漬潤濕過程將自發(fā)進(jìn)行,此時(shí)ΔG<0若γSV<γSL,則θ>90o,要將固體浸入液體之中必須做功,此時(shí)ΔG>0固液體固總結(jié):
1、三種潤濕的共同點(diǎn)是液體將氣體從固體表面排擠開,使原有的固-氣或液-氣介面消失,而代之以固-液介面。
2、改善潤濕的方法:由cosθ=(γSV-γSL)/γLV可知
(1)降低γSL(2)去除固體表面吸附膜,提高γSV(3)改變粗造度。當(dāng)真實(shí)接觸角θ<90o
,粗造度愈大表觀接觸角愈小,愈易潤濕。當(dāng)θ>90o,粗造度愈大愈不利潤濕。課堂總結(jié)
1、表面力的存在及對晶體結(jié)構(gòu)的影響(表面雙電層)
2、介面行為彎曲表面效應(yīng)
ΔΡ=γ(1/r1+1/r2)ΔG1=γSL-(γLV+γSV)W=γLV+γSV-γSL附著潤濕鋪展?jié)櫇窠n潤濕
潤濕與粘附
潤濕張力:F=γLVcosθ=γSV-γSL
-ΔG=γLVcosθ=γSV-γSL
一、晶界
1、定義:
2、晶界上的特性:晶界結(jié)構(gòu)疏鬆,在多晶體中晶界是原子快速擴(kuò)散的通道,並容易引起雜質(zhì)原子偏聚。晶界上有許多空位、位錯(cuò)和鍵變形等缺陷使之處於應(yīng)力畸變狀態(tài),故能階較高,使晶界成為固態(tài)相變時(shí)優(yōu)先成核區(qū)域。第三節(jié)晶界3、晶界結(jié)構(gòu)的分類:
(1).按兩個(gè)晶粒之間夾角的大小來分:
小角度晶界(約2o~3o)
大角度晶界
(2).根據(jù)晶界兩邊原子排列的連貫性來分:
共格晶界半共格晶界非共格晶界:共格晶界:介面兩側(cè)的晶體具有非常相似的結(jié)構(gòu)和類似的取向,越過介面原子面是連續(xù)的
半共格晶界:晶面間距比較小的一個(gè)相發(fā)生應(yīng)變,在介面位錯(cuò)線附近發(fā)生局部晶格畸變。非共格晶界:介面兩側(cè)結(jié)構(gòu)相差很大且與相鄰晶體間有畸變的原子排列。共格晶界半共格晶界:非共格晶界:長度4、晶界能:
晶界形狀由表面張力的相互關(guān)係決定。晶界在多面體中的形狀、構(gòu)造和分佈稱為晶界構(gòu)形。對於固-固-氣介面張力平衡關(guān)係:
對於固-固-液介面張力平衡關(guān)係:
(B)固-固-液平衡的二面角γSLγSSγSL固態(tài)晶粒
固態(tài)晶粒
γSVγSS(A)熱腐蝕角(槽角)ψγSV二、多晶體的組織γSS/γSLcos(
/2)
潤濕性相分佈
<1<1/2>1200
不孤立液滴
1~1/2~/2120~600
局部開始滲透晶界
>><600
潤濕在晶界滲開
>2100
全潤濕浸濕整個(gè)材料ABCDE(拋光斷面)不同熱處理時(shí)的第二相分佈:二面角
與潤濕關(guān)係:熱處理時(shí)形成的多相材料舉例
多晶材料中,如果有兩種不同熱膨脹係數(shù)的晶相組成,在加熱與冷卻過程中,由於兩相膨脹係數(shù)的差別,在晶界上會有應(yīng)力τ存在。最終會在晶界上出現(xiàn)裂紋,甚至使多晶體破裂。討論:(1)晶界應(yīng)力與熱膨脹係數(shù)差、溫度變化及複合層厚度成正比。
(2)若熱膨脹係數(shù)是各向同性,晶界應(yīng)力不會產(chǎn)生。
(3)若產(chǎn)生晶界應(yīng)力,則厚度愈厚,應(yīng)力愈大。結(jié)論:在多晶材料中,細(xì)而長的針狀晶粒的強(qiáng)度與抗沖擊性能較好。三、晶界應(yīng)力
相平衡
第一節(jié)矽酸鹽系統(tǒng)相平衡特點(diǎn)一、熱力學(xué)平衡態(tài)和非平衡態(tài)
1.
平衡態(tài)
相圖即平衡相圖,反應(yīng)的是體系所處的熱力學(xué)平衡狀態(tài),即僅指出在一定條件下體系所處的平衡態(tài)
(其中所包含的相數(shù),各相的狀態(tài)、數(shù)量和組成),與達(dá)平衡所需的時(shí)間無關(guān)。
矽酸鹽熔體即使處於高溫熔融狀態(tài),其粘度也很大,其擴(kuò)散能力很有限,因而矽酸鹽體系的高溫物理化學(xué)過程要達(dá)到一定條件下的熱力學(xué)平衡狀態(tài),所需的時(shí)間是比較長的,所以實(shí)際選用的是一種近似狀態(tài)。矽酸鹽系統(tǒng)相平衡是一種什麼狀態(tài)?2.介穩(wěn)態(tài)即熱力學(xué)非平衡態(tài),經(jīng)常出現(xiàn)於矽酸鹽系統(tǒng)中。
如:說明:介穩(wěn)態(tài)的出現(xiàn)不一定都是不利的。由於某些介穩(wěn)態(tài)具有所需要的性質(zhì),因而創(chuàng)造條件(快速冷卻或摻加雜質(zhì))
有意把它保存下來。
如:水泥中的β-C2S,陶瓷仲介穩(wěn)的四方氧化鋯;
耐火材料矽磚中的鱗石英以及所有的玻璃材料。α-石英α-鱗石英α-方石英
β-石英β-鱗石英β-方石英
γ-鱗石英573℃163℃117℃870℃1470℃180~270℃但由於轉(zhuǎn)變速度慢,實(shí)際可長期存在。根據(jù)吉布斯相律f=c-p+2
f-自由度數(shù)
c-獨(dú)立組分?jǐn)?shù)
p-相數(shù)
2-溫度和壓力外界因素矽酸鹽系統(tǒng)的相律為:f=c-p+1二、相律(i)相與相之間有介面,可以用物理或機(jī)械辦法分開。(ii)
一個(gè)相可以是均勻的,但不一定是一種物質(zhì)。
氣體:一般是一個(gè)相,如空氣組分複雜。
固體:有幾種物質(zhì)就有幾個(gè)相,但如果是固溶體時(shí)為一個(gè)相。因?yàn)樵诠倘荏w晶格上各組分的化學(xué)質(zhì)點(diǎn)隨機(jī)分佈均勻,其物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)符合相均勻性的要求,因而幾個(gè)組分形成的固溶體是一個(gè)相。
液體:視其混溶程度而定。
p-相數(shù),p=1單相系統(tǒng),p=2雙相系統(tǒng),p=3三相系統(tǒng)1、相:指系統(tǒng)中具有相同的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)的均勻部分。
注:均勻微觀尺度上的均勻,而非一般意義上的均勻。2、組分、獨(dú)立組分
(組元)組分:組成系統(tǒng)的物質(zhì)。
獨(dú)立組分:足以表示形成平衡系統(tǒng)中各相所需要的最少數(shù)目的組分:
c=組分?jǐn)?shù)-獨(dú)立化學(xué)反應(yīng)數(shù)目-限制條件
例如:
c=3-1-0=2系統(tǒng)中化學(xué)物質(zhì)和組分的關(guān)係:
當(dāng)物質(zhì)之間沒有化學(xué)反應(yīng)時(shí),化學(xué)物質(zhì)數(shù)目=組分?jǐn)?shù);當(dāng)物質(zhì)之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)時(shí),組分?jǐn)?shù)=化學(xué)物質(zhì)數(shù)-在穩(wěn)定條件下的化學(xué)反應(yīng)數(shù)。
在矽酸鹽系統(tǒng)中經(jīng)常採用氧化物作為系統(tǒng)的組分。如:SiO2一元系統(tǒng)
Al2O3-SiO2二元系統(tǒng)
CaO-Al2O3-SiO2三元系統(tǒng)注意區(qū)分:2CaO.SiO2(C2S);CaO-SiO2;K2O.Al2O3..4SiO2-SiO23、自由度(f)
定義:溫度、壓力、組分濃度等可能影響系統(tǒng)平衡狀態(tài)的變數(shù)中,
可以在一定範(fàn)圍內(nèi)改變而不會引起舊相消失新相產(chǎn)生的獨(dú)立變數(shù)的數(shù)目
具體看一個(gè)二元系統(tǒng)的自由度。ABLf=2L+Bf=1A+Bf=1L+Af=1f=0E
相律應(yīng)用必須注意以下四點(diǎn):
1.
相律是根據(jù)熱力學(xué)平衡條件推導(dǎo)而得,因而只能處理真實(shí)的熱力學(xué)平衡體系。
2.
相律運(yùn)算式中的“2”是代表外界條件溫度和壓強(qiáng)。如果電場、磁場或重力場對平衡狀態(tài)有影響,則相律中的“2”應(yīng)為“3”、“4”、“5”。如果研究的體系為固態(tài)物質(zhì),可以忽略壓強(qiáng)的影響,相律中的“2”應(yīng)為“1”。
3.
必須正確判斷獨(dú)立組分?jǐn)?shù)、獨(dú)立化學(xué)反應(yīng)式、相數(shù)以及限制條件數(shù),才能正確應(yīng)用相律。
4.
自由度只取“0”以上的正值。如果出現(xiàn)負(fù)值,則說明體系可能處於非平衡態(tài)。熱分析法差熱分析法(DTA)溶解度法
靜態(tài)法(淬冷法)
動(dòng)態(tài)法三、相平衡研究方法1、熱分析法
原理:根據(jù)系統(tǒng)在冷卻過程中溫度隨時(shí)間的變化情況來判斷系統(tǒng)中是否發(fā)生了相變化。
做法:
(1)
將樣品加熱成液態(tài);
(2)
令其緩慢而均勻地冷卻,記錄冷卻過程中系統(tǒng)在不同時(shí)刻的溫度數(shù)據(jù);
(3)
以溫度為縱坐標(biāo),時(shí)間為橫坐標(biāo),繪製成溫度-時(shí)間曲線,即步冷曲線(冷卻曲線);
(4)
由若干條組成不同的系統(tǒng)的冷卻曲線就可以繪製出相圖。以Bi-Cd為例:Cd品質(zhì)百分?jǐn)?shù):a,0%;b,20%;c,40%;d,75%;e,100%
abcde
冷卻曲線Bi-Cd系統(tǒng)的相圖
Bi(s)+Cd(s)L+Bi(s)L+Cd(s)
L優(yōu)點(diǎn):簡便,不象淬冷法那樣費(fèi)時(shí)費(fèi)力。缺點(diǎn):由於本質(zhì)上是一種動(dòng)態(tài)法,不象淬冷法那樣更符合相平衡的熱力學(xué)要求,所測得相變溫度僅是一個(gè)近似值只能測定相變溫度,不能確定相變前後的物相,要確定物相仍需其他方法配合。mv2mv1自動(dòng)記錄惰性基準(zhǔn)物試樣加熱器隔熱板鉑絲鉑絲鉑銠絲mv1---試樣溫度變化mv2---電勢差2、差熱分析法(DTA)3、溶解度法適用於水-鹽系統(tǒng)的相圖。
4、淬冷法
最大優(yōu)點(diǎn):準(zhǔn)確度高。因?yàn)殚L時(shí)間保溫較接近平衡狀態(tài),淬冷後在室溫下又可對試樣中平衡共存的相數(shù)、各相的組成、形態(tài)和數(shù)量直接進(jìn)行測定。
適用對象:適用於相變速度慢的系統(tǒng),如果快則在淬冷時(shí)發(fā)生相變。
單元系統(tǒng)中,只有一種組分,不存在濃度問題。影響因素只有溫度和壓力。因?yàn)閏=1,
根據(jù)相律f=c-p+2=3-p
一、水的相圖二、一元相圖的型式三、可逆和不可逆的多晶轉(zhuǎn)變四、SiO2系統(tǒng)的相圖五、ZrO2系統(tǒng)第二節(jié)單元系統(tǒng)蒸發(fā)溶解昇華ABCOC’SLg臨界點(diǎn)壓強(qiáng)溫度一、水的相圖分析界線斜率?具體分析相圖?注意:冰點(diǎn):是一個(gè)大氣壓下被空氣飽和的水和冰的平衡共存溫度;
三相點(diǎn)O:是在它自己的蒸汽壓力(4.579mmHg)下的凝固點(diǎn)(0.0099℃)。2000個(gè)大氣壓以上,可得幾重冰,比重大於水。T=374℃P=217.7大氣壓ABCOC’SLg蒸發(fā)溶解昇華臨界點(diǎn)P溫度解釋界線的斜率:
由克勞修斯-克拉珀龍方程dp/dT=ΔH/TΔV,
從低溫型向高溫轉(zhuǎn)變,ΔH>0L
g;S
gΔV>0,則斜率>0;
而S
L
冰變成水ΔV<0,斜率<0,
其他金屬或SiO2,,ΔV>0,則斜率>0。
如對於有晶型轉(zhuǎn)變的,由於ΔV很小,因而其界線幾乎是垂直的。
有多晶轉(zhuǎn)變的一元系統(tǒng)相圖型式。EF壓強(qiáng)Af=2Bf=0Cf=0D溫度氣相f=2β-固相f=2α-固相f=2液相二、一元相圖的型式
一元系統(tǒng)相圖中各平衡相名稱平衡相
ABCD氣相
ABEβ-固相相區(qū)EBCFα-固相
FCD液相
AB氣相-
β-固相相線BC氣相-
α-固相
CD氣相-液相
BEβ-固相-α-固相
FCα-固相-液相相點(diǎn)Bβ-固相-α-固相-氣相
Cα-固相-氣相-液相1.可逆三、可逆和不可逆的多晶轉(zhuǎn)變實(shí)線表示穩(wěn)定態(tài),虛線表示介穩(wěn)態(tài)。晶體1晶體2液相特點(diǎn):(1)晶體I,晶體2都有穩(wěn)定區(qū);
(2)T12<T1,,T2(熔點(diǎn))
PT11/22/LL/T12T1T2PT11/22/LL/T12T1T2穩(wěn)定相與介穩(wěn)相的區(qū)別:
(1)
每一個(gè)穩(wěn)定相有一個(gè)穩(wěn)定存在的溫度範(fàn)圍,超過這個(gè)範(fàn)圍就變成介穩(wěn)相。
(2)在一定溫度下,穩(wěn)定相具有最小蒸汽壓。
(3)介穩(wěn)相有向穩(wěn)定相轉(zhuǎn)變的趨勢,但從動(dòng)力學(xué)角度講,轉(zhuǎn)變速度很慢,能長期保持自己的狀態(tài)。特點(diǎn):(1)晶體II沒有自己穩(wěn)定存在的區(qū)域。(2)T12點(diǎn)是晶型轉(zhuǎn)變點(diǎn),T2是晶體II的熔點(diǎn),T1
是晶I的熔點(diǎn)。
晶體I晶體II
T1T2T12液相L/TPLgsL211/2.不可逆2/T2T1T12四、SiO2系統(tǒng)的相圖
SiO2在自然界儲量很大,以多種礦物的形態(tài)出現(xiàn)。如水晶、瑪瑙、砂巖、蛋白石、玉髓、燧石等。在常壓和有礦化劑存在的條件下,固態(tài)有7種晶型,其轉(zhuǎn)變溫度如下:α-石英同級轉(zhuǎn)變(慢)α-鱗石英α-方石英熔融石英同類轉(zhuǎn)變(快)熔體(1600℃)β-石英870℃1723℃1470℃573℃
熔體(1670℃)163℃117℃β-鱗石英γ-鱗石英180~270℃β-方石英石英玻璃急冷SiO2相圖1、在573℃以下的低溫,SiO2的穩(wěn)定晶型為
-石英,加熱至573℃轉(zhuǎn)變?yōu)楦邷匦偷?/p>
-石英,這種轉(zhuǎn)變較快;冷卻時(shí)在同一溫度下以同樣的速度發(fā)生逆轉(zhuǎn)變。如果加熱速度過快,則
-石英過熱而在1600℃時(shí)熔融。如果加熱速度很慢,則在870℃轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-鱗石英。2、
-鱗石英在加熱較快時(shí),過熱到1670℃時(shí)熔融。當(dāng)緩慢冷卻時(shí),在870℃仍可逆地轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-石英;當(dāng)迅速冷卻時(shí),沿虛線過冷,在163℃轉(zhuǎn)變?yōu)榻榉€(wěn)態(tài)的
-鱗石英,在117℃轉(zhuǎn)變?yōu)榻榉€(wěn)態(tài)的
-鱗石英。加熱時(shí)
-鱗石英仍在原轉(zhuǎn)變溫度以同樣的速度先後轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-鱗石英和
-鱗石英。3、
-鱗石英緩慢加熱,在1470℃時(shí)轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-方石英,繼續(xù)加熱到1713℃熔融。當(dāng)緩慢冷卻時(shí),在1470℃時(shí)可逆地轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-鱗石英;當(dāng)迅速冷卻時(shí),沿虛線過冷,在180~270℃轉(zhuǎn)變?yōu)榻榉€(wěn)狀態(tài)的
-方石英;當(dāng)加熱
-方石英仍在180~270℃迅速轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定狀態(tài)的
-方石英。4、熔融狀態(tài)的SiO2由於粘度很大,冷卻時(shí)往往成為過冷的液相--石英玻璃。雖然它是介穩(wěn)態(tài),由於粘度很大在常溫下可以長期不變。如果在1000℃以上持久加熱,也會產(chǎn)生析晶。熔融狀態(tài)的SiO2,只有極其緩慢的冷卻,才會在1713℃可逆地轉(zhuǎn)變?yōu)?/p>
-方石英。綜述:
1、在SiO2的多晶轉(zhuǎn)變中,
同級轉(zhuǎn)變:
-石英
-鱗石英
-方石英轉(zhuǎn)變很慢,要加快轉(zhuǎn)變,必須加入礦化劑。
同類轉(zhuǎn)變:
-、
-和
-型晶體,轉(zhuǎn)變速度非???。
2、不同的晶型有不同的比重,
-石英的最大。
3、
SiO2的多晶轉(zhuǎn)變的體積效應(yīng)(見表6-1)
結(jié)論:同級轉(zhuǎn)變V大,
-石英
-鱗石英的
VMAX=16%
同類轉(zhuǎn)變V小,鱗石英V最小,為0.2%;方石英V最大,為2.8%。同類轉(zhuǎn)變速度快,因而同類轉(zhuǎn)變的危害大。
4、對SiO2的相圖進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn):
SiO2的所有處於介穩(wěn)狀態(tài)的熔體的飽和蒸汽壓都比相同溫度範(fàn)圍內(nèi)處於熱力學(xué)穩(wěn)定態(tài)的熔體的飽和蒸汽壓高。
理論和實(shí)踐證明,在給定的溫度範(fàn)圍,具有最小蒸汽壓的相一定是最穩(wěn)定的相,而兩個(gè)相如果處於平衡狀態(tài)其蒸汽壓必定相等。以耐火材料矽磚的生產(chǎn)和使用為例。原料:天然石英(
-石英)生產(chǎn)方式:高溫?zé)彑娃D(zhuǎn)變:很複雜(原因:介穩(wěn)狀態(tài)的出現(xiàn))要求:鱗石英含量越多越好,而方石英越少越好。實(shí)際情況:
相圖的應(yīng)用:加熱至573℃很快轉(zhuǎn)變?yōu)棣?石英,當(dāng)加熱至870℃不轉(zhuǎn)變?yōu)轺[石英,在生產(chǎn)條件下,常過熱到1200℃~1350℃直接轉(zhuǎn)變?yōu)榻榉€(wěn)的α-方石英。
石英、鱗石英和方石英三種變體的高低溫型轉(zhuǎn)變中,方石英V變化最大,石英次之,而鱗石英最小。如果製品中方石英含量大,則在冷卻到低溫時(shí),由於α-方石英轉(zhuǎn)變成
-方石英有較大的體積收縮而難以獲得緻密的矽磚製品。原因:1、在870℃適當(dāng)保溫,促使鱗石英生成;
2、在1200~1350℃小心加快升溫速度避免生成α-方石英;3、在配方中適當(dāng)加入Fe2O3、MnO2、CaO或Ca(OH)2
等礦化劑,在1000℃左右產(chǎn)生一定量的液相,α-
石英、α-方石英在此液相中的溶解度大,而α-鱗
石英的溶解度小,因而α-石英、α-方石英不斷溶入液相,而α-鱗
石英則不斷從液相中析出。採取的措施:
ZrO2
有三種晶型:單斜ZrO2,四方ZrO2和立方ZrO2
其轉(zhuǎn)變關(guān)係:單斜ZrO2
四方ZrO2
立方ZrO2
1200℃2370℃1000℃0100020003000溫度(℃)四方立方單斜壓力熔體五、ZrO2系統(tǒng)ZrO2用途1、作為特種陶瓷的重要原料
由於7%~9%的體積效應(yīng),常加適量CaO或Y2O3。在>1500℃形成立方晶型固溶體,稱穩(wěn)定化立方ZrO2
2、熔點(diǎn)高(2680℃),作耐火材料3、利用導(dǎo)氧導(dǎo)電性能,作氧敏感測器元件4、利用體積效應(yīng),對陶瓷材料進(jìn)行相變增韌。
二元凝聚系統(tǒng),f=c-p+1=2-p+1=3-p
二元系統(tǒng)相圖以濃度為橫坐標(biāo),溫度為縱坐標(biāo)來繪製的。二元相圖的八種類型:
1、具有低共熔點(diǎn)的二元系統(tǒng);
2、生成一致熔融化合物的二元系統(tǒng);
3、生成不一致熔融化合物的二元系統(tǒng);
4、固相中有化合物形成或分解的系統(tǒng);
5、具有多晶轉(zhuǎn)變的系統(tǒng);
6、具有液相分層的系統(tǒng);
7、形成連續(xù)固溶體的系統(tǒng);
8、形成不連續(xù)固溶體的系統(tǒng)。第三節(jié)二元系統(tǒng)學(xué)習(xí)相圖的要求:
1、相圖中點(diǎn)、線、面含義;
2、析晶路程;
3、杠桿規(guī)則;
4、相圖的作用。1、E:低共熔點(diǎn)L
A+Bf=0TAE液相線L
Af=1TBE液相線L
Bf=12、M點(diǎn)析晶路程一、具有低共熔點(diǎn)的二元系統(tǒng)相圖ATBEA+BA+LB+LTAB%LBMLp=1f=2M(熔體)L1[s1,(A)]L
Ap=2f=1L2[s2,A]L
Ap=2f=1E[sE,A+(B)]LA+Bp=3f=0E(液相消失)[ME,A+B]p=2f=1[M3,A+B]ATBA+LB+LTAB%LBMA+BEL2S2L1S1SEMEM33、杠桿規(guī)則
ATBA+LB+LTAB%LBMA+BEL2S2L1S1SEMEM3M2M1T1T2TE
(1)T1:固相量S%=0;液相量L%=100%;
(2)T2:S%=M2L2/S2L2×100%;L%=M2S2/S2L2×100%
(3)
剛到TE:晶體B未析出,固相只含A。
S%=MEE/SEE×100%;L%=MESE/SEE
×100%
(4)
離開TE:L消失,晶體A、B
完全析出。
SA%=MEB/AB×100%;SB%=MEA/AB×100%4、相圖的作用
(1)知道開始析晶的溫度,析晶終點(diǎn),熔化終點(diǎn)的溫度;
(2)平衡時(shí)相的種類;
(3)平衡時(shí)相的組成
預(yù)測瓷胎的顯微結(jié)構(gòu)
預(yù)測產(chǎn)品性質(zhì)
(4)
平衡時(shí)相的含量。一致熔融化合物:液相和固相組成一致。AAmBnBMNL+ALA+AmBnB+AmBnB+LL+AmBnL+AmBnE1E21、E1、E2均為低共熔點(diǎn);2、冷卻組成變化路線;3、杠桿規(guī)則;4、相圖作用:當(dāng)原始配料落在A-AmBn範(fàn)圍內(nèi),最終析晶產(chǎn)物為A和AmBn;
當(dāng)原始配料落在B-AmBn範(fàn)圍內(nèi),最終析晶產(chǎn)物為B和AmBn;二、生成一致熔融二元化合物的二元系統(tǒng)相圖不一致熔融化合物:是不穩(wěn)定化合物,加熱這種化合物到某一溫度便分解成討論1、E:低共熔點(diǎn),f=0,是析晶終點(diǎn),LA+C;
P:轉(zhuǎn)熔點(diǎn)或回吸點(diǎn),f=0,不一定是析晶終點(diǎn),
L+BC一種液相和一種晶相,二者組成與化合物組成皆不相同。bL+AL+CA+CC+BACBL+BTaTEEPKL三、生成一個(gè)不一致熔融化合物的二元相圖bL+AL+CA+CC+BACBL+BTaEKL12析晶路線Lp=1f=2熔體1K
[M,(B)]P[F,開始回吸B+(C)]P[D,晶體B消失+C]LP
Cp=2f=1E[H,C+(A)]E(液相消失)[O,A+C]LA+Cp=3f=0L
Bp=2f=1LP
+B
Cp=3f=0PFMGBCLDOH同理可分析組成2的冷卻過程。在轉(zhuǎn)熔點(diǎn)P處,
L+BC時(shí),L先消失,固相組成點(diǎn)為D和F,其含量
由D、J、F三點(diǎn)相對位置求出。P點(diǎn)是回吸點(diǎn)又是析晶終點(diǎn)。BCLbL+AL+CA+CACBL+BTaEP
D
J
FML2B+C組成3在P點(diǎn)回吸,在L+BC時(shí)L+B同時(shí)消失,
P點(diǎn)是回吸點(diǎn)又是析晶終點(diǎn)。bL+AL+CA+CC+BACBL+BTaEP
D
L3BCLP點(diǎn)是過渡點(diǎn),因?yàn)闊oB相生成。bL+AL+CA+CC+BACBL+BTaTEEPLLp=1f=2熔體4F
[D,(C)]E[H,C+(A)]E(液相消失)[L,A+C]L
Cp=2f=1LA+Cp=3f=04FD
L
H
組成反應(yīng)性質(zhì)(TP)析晶終點(diǎn)析晶終相組成在PD之間L+BC;B先消失EA+CDF之間L+BC;L先消失PB+CD點(diǎn)L+BC;L+B同時(shí)消失PCP點(diǎn)L+(B)CEA+C總結(jié)規(guī)律:4bL+AL+CA+CC+BACBL+BTaTEEPKL132DF化合物在低溫形成高溫分解L+AL+BA+BACBA+CC+BETaTeTd1ABA+BA+CB+CA+BEL+AL+B化合物存在於某一溫度範(fàn)圍內(nèi)2四、固相中有化合物形成或分解的二元系統(tǒng)相圖A
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