現(xiàn)代材料分析方法

關(guān)于現(xiàn)代材料分析方法2概述

功能：觀察材料斷口和顯微組織三維形態(tài)，進(jìn)行材料表面成分分析。成像原理：不采用電磁透鏡放大成像，而是利用細(xì)聚焦電子束在試樣表面上掃描時(shí)激發(fā)出來的各種物理信號來調(diào)制成像；特點(diǎn)：分辨本領(lǐng)高、放大倍數(shù)連續(xù)可調(diào)、樣品制備簡單；第2頁,共102頁，2024年2月25日，星期天3第3頁,共102頁，2024年2月25日，星期天46.1電子束與固體樣品作用時(shí)

產(chǎn)生的信號樣品在電子束的轟擊下產(chǎn)生的各種物理信號第4頁,共102頁，2024年2月25日，星期天5一、二次電子二次電子應(yīng)用：對樣品表面狀態(tài)非常敏感，能有效顯示樣品表面的微觀形貌。二次電子定義：在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的核外電子稱為二次電子。二次電子特點(diǎn)：距樣品表面5～10nm

深度范圍激發(fā)出來的低能電子（<50eV）；

由于二次電子的產(chǎn)生與原子序數(shù)無關(guān)，不能用于定性分析（成分分析）。第5頁,共102頁，2024年2月25日，星期天6二、背散射電子定義：被固體樣品中的原子核或核外電子反彈回來的一部分入射電子，其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。彈性背散射電子：被樣品中原子核反彈回來，散射角大于90度的入射電子。電子能量基本不損失，可達(dá)數(shù)千到數(shù)萬電子伏特。非彈性背散射電子：入射電子和樣品原子核外電子撞擊后產(chǎn)生的非彈性散射。若這些電子經(jīng)多次散射后仍能反彈出樣品表面，就形成非彈性背散射電子。第6頁,共102頁，2024年2月25日，星期天7背散射電子的應(yīng)用：由于背散射電子的多少與構(gòu)成樣品的原子序數(shù)有關(guān)，原子序數(shù)愈大，背散射電子數(shù)量愈多，因此不僅可進(jìn)行形貌分析，也可以進(jìn)行成分分析。第7頁,共102頁，2024年2月25日，星期天8背散射電子的成像分辨率較低，50～200nm第8頁,共102頁，2024年2月25日，星期天9

三、吸收電子吸收電子定義：入射電子進(jìn)入樣品后，經(jīng)多次非彈性散射，能量損失殆盡，最后被樣品吸收，不能逸出表面，這部分電子稱為吸收電子。吸收電子的應(yīng)用：可進(jìn)行微區(qū)成分分析。吸收電子的成像分辨率低，一般為100～1000nm。第9頁,共102頁，2024年2月25日，星期天10吸收電子像第10頁,共102頁，2024年2月25日，星期天11四、特征x射線分辨率低比較低，為100～1000nm。定義：原子內(nèi)層電子受到激發(fā)后，在能級躍遷過程中直接釋放的，具有特征能量和波長的x射線稱為特征x射線。應(yīng)用：進(jìn)行成分分析和晶體結(jié)構(gòu)研究。第11頁,共102頁，2024年2月25日，星期天12五、俄歇電子定義：激發(fā)態(tài)的原子體系，釋放能量的形式不是以X射線形式，而是把空位層內(nèi)的另一個(gè)電子發(fā)射出去，這個(gè)被電離出來的電子具有特征能量，稱為俄歇電子。應(yīng)用：距試樣表面1nm深度范圍內(nèi)逸出來的，因此可進(jìn)行表層成分分析。一個(gè)原子中至少要有三個(gè)以上電子才能產(chǎn)生俄歇效應(yīng)，鈹是產(chǎn)生俄歇效應(yīng)的最輕元素。第12頁,共102頁，2024年2月25日，星期天13六、透射電子定義：若被分析的樣品很薄，則一部分入射電子能透過樣品，這部分電子稱為透射電子。應(yīng)用：可進(jìn)行樣品的微區(qū)成分分析。第13頁,共102頁，2024年2月25日，星期天14其它物理信號

除了上述六種信號外，固體樣品中還會產(chǎn)生例如陰極熒光、電子束感生效應(yīng)和電動(dòng)勢等信號，這些信號經(jīng)過調(diào)制后也可以用于專門的分析。第14頁,共102頁，2024年2月25日，星期天15

6.2

掃描電鏡的構(gòu)造

和工作原理掃描電鏡構(gòu)造：由電子光學(xué)系統(tǒng)，信號收集處理、圖像顯示和記錄系統(tǒng)，真空系統(tǒng)系統(tǒng)三部分組成。第15頁,共102頁，2024年2月25日，星期天16掃描電子顯微鏡結(jié)構(gòu)原理方框圖第16頁,共102頁，2024年2月25日，星期天17掃描電鏡成像示意圖第17頁,共102頁，2024年2月25日，星期天18一、電子光學(xué)系統(tǒng)電子光學(xué)系統(tǒng)組成：包括電子槍、電磁透鏡、掃描線圈、樣品室。第18頁,共102頁，2024年2月25日，星期天19樣品室第19頁,共102頁，2024年2月25日，星期天20二、信號收集和圖像顯示系統(tǒng)鏡筒中的電子束和顯像管中的電子束是同步掃描，熒光屏上的亮度根據(jù)樣品上被激發(fā)出來的信號強(qiáng)度來調(diào)制，由檢測器接收的信號強(qiáng)度隨樣品表面狀態(tài)不同而變化，由信號檢測系統(tǒng)輸出的反映樣品表面狀態(tài)特征的調(diào)制信號在圖像顯示和記錄系統(tǒng)中就轉(zhuǎn)換成一幅與樣品表面特征一致的放大的掃描像。第20頁,共102頁，2024年2月25日，星期天21

6.3

掃描電鏡的主要性能一、放大倍數(shù)式中：M－放大倍數(shù)；

As－入射電子束在試樣上的掃描幅度；

Ac

－顯像管電子束在熒光屏上的掃描幅度。目前SEM的放大倍數(shù)為20～20萬倍。第21頁,共102頁，2024年2月25日，星期天22二、分辨本領(lǐng)

圖像分辨本領(lǐng)表示方法有兩種：①兩相鄰亮區(qū)中心距離的最小值；②暗區(qū)寬度的最小值。微區(qū)成分分析：能分析的最小區(qū)域；成像：能分辨兩點(diǎn)之間的最小距離。第22頁,共102頁，2024年2月25日，星期天23①入射束在樣品中的擴(kuò)展效應(yīng)導(dǎo)致相互作用體積產(chǎn)生，以及信號產(chǎn)生的深度和廣度。分辨本領(lǐng)的決定因素：第23頁,共102頁，2024年2月25日，星期天24②操作方式及成像信號的影響：體積的形狀和大小決定了各種物理信號的深度和廣度，不同信號調(diào)制的掃描像有不同的分辨本領(lǐng)。③樣品原子序數(shù)的影響：原子序數(shù)愈大，電子束進(jìn)入樣品表面的橫向擴(kuò)展愈大，分辨率愈低。第24頁,共102頁，2024年2月25日，星期天25各種物理信號的分辨率信號分辨率(nm)發(fā)射深度(nm)二次電子5~105~10背散射電子50~200100~1000吸收電子100~1000透射電子0.5~10X射線100~1000500~5000俄歇電子5~100.5~2第25頁,共102頁，2024年2月25日，星期天26

6.4表面形貌襯度原理及其應(yīng)用二次電子成像原理第26頁,共102頁，2024年2月25日，星期天27

二次電子信號強(qiáng)度與試樣原子序數(shù)沒有關(guān)系，但對微區(qū)表面的幾何形狀很敏感，是試樣表面傾角的函數(shù)。表面微區(qū)形貌差別實(shí)際上就是其對入射電子束的傾角不同，電子束在試樣上掃描時(shí)任何兩點(diǎn)的形貌差別，表現(xiàn)為信號強(qiáng)度的差別，在圖像中形成顯示形貌的襯度。第27頁,共102頁，2024年2月25日，星期天28二次電子的產(chǎn)額與電子束入射角度的關(guān)系為：α為入射電子束與試樣表面法線的夾角。第28頁,共102頁，2024年2月25日，星期天29

入射電子束與試樣表面法線間夾角愈大，二次電子產(chǎn)額愈大。二次電子成像原理圖第29頁,共102頁，2024年2月25日，星期天30二次電子形貌襯度示意圖第30頁,共102頁，2024年2月25日，星期天31掃描電鏡應(yīng)用SEM廣泛應(yīng)用于水泥、陶瓷、金屬、復(fù)合材料研究中，主要有以下幾方面：(1)斷口分析直接觀察。低、高倍觀察分析，顯示斷口形貌特征，揭示斷裂機(jī)理；(2)顯微組織觀察分析組成相的形成機(jī)理和三維立體形態(tài)特征。第31頁,共102頁，2024年2月25日，星期天掃描電鏡結(jié)果分析示例β—Al2O3試樣高體積密度與低體積密度的形貌像2200×拋光面第32頁,共102頁，2024年2月25日，星期天33斷口分析典型的功能陶瓷沿晶斷口的二次電子像，斷裂均沿晶界發(fā)生，有晶粒拔出現(xiàn)象，晶粒表面光滑，還可以看到明顯的晶界相。第33頁,共102頁，2024年2月25日，星期天34粉體形貌觀察α—Al203團(tuán)聚體(a)和團(tuán)聚體內(nèi)部的一次粒子結(jié)構(gòu)形態(tài)(b)(a)300×

(b)6000×第34頁,共102頁，2024年2月25日，星期天35鈦酸鉍鈉粉體的六面體形貌第35頁,共102頁，2024年2月25日，星期天36多孔SiC陶瓷的二次電子像第36頁,共102頁，2024年2月25日，星期天37氟-羥磷灰石由六方柱為主組成的完好晶形，晶體端面上可見熔蝕坑

第37頁,共102頁，2024年2月25日，星期天38第38頁,共102頁，2024年2月25日，星期天第7章電子探針x射線顯微分析第39頁,共102頁，2024年2月25日，星期天40電子探針儀（EPMA）是一種微區(qū)成分分析儀器。采用被聚焦成小于1μm的高速電子束轟擊樣品表面，利用電子束與樣品相互作用激發(fā)出的特征x射線，測量其波長λ和強(qiáng)度Ι，確定微區(qū)的定性、定量的化學(xué)成分。SEM-EPMA組合型儀器，具有掃描放大成像和微區(qū)成分分析兩方面功能。第40頁,共102頁，2024年2月25日，星期天417.1

電子探針儀的構(gòu)造及工作原理

λ與樣品材料的Z有關(guān)，測出λ

，即可確定相應(yīng)元素的Z。

具有足夠能量的細(xì)電子束轟擊試樣表面，激發(fā)特征x射線，其波長為：定性分析原理：第41頁,共102頁，2024年2月25日，星期天42

某種元素的特征x射線強(qiáng)度與該元素在樣品中的濃度成比例，測出x射線強(qiáng)度I，就可計(jì)算出該元素的相對含量。定量分析原理：第42頁,共102頁，2024年2月25日，星期天43電子探針儀的構(gòu)造

主要有柱體（鏡筒）、x射線譜儀、記錄顯示系統(tǒng)。

電子探針的信號檢測系統(tǒng)是x射線譜儀，用來測定特征波長的譜儀叫波長分散譜儀(WDS)或波譜儀。用來測定x射線特征能量的譜儀叫能量分散譜儀(EDS)或能譜儀。第43頁,共102頁，2024年2月25日，星期天44

電子探針儀的結(jié)構(gòu)示意圖第44頁,共102頁，2024年2月25日，星期天45一、波長分散譜儀（WDS）波長分散譜儀的工作原理

由布拉格定律，從試樣中發(fā)出的特征x射線，經(jīng)一定晶面間距的晶體分光，波長不同的特征x射線將有不同的衍射角

。

連續(xù)改變

，在與x射線入射方向呈2

的位置上測到不同波長的特征x射線信號。由莫塞萊定律可確定被測物質(zhì)所含元素。第45頁,共102頁，2024年2月25日，星期天46第46頁,共102頁，2024年2月25日，星期天47第47頁,共102頁，2024年2月25日，星期天48分光晶體

專門用來對x射線起色散（分光）作用的晶體，具有良好的衍射性能、強(qiáng)的反射能力和好的分辨率。晶體展譜遵循布拉格方程，對于不同λ的x射線，需要選用與其波長相當(dāng)?shù)姆止饩w。為了提高接收x射線強(qiáng)度，分光晶體通常使用彎曲晶體。第48頁,共102頁，2024年2月25日，星期天49波長色散譜合金鋼定點(diǎn)分析的譜線圖第49頁,共102頁，2024年2月25日，星期天50WDS特點(diǎn)：④分析元素范圍寬。4Be－92U；①分析速度慢。單個(gè)元素測量，做全分析時(shí)間較長；②分辨率高。10eV。譜儀分辨率是指分開、識別相鄰兩個(gè)譜峰的能力；③測量精度高。多用于超輕元素Z<9測量；⑤樣品表面要求平整、光滑。第50頁,共102頁，2024年2月25日，星期天51二、能量色散譜儀（EDS）

利用固態(tài)檢測器（鋰漂移硅）測量每個(gè)x射線光子的能量，并按E大小展譜，得到以能量為橫坐標(biāo)、強(qiáng)度為縱坐標(biāo)的x射線能量色散譜，顯示于熒光屏上。第51頁,共102頁，2024年2月25日，星期天52工作原理

入射x射線光子E不同，激發(fā)的N不同，探測器輸出電壓脈沖高度由N決定。鋰漂移硅檢測器，習(xí)慣記Si(Li)探測器。

x射線光子進(jìn)入Si晶體內(nèi)，產(chǎn)生電子–空穴對，在100K左右溫度時(shí)，每產(chǎn)生一個(gè)電子–空穴對消耗的平均能量為3.8eV。能量為E的x射線光子所激發(fā)的電子–空穴對數(shù)N為：N＝E／

第52頁,共102頁，2024年2月25日，星期天53NaCl的掃描形貌像及其能量色散譜第53頁,共102頁，2024年2月25日，星期天54EDS特點(diǎn)：①分析速度快；②分辨率較低：150eV；③分析元素范圍：11Na－92U；④對樣品污染作用??；⑤適于粗糙表面成分分析；⑥探測器須在液氮溫度下使用，維護(hù)費(fèi)用高。第54頁,共102頁，2024年2月25日，星期天55WDS

與EDS比較①WDS分析元素范圍廣、分辨率高、適于精確的定量分析，對樣品表面要求高、分析速度慢，易引起樣品和鏡筒的污染；②EDS在分析元素范圍、分辨率方面略遜，分析速度快、對樣品表面要求不高、可用較小的束流和細(xì)微電子束，適于與SEM配合使用；第55頁,共102頁，2024年2月25日，星期天56能譜儀和波譜儀的譜線比較第56頁,共102頁，2024年2月25日，星期天57第57頁,共102頁，2024年2月25日，星期天58比較項(xiàng)目WDSEDS元素分析范圍元素分析方法分辨率靈敏度檢測效率定量分析精度儀器特殊性4Be～92U分光晶體逐個(gè)元素分析高低低，隨波長而變化好多個(gè)分光晶體11Na～92U／4Be～92U固態(tài)檢測器元素同時(shí)檢測低高高，一定條件下是常數(shù)差探頭液氮冷卻第58頁,共102頁，2024年2月25日，星期天597.2分析方法及應(yīng)用定量分析：記錄樣品發(fā)射的特征x射線λ和I。每種元素選擇一根譜線與已知成分純元素標(biāo)樣的同根譜線進(jìn)行比較，確定元素含量。定性分析：記錄樣品發(fā)射的特征x射線λ。對比單元素特征譜線波長，確定樣品中的元素。第59頁,共102頁，2024年2月25日，星期天60基本工作方式：（1）定點(diǎn)元素全分析（定性或定量）：電子束固定在分析的某一點(diǎn)（微區(qū)），改變晶體的衍射角，記錄該點(diǎn)不同元素的x射線λ和I。根據(jù)譜線強(qiáng)度峰的位置波長確定微區(qū)含有元素；根據(jù)元素某一譜線的強(qiáng)度確定元素的含量。第60頁,共102頁，2024年2月25日，星期天61第61頁,共102頁，2024年2月25日，星期天62（2）線掃描分析：

聚焦電子束在試樣沿一直線慢掃描，同時(shí)檢測某一指定特征x射線的瞬時(shí)I，得到特征x射線I沿試樣掃描線的分布。（元素的濃度分布）

對于測定元素在材料相界和晶界上的富集與貧化是十分有效的。

第62頁,共102頁，2024年2月25日，星期天63線掃描分析第63頁,共102頁，2024年2月25日，星期天64（3）面掃描分析

電子束在試樣表面進(jìn)行面掃描，譜儀只檢測某一元素的特征x射線位置，得到由許多亮點(diǎn)組成的圖像。亮點(diǎn)為元素的所在處，根據(jù)亮點(diǎn)的疏密程度可確定元素在試樣表面的分布情況。第64頁,共102頁，2024年2月25日，星期天65面掃描分析

亮區(qū)代表元素含量高，灰區(qū)代表元素含量較低，黑色區(qū)域代表元素含量很低或不存在。第65頁,共102頁，2024年2月25日，星期天66第66頁,共102頁，2024年2月25日，星期天第8章透射電子顯微鏡Transmissionelectronmicroscope第67頁,共102頁，2024年2月25日，星期天68引言

TEM用聚焦電子束作照明源，使用對電子束透明的薄膜試樣，以透過試樣的透射電子束或衍射電子束所形成的圖像來分析試樣內(nèi)部的顯微組織結(jié)構(gòu)。

電子光學(xué)應(yīng)用的最典型例子是TEM

，它是觀察和分析材料的形貌、組織和結(jié)構(gòu)的有效工具。第68頁,共102頁，2024年2月25日，星期天69PhilipsCM12透射電鏡加速電壓20、40、60、80、100、120KV

LaB6或W燈絲

晶格分辨率2.04?

點(diǎn)分辨率3.4?

最小電子束直徑約2nm；

傾轉(zhuǎn)角度α=±20度

β=±25度CEISS902電鏡加速電壓50、80KV

W燈絲

頂插式樣品臺

能量分辨率1.5ev

傾轉(zhuǎn)角度α=±60度第69頁,共102頁，2024年2月25日，星期天70加速電壓200KV

LaB6燈絲

點(diǎn)分辨率1.94?JEM-2010透射電鏡加速電壓20、40、60、80、100、120KV

晶格分辨率2.04?

點(diǎn)分辨率3.4?

最小電子束直徑約2nm

傾轉(zhuǎn)角度α=±60度

β=±30度EM420透射電子顯微鏡第70頁,共102頁，2024年2月25日，星期天71分辨率：0.34nm加速電壓：75－200KV放大倍數(shù)：25萬倍日立H－700投射電鏡第71頁,共102頁，2024年2月25日，星期天728.1透射電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)

透射電子顯微鏡是以波長極短的電子束作為照明源，用電磁透鏡聚焦成像的一種高分辨本領(lǐng)、高放大倍數(shù)的電子光學(xué)儀器。第72頁,共102頁，2024年2月25日，星期天73電子光學(xué)系統(tǒng)組成及作用：電子光學(xué)系統(tǒng)通常也稱鏡筒，是透射電子顯微鏡的核心。它分為三部分，即照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄系統(tǒng)。組成：它由電子光學(xué)系統(tǒng)、電源與控制系統(tǒng)及真空系統(tǒng)三部分組成。第73頁,共102頁，2024年2月25日，星期天748.1.1照明系統(tǒng)

作用：提供一束亮度高、照明孔徑角小、平行度好、束流穩(wěn)定的照明源。組成：由電子槍、聚光鏡和相應(yīng)的平移對中、傾斜調(diào)節(jié)裝置組成。第74頁,共102頁，2024年2月25日，星期天75（1）電子槍

作用：電子槍的重要性僅次于物鏡。會聚電子束、控制電子束電流大小、決定像的亮度、圖像穩(wěn)定度和穿透樣品的能力。組成：由陰極、陽極和控制極組成，決定著電子發(fā)射的數(shù)目及其動(dòng)能，習(xí)慣通稱為“電子槍”。第75頁,共102頁，2024年2月25日，星期天76陰極又稱燈絲，一般由0.03~0.1mm鎢絲作成V或Y形狀。第76頁,共102頁，2024年2月25日，星期天77陽極加速從陰極發(fā)射出的電子。為了操作安全，一般是陽極接地，陰極帶有負(fù)高壓。-50~200kV第77頁,共102頁，2024年2月25日，星期天78(2)聚光鏡

組成：采用雙聚光鏡系統(tǒng)。第一聚光鏡是強(qiáng)激磁透鏡，束斑縮小率為10~50倍左右，將電子槍第一交叉點(diǎn)束斑縮小為1~5μm；第二聚光鏡是弱激磁透鏡，放大倍數(shù)為2倍左右。作用：用來會聚電子槍射出的電子束，以最小的損失照明樣品，調(diào)節(jié)照明強(qiáng)度、孔徑角和束斑大小。第78頁,共102頁，2024年2月25日，星期天79第79頁,共102頁，2024年2月25日，星期天808.1.2

成像系統(tǒng)（1）物鏡：物鏡是用來形成第一幅高分辨率電子顯微圖像或電子衍射花樣的透鏡。透射電子顯微鏡分辨本領(lǐng)的高低主要取決于物鏡。組成：由物鏡、中間鏡和投影鏡組成。第80頁,共102頁，2024年2月25日，星期天81通常采用強(qiáng)激磁，短焦距的物鏡。放大倍數(shù)較高，一般為100～300倍。目前高質(zhì)量物鏡分辨率可達(dá)0.1nm左右。第81頁,共102頁，2024年2月25日，星期天82（2）中間鏡

中間鏡是一個(gè)弱激磁的長焦距變倍透鏡，可在0~20倍范圍調(diào)節(jié)。當(dāng)放大倍數(shù)大于1時(shí)，用來進(jìn)一步放大物鏡像；當(dāng)放大倍數(shù)小于1時(shí)，用來縮小物鏡像。第82頁,共102頁，2024年2月25日，星期天83（3）投影鏡

投影鏡的作用是把經(jīng)中間鏡放大(或縮小)的像(或電子衍射花樣)進(jìn)一步放大，并投影到熒光屏上，它和物鏡一樣，是一個(gè)短焦距的強(qiáng)磁透鏡。第83頁,共102頁，2024年2月25日，星期天84成像系統(tǒng)樣品在物鏡的物平面上,物鏡的像平面是中間鏡的物平面,中間鏡的像平面是投影鏡的物平面,熒光屏在投影鏡的像平面上。物鏡和投影鏡的放大倍數(shù)固定,通過改變中間鏡的電流來調(diào)節(jié)電鏡總放大倍數(shù)。放大倍數(shù)越大,成像亮度越低,成像亮度與M2成反比。第84頁,共102頁，2024年2月25日，星期天85成像系統(tǒng)放大成像操作：中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合，熒光屏上得到放大像。電子衍射操作：中間鏡的物平面和物鏡的后焦面重合，得到電子衍射花樣。第85頁,共102頁，2024年2月25日，星期天868.1.3觀察紀(jì)錄系統(tǒng)作用：由于人眼無法觀測電子，TEM中的電子信息通過熒光屏和照相底版轉(zhuǎn)換為可觀察圖像。

組成：熒光屏和照相機(jī)構(gòu)。第86頁,共102頁，2024年2月25日，星期天878.2TEM主要性能指標(biāo)

分辨率是TEM的最主要性能指標(biāo)，表征投射電鏡顯示顯微組織、結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)的能力。一、分辨率線分辨率：能分辨兩條線之間的最短距離，通過拍攝已知晶體的晶格象測定，又稱晶格分辨率。點(diǎn)分辨率：能分辨兩點(diǎn)之間的最短距離；第87頁,共102頁，2024年2月25日，星期天88電鏡分辨率照片第88頁,共102頁，2024年2月25日，星期天89二、放大倍數(shù)放大倍數(shù)是指：電子圖像對于所觀察試樣區(qū)的線性放大率。目前高性能TEM的放大倍數(shù)為80~100萬倍。

將儀器的最小可分辨距離放大到人眼可分辨距離所需的放大倍數(shù)稱為有效放大倍數(shù)。一般儀器的最大倍數(shù)稍大于有效放大倍數(shù)。第89頁,共102頁，2024年2月25日，星期天90放大倍數(shù)計(jì)算公式：第90頁,共102頁，2024年2月25日，星期天91說明：人眼分辨本領(lǐng)約0.2mm，光學(xué)顯微鏡的分辨本領(lǐng)約0.2μm。把0.2μm放大到0.2mm的放大倍數(shù)是1000倍,是有效放大倍數(shù)。光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)可以做的更高，但高出部分對提高分辨率沒有貢獻(xiàn)，僅是讓人眼觀察舒服。第91頁,共102頁，2024年2月25日，星期天92第92頁,共102頁，2024年2月25日，星期天第9章電子衍射第93頁,共102頁，2024年2月25日，星期天949.1

概述可以進(jìn)行組織形貌與晶體結(jié)構(gòu)同位分析：①當(dāng)中間鏡物平面與物鏡像平面重合(成像操作)時(shí)，在觀察屏上得到的是反映樣品的形貌圖像；②當(dāng)中間鏡的物平而與物鏡背焦面重合(衍射操作)時(shí)，在觀察屏上得到的則