重大關(guān)鍵核心關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)綜合項(xiàng)目資金申請(qǐng)說(shuō)明報(bào)告

重大關(guān)鍵關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目資金申請(qǐng)匯報(bào)項(xiàng)目名稱高端微納光刻裝備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目負(fù)擔(dān)單位蘇州蘇大維格光電科技股份項(xiàng)目責(zé)任人陳林森聯(lián)絡(luò)電話-826項(xiàng)目主持部門(mén)江蘇省發(fā)展和改革委員會(huì)申報(bào)日期3月11日江蘇省推進(jìn)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展工作領(lǐng)導(dǎo)小組辦公室二○一五年一月目錄一、項(xiàng)目標(biāo)背景和必需性 3（一）中國(guó)外現(xiàn)實(shí)狀況： 3（二）技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)： 5（三）擬處理關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題： 6（四）對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展作用和影響： 7（五）市場(chǎng)分析： 8二、項(xiàng)目法人基礎(chǔ)情況 9三、項(xiàng)目標(biāo)技術(shù)基礎(chǔ) 13（一）結(jié)果起源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況 13（二）產(chǎn)學(xué)研合作情況 15（三）已完成研究開(kāi)發(fā)工作及中試情況和判定年限 17（四）技術(shù)或工藝特點(diǎn)和和現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所含有優(yōu)勢(shì) 22（五）重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步關(guān)鍵意義和作用 24四、項(xiàng)目建設(shè)方案 26（一）建設(shè)關(guān)鍵內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模 26（二）工藝技術(shù)路線和技術(shù)工藝特點(diǎn) 27（三）設(shè)備選型及關(guān)鍵技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo) 28（四）產(chǎn)品市場(chǎng)估計(jì) 30（五）建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期管理等 32五、項(xiàng)目投資 34（一）項(xiàng)目總投資規(guī)模、資金起源、投資使用方案 34（二）資金籌措方案 35六、項(xiàng)目財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及關(guān)鍵指標(biāo) 36（一）財(cái)務(wù)分析 36（二）風(fēng)險(xiǎn)分析 38（三）經(jīng)濟(jì)效益分析 39（四）社會(huì)效益分析 39八、資金申請(qǐng)匯報(bào)附件 41

本項(xiàng)目符合《江蘇省“十二五”培育和發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)計(jì)劃》中產(chǎn)業(yè)發(fā)展關(guān)鍵：（七）高端裝備制造產(chǎn)業(yè)-智能制造裝備，同時(shí)也是（二）新材料產(chǎn)業(yè)中上游關(guān)鍵設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝步驟中前端制程，含相關(guān)鍵支撐作用。一、項(xiàng)目標(biāo)背景和必需性中國(guó)外現(xiàn)實(shí)狀況和技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，擬處理關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題，對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展作用和影響，市場(chǎng)分析。（一）中國(guó)外現(xiàn)實(shí)狀況：高端微納光刻裝備是開(kāi)展微納新材料、半導(dǎo)體、MEMS、生物芯片、精密電路、平板顯示、固態(tài)照明等領(lǐng)域技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)必需設(shè)備?，F(xiàn)在，一場(chǎng)新型柔性功效材料革命性改變正在發(fā)生：超薄柔性材料功效化，成為推進(jìn)行業(yè)發(fā)展革命性力量，使得精密加工制造技術(shù)向微米-納米結(jié)構(gòu)和智能制造發(fā)展。伴隨移動(dòng)互聯(lián)高速發(fā)展，便攜、可穿戴光電子器件需要深入處理節(jié)能、低成本問(wèn)題。柔性電子制造領(lǐng)域國(guó)家計(jì)劃和政府投入：美國(guó)FDCASU計(jì)劃、在美國(guó)“總統(tǒng)匯報(bào)”中將柔性電子制造作為優(yōu)異制造11個(gè)優(yōu)先發(fā)展尖端領(lǐng)域、NASA制訂柔性電子戰(zhàn)略、成了柔性混合電子器件制造創(chuàng)新中心；歐盟（第7研究框架、地平線計(jì)劃）印刷技術(shù)在柔性塑料基底上進(jìn)行制備、英國(guó)（“拋石機(jī)”計(jì)劃、建設(shè)英國(guó)未來(lái)計(jì)劃）將塑料電子作為制造業(yè)關(guān)鍵發(fā)展領(lǐng)域；德國(guó)投資數(shù)十億歐元建立柔性顯示生產(chǎn)線；韓國(guó)《韓國(guó)綠色I(xiàn)T國(guó)家戰(zhàn)略》投資720億美金發(fā)展AMOLED；日本TRADIM計(jì)劃在成立優(yōu)異印刷電子技術(shù)研發(fā)聯(lián)盟；中國(guó)電子信息制造業(yè)“十二五”發(fā)展計(jì)劃，新型顯示器件、太陽(yáng)能光伏等作為發(fā)展關(guān)鍵方向，國(guó)家自然科學(xué)基金12-5、13-5計(jì)劃中將柔性電子作為微納制造關(guān)鍵研究領(lǐng)域。柔性光電功效材料含有數(shù)以千億計(jì)潛在市場(chǎng)需求。在下一代裸眼3D顯示、大尺寸柔性觸控屏、OLED照明納米襯底、可穿戴電子器件，含有微米級(jí)線寬-納米結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有光刻設(shè)備達(dá)不到這種精度加工要求。微納光刻裝備是高端技術(shù)密集型微納產(chǎn)業(yè)中關(guān)鍵設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝步驟中前端制程。這些產(chǎn)業(yè)發(fā)展，離不開(kāi)微納光刻裝備。高端微納光刻設(shè)備，對(duì)于科學(xué)研究中工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)、產(chǎn)品生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)跨越發(fā)展全部含有重大意義。現(xiàn)在高端微納光刻裝備領(lǐng)域研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作開(kāi)展很好企業(yè)在國(guó)外，如德國(guó)HeidelbergInstruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美國(guó)AppliedMaterial，能夠?qū)κ袌?chǎng)需求和設(shè)備研發(fā)制造形成良性循環(huán)，另外，韓國(guó)、日本等部分研發(fā)型企業(yè)也在進(jìn)行該項(xiàng)工作推進(jìn)。中國(guó)科研院所在微納光刻領(lǐng)域研究，關(guān)鍵模式是采購(gòu)國(guó)外科研型設(shè)備，進(jìn)行工藝和器件開(kāi)發(fā)，對(duì)高端裝備技術(shù)研究開(kāi)展較少。中國(guó)產(chǎn)業(yè)環(huán)境發(fā)展，產(chǎn)品創(chuàng)新對(duì)高端微納直寫(xiě)光刻和加工裝備含有大量需求；和國(guó)外企業(yè)相比，在技術(shù)溝通、服務(wù)響應(yīng)能力方面含有優(yōu)勢(shì)；中國(guó)還缺乏“微納等級(jí)”高端智能激光直寫(xiě)光刻裝備研發(fā)和制造企業(yè)，蘇大維格企業(yè)經(jīng)過(guò)國(guó)家863計(jì)劃關(guān)鍵項(xiàng)目標(biāo)資助，掌握了微納直寫(xiě)裝備關(guān)鍵技術(shù)，擁有些人才團(tuán)體，依靠于國(guó)家發(fā)改委同意“國(guó)家地方聯(lián)合工程研究中心”，企業(yè)在高端微納智能裝備研發(fā)含有，同時(shí)企業(yè)也是創(chuàng)業(yè)板上市企業(yè)在產(chǎn)業(yè)化上也有優(yōu)勢(shì)。值得一提是，本企業(yè)（蘇大維格）在國(guó)家863計(jì)劃和江蘇省攀登計(jì)劃支持下，在高端微納光刻設(shè)備研發(fā)上卓有成效，積累了若干光機(jī)電關(guān)鍵技術(shù)，激光智能SLM干涉直寫(xiě)儀器等設(shè)備填補(bǔ)行業(yè)空白，在100nm特征尺寸直寫(xiě)系統(tǒng)上，研發(fā)成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化儀器設(shè)備，含有行業(yè)領(lǐng)先水平，在中國(guó)著名高等研究院所應(yīng)用，并出口日本、以色列等國(guó)。獲國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)，省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)。（二）技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)：微納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為先導(dǎo)性領(lǐng)域，對(duì)中國(guó)新興產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展中含有不可或缺先導(dǎo)作用，高端微納光刻裝備是進(jìn)行微納技術(shù)科學(xué)研究、新器件、新功效材料研發(fā)和應(yīng)用關(guān)鍵儀器，含相關(guān)鍵支撐作用。舉例說(shuō)明，“光電轉(zhuǎn)換效率提升”是新型光電器件（LED，太陽(yáng)能、新型照明、低耗能材料）研究關(guān)鍵問(wèn)題，除了材料本身光電特征之外，微納結(jié)構(gòu)分布和高效制備是推進(jìn)高性能器件研制關(guān)鍵方向，比如，在LED領(lǐng)域，納米圖形化技術(shù)是提升器件發(fā)光效率關(guān)鍵路徑，目標(biāo)達(dá)成每瓦150流明以上，納圖形理論和試驗(yàn)研究是關(guān)鍵領(lǐng)域；薄膜太陽(yáng)能電池效率提升需納米陷光結(jié)構(gòu)襯底制備；在平板立體顯示領(lǐng)域，納米線柵結(jié)構(gòu)、3D位相延遲片偏振片、濾光片是提升顯示光能利用率關(guān)鍵研究方向；在光電子、微機(jī)電系統(tǒng)器件等科學(xué)研究領(lǐng)域，需要有高分辨、高效、3D曝光多功效圖形化手段和檢測(cè)儀器，尤其在大尺寸納米結(jié)構(gòu)器件無(wú)損檢測(cè)是急需處理重大問(wèn)題；在國(guó)防領(lǐng)域，超大幅面光柵研制，需要有愈加好檢測(cè)儀器。在納米印刷研究和開(kāi)發(fā)領(lǐng)域，高端圖形化和檢測(cè)是提供無(wú)油墨納米色彩圖像品質(zhì)必由之路。所以，該類型高端微納圖形化儀器設(shè)備研制，可打破國(guó)外技術(shù)壟斷，含有重大戰(zhàn)略意義。微納圖形直寫(xiě)和檢測(cè)儀器設(shè)備研制，對(duì)于科學(xué)研究中工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)中圖形快速制備和檢測(cè)，實(shí)現(xiàn)跨越發(fā)展含有重大意義。（三）擬處理關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題：紫外大視場(chǎng)平場(chǎng)成像光學(xué)系統(tǒng)研制：光學(xué)系統(tǒng)是微納光刻裝備基礎(chǔ)性關(guān)鍵部件，對(duì)裝備總體性能含相關(guān)鍵影響。針對(duì)多種不一樣影響，設(shè)備光學(xué)系統(tǒng)將做對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)和研制。本企業(yè)在紫外位相-空間混合調(diào)制微納光學(xué)系統(tǒng)含有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，是高效微納米圖形光刻有效處理手段。自動(dòng)化多軸控制技術(shù)：基于可編程多軸控制器自動(dòng)化控制技術(shù)，是精密光刻設(shè)備運(yùn)行關(guān)鍵技術(shù)。經(jīng)過(guò)編寫(xiě)程序?qū)崿F(xiàn)設(shè)備光、機(jī)、電協(xié)調(diào)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)設(shè)備預(yù)期功效?？刂萍夹g(shù)包含了同時(shí)曝光技術(shù)、數(shù)據(jù)分割和上載技術(shù)、圖像處理技術(shù)、高速多軸平臺(tái)閉環(huán)控制技術(shù)等。本企業(yè)在基于PMAC、ACS等控制器控制技術(shù)有了長(zhǎng)久研發(fā)基礎(chǔ)，研發(fā)了飛行曝光技術(shù)、Z-校正自動(dòng)聚焦技術(shù)、積分曝光技術(shù)等，為設(shè)備功效多樣化開(kāi)發(fā)積累了經(jīng)驗(yàn)。微納數(shù)據(jù)處理技術(shù)：大幅面微納結(jié)構(gòu)圖形數(shù)據(jù)是海量，比如，以數(shù)據(jù)解析分辨率為0.25um計(jì)算，1000mm×1000mm圖形數(shù)據(jù)量將達(dá)成16TB。微納結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，采取含有行業(yè)共性GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。數(shù)據(jù)處理技術(shù)，步驟是：數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)圖形化圖形數(shù)據(jù)切割和組合。光刻是數(shù)據(jù)分批分隊(duì)列上載到光刻設(shè)備，經(jīng)過(guò)控制軟件將圖形光刻輸出。工藝開(kāi)發(fā)和優(yōu)化：針對(duì)具體應(yīng)用方向，需要對(duì)光刻工藝進(jìn)行探索和研究，經(jīng)過(guò)測(cè)試和分析結(jié)果，對(duì)工藝控制參數(shù)、部件參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，最終滿足應(yīng)用需求。（四）對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展作用和影響：“十二五”期間，國(guó)家和江蘇省激勵(lì)新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展，江蘇省及蘇州地方將納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為主導(dǎo)發(fā)展產(chǎn)業(yè)，迫切需要研究并處理產(chǎn)業(yè)發(fā)展中缺乏上游微納制造技術(shù)共性問(wèn)題。，國(guó)家發(fā)展改革委深入落實(shí)落實(shí)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)略，以加緊經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型為主攻方向，以改革創(chuàng)新促發(fā)展，切實(shí)推進(jìn)高技術(shù)產(chǎn)業(yè)和戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)平穩(wěn)健康發(fā)展。其中一個(gè)關(guān)鍵就是深入推進(jìn)新型平板顯示、高性能醫(yī)學(xué)診療設(shè)備等重大創(chuàng)新發(fā)展工程建設(shè)，擴(kuò)大節(jié)能環(huán)境保護(hù)、信息惠民、衛(wèi)星導(dǎo)航、智能制造等領(lǐng)域示范應(yīng)用，關(guān)鍵突破深刻影響產(chǎn)業(yè)發(fā)展關(guān)鍵關(guān)鍵技術(shù)，推進(jìn)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造升級(jí)，加緊培育新經(jīng)濟(jì)增加點(diǎn)。高端微納光刻裝備是上述領(lǐng)域上游所需關(guān)鍵設(shè)備，含相關(guān)鍵支撐作用。中國(guó)版工業(yè)4.0計(jì)劃－《中國(guó)制造業(yè)發(fā)展綱要(~2025)》立即于出臺(tái)。作為牽頭制訂中國(guó)制造業(yè)2025計(jì)劃部門(mén)，工信部已著手研究制訂裝備制造領(lǐng)域相關(guān)專題計(jì)劃，計(jì)劃關(guān)鍵實(shí)施領(lǐng)域?yàn)樾乱淮畔⒓夹g(shù)產(chǎn)業(yè)、生物醫(yī)藥和生物制造產(chǎn)業(yè)、高端裝備制造產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)等四大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。本項(xiàng)目突破大尺度幅面、納米結(jié)構(gòu)及納米精度、微納結(jié)構(gòu)器件和材料低成本制造關(guān)鍵技術(shù)，開(kāi)發(fā)高端微納制造裝備，滿足提升產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力，促進(jìn)區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展方面需求，建設(shè)微納結(jié)構(gòu)器件功效設(shè)計(jì)、微納米柔性制造關(guān)鍵技術(shù)和裝備、材料應(yīng)用及加工檢測(cè)創(chuàng)新平臺(tái)。對(duì)區(qū)域納米技術(shù)創(chuàng)新體系完善，對(duì)相關(guān)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、高技術(shù)企業(yè)孵化、高端人才培養(yǎng)和引進(jìn)含有重大作用。高端微納光刻裝備對(duì)多個(gè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展含相關(guān)鍵作用：平板顯示和觸控屏：用于光掩模版制備、大幅面觸摸屏電路圖形化光刻，比如55寸大尺寸電容觸控屏電路制備等。TV超薄背光源（BLU）：平板電腦、液晶顯示器、電視機(jī)超薄化趨勢(shì)，用于超薄導(dǎo)光板熱壓模具制備（比如70寸微透鏡金屬壓印模具）。高密度柔性電路、IC載板：10μm以下線寬工藝，是下一代集成電路3D封裝必需關(guān)鍵技術(shù)，現(xiàn)在需要0.25微米分辨率高精度直寫(xiě)光刻設(shè)備。MEMS芯片：MEMS芯片制備，需要處理厚膠圖形化光刻工藝。公共安全：特殊微納結(jié)構(gòu)視讀特征，是實(shí)現(xiàn)證卡安全、產(chǎn)品保護(hù)、金融安全等領(lǐng)域公共安全有效手段?？蒲小?guó)家項(xiàng)目需求：微納加工技術(shù)，是很多科研領(lǐng)域共性技術(shù)，小型微納光刻設(shè)備，可用于高等院所試驗(yàn)室，特殊定制微納光刻裝備，能夠服務(wù)于國(guó)家重大項(xiàng)目。（五）市場(chǎng)分析：柔性電子技術(shù)已經(jīng)并將開(kāi)辟出很多創(chuàng)新電子產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域，從而，帶來(lái)一場(chǎng)電子信息技術(shù)革命。據(jù)IDTechEx估計(jì)，柔性電子市場(chǎng)銷售額將高達(dá)49.3億美元，為469.4億美元，2028年為3010億美元。柔性電子制造技術(shù)和裝備是穿戴式電子、新能源、高端顯示、物聯(lián)網(wǎng)和智能家居領(lǐng)域發(fā)展關(guān)鍵技術(shù)，可提供原創(chuàng)性柔性電子器件、知識(shí)產(chǎn)權(quán)和關(guān)鍵技術(shù)，能為新興市場(chǎng)培育、高層次人才培養(yǎng)提供新機(jī)遇，服務(wù)并推進(jìn)相關(guān)信息產(chǎn)業(yè)跨越發(fā)展。二、項(xiàng)目法人基礎(chǔ)情況項(xiàng)目法人全部制、主營(yíng)業(yè)務(wù)，近三年銷售收入、利潤(rùn)、稅收、固定資產(chǎn)、資產(chǎn)負(fù)債率、銀行信用等級(jí)、企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)、經(jīng)營(yíng)管理、資金籌集、市場(chǎng)開(kāi)拓等情況。企業(yè)名稱：蘇州蘇大維格光電科技股份企業(yè)性質(zhì)：股份制企業(yè)，深交所創(chuàng)業(yè)板上市企業(yè)（代碼：300331）企業(yè)地址：蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)；資本：9300萬(wàn)人民幣主營(yíng)業(yè)務(wù)：激光光刻直寫(xiě)系統(tǒng)和納米壓印裝備、LED納米圖形光刻設(shè)備、OGS掩膜和灰度光刻設(shè)備；光學(xué)（鐳射）膜：定制光學(xué)（鐳射）印材、防偽處理方案和材料；平板顯示照明：超薄導(dǎo)光板、大尺寸電容觸控屏（非ITO）；光掩模板。企業(yè)已于6月在深交所創(chuàng)業(yè)板上市（股票代碼：300331），銀行信用等級(jí)：AA級(jí)近三年財(cái)務(wù)情況：（萬(wàn)元）年度銷售收入利潤(rùn)稅收固定資產(chǎn)資產(chǎn)負(fù)債率21871.82459.281871.355030.3319.16%24572.321936.681084.9412388.616.83%27661.863012.93.4614087.2417.50%企業(yè)建有國(guó)家級(jí)研究平臺(tái)“數(shù)碼激光成像和顯示國(guó)家地方聯(lián)合工程研究中心”（國(guó)家發(fā)改委同意，），設(shè)有“江蘇省微納柔性制造工程技術(shù)研究中心”（，省政府同意），擁有6000平米用于工程研究和產(chǎn)品中試試驗(yàn)室。圖1企業(yè)場(chǎng)地含有面向新型顯示、照明和成像領(lǐng)域微納制造工程研發(fā)和檢測(cè)條件。設(shè)有四個(gè)研發(fā)方向：優(yōu)異光學(xué)顯示器件、微納制造技術(shù)和裝備、柔性材料和器件和納米印刷技術(shù)。企業(yè)建有江蘇省院士工作站和全國(guó)博士后工作站。圖2國(guó)家工程中心和院士工作站企業(yè)擁有國(guó)際一流創(chuàng)新團(tuán)體，江蘇省科技創(chuàng)新團(tuán)體。重大結(jié)果取得：國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)（）、江蘇省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)（，）、第十二屆、十四屆“中國(guó)優(yōu)異專利獎(jiǎng)”（，）、第七屆江蘇省專利金獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)。為此，企業(yè)榮獲首屆江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)（全省19家企業(yè)）。圖3重大科技獲獎(jiǎng)企業(yè)擁有授權(quán)發(fā)明專利49項(xiàng)，其中和本項(xiàng)目相關(guān)自主研發(fā)設(shè)備和技術(shù)已取得發(fā)明專利16項(xiàng)。企業(yè)建立了以市場(chǎng)為導(dǎo)向、自主創(chuàng)新為推進(jìn)力經(jīng)營(yíng)管理制度，從產(chǎn)品設(shè)計(jì)、品質(zhì)管理、用戶溝通和服務(wù)、到產(chǎn)品質(zhì)量體系認(rèn)證、新品導(dǎo)入和跟蹤，有完整管理制度，力圖和國(guó)際體系接軌。形成了一個(gè)研發(fā)、設(shè)計(jì)、裝備改善、制程提升、各戶認(rèn)證快速反應(yīng)能力。對(duì)于新品導(dǎo)入項(xiàng)目，成立項(xiàng)目領(lǐng)導(dǎo)小組，以董事長(zhǎng)為責(zé)任人，總經(jīng)理實(shí)施人項(xiàng)目領(lǐng)導(dǎo)組，協(xié)調(diào)和處理項(xiàng)目研發(fā)、市場(chǎng)實(shí)施過(guò)程中多種問(wèn)題。業(yè)內(nèi)第一個(gè)研發(fā)成功并批量化14寸@0.5mm厚度LED超薄導(dǎo)光板卷對(duì)卷產(chǎn)線，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用；發(fā)明并實(shí)現(xiàn)消色差光學(xué)膜高效光刻方法；發(fā)明了“寬幅衍射光變圖像高速光刻方法和設(shè)備”：處理了微納結(jié)構(gòu)工業(yè)化制備行業(yè)難題；率先建立了“微納柔性制造生產(chǎn)線”，從“微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、材料特征研究、重大裝備研發(fā)和結(jié)果產(chǎn)業(yè)化”工藝鏈；第一個(gè)研制成功“3D光變圖像全息制版系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)了全息圖像微納結(jié)構(gòu)表示，并推進(jìn)了立體圖像工業(yè)化應(yīng)用；發(fā)明“定位激光轉(zhuǎn)移紙張”（印刷第一色概念），實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化；

第一個(gè)研發(fā)成功數(shù)字化“數(shù)碼激光全息制版系統(tǒng)”，中國(guó)外廣泛使用；提出并實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)模共振納米光子晶體變色薄膜。

三、項(xiàng)目標(biāo)技術(shù)基礎(chǔ)結(jié)果起源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況，產(chǎn)學(xué)研合作情況，已完成研究開(kāi)發(fā)工作及中試情況和判定年限，技術(shù)或工藝特點(diǎn)和和現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所含有優(yōu)勢(shì)，該項(xiàng)技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步關(guān)鍵意義和作用。（一）結(jié)果起源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況關(guān)鍵技術(shù)起源于蘇大維格企業(yè)技術(shù)積累和產(chǎn)學(xué)研合作，企業(yè)在高精度激光微納米直寫(xiě)和加工技術(shù)方面開(kāi)展了長(zhǎng)久研發(fā)創(chuàng)新，關(guān)鍵包含微光學(xué)元器件開(kāi)發(fā)、納米精度光機(jī)結(jié)構(gòu)研發(fā)、4-6軸運(yùn)動(dòng)控制技術(shù)、CCD影像檢測(cè)處理技術(shù)、海量圖形數(shù)據(jù)處理和傳輸技術(shù)等，為本項(xiàng)目開(kāi)發(fā)積累了大量關(guān)鍵和關(guān)鍵技術(shù)。依靠單位是本行業(yè)內(nèi)惟一建有國(guó)家工程研究中心“”數(shù)碼激光成像和顯示國(guó)家地方聯(lián)合工程研究中心（國(guó)家發(fā)改委同意，），表明了行業(yè)領(lǐng)先地位?，F(xiàn)在，中國(guó)唯一含有大面積（微納金屬模具制備能力、能夠?qū)崿F(xiàn)大尺寸納米尺度圖形掩模、配套納米壓印全制程、擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，現(xiàn)在支持42”尺寸微納透明導(dǎo)電材料。依靠單位在微納制造裝備應(yīng)用基礎(chǔ)研究、技術(shù)創(chuàng)新、材料研發(fā)和高端裝備研制方面，形成了完整創(chuàng)新鏈，并已在多個(gè)產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。本項(xiàng)目經(jīng)過(guò)國(guó)家重大863專題支持，已經(jīng)完成了技術(shù)攻關(guān)，立即進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段。在激光直寫(xiě)和加工技術(shù)領(lǐng)域，取得發(fā)明專利授權(quán)16項(xiàng)：專利名稱專利號(hào)光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL.4光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL.3光學(xué)加工系統(tǒng)和方法ZL.0一個(gè)步進(jìn)式光學(xué)加工系統(tǒng)和加工方法ZL.9一個(gè)透明導(dǎo)電膜及其制作方法ZL.9一個(gè)光刻裝置和光刻方法ZL.X一個(gè)金屬母板制作方法ZL.3一個(gè)導(dǎo)光膜制作裝置ZL.3一個(gè)卷對(duì)卷紫外納米壓印裝置及方法ZL.5并行光刻直寫(xiě)系統(tǒng)ZL.4用于紫外激光干涉光刻直寫(xiě)系統(tǒng)光學(xué)鏡頭ZL.1多視角圖形輸入三維圖形直寫(xiě)方法ZL.7一個(gè)彩色濾光片制作方法和裝置ZL.2一個(gè)精密數(shù)字化微納米壓印方法ZL.6對(duì)光滑表面進(jìn)行微米結(jié)構(gòu)光刻蝕方法及裝置ZL.8衍射光變圖像高速激光直寫(xiě)方法和系統(tǒng)ZL.2受剪發(fā)明專利17項(xiàng)。專利名稱申請(qǐng)?zhí)栆粋€(gè)導(dǎo)光膜制作裝置PCT/CN/079736APPARATUSFORMANUFACTURINGLIGHTGUIDEFILMUS13583290一個(gè)紫外固化微納米結(jié)構(gòu)拼版裝置及拼版工藝.X三維激光打印方法和系統(tǒng).1分束器件、多光束干涉光路系統(tǒng).X納米圖形化襯底制備裝置和方法.5一個(gè)標(biāo)簽簽注方法和系統(tǒng).8連續(xù)可調(diào)結(jié)構(gòu)光照明超分辨顯微成像方法和系統(tǒng)PCT/CN/087883超薄觸控傳感器及其制作方法.9一個(gè)三維碼及其制作方法.5一個(gè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)和光刻方法.9一個(gè)變色燙印膜及其制造方法.X掩膜版及其制備方法和圖形化方法.8彩色動(dòng)態(tài)圖激光打印裝置及方法.2一個(gè)無(wú)掩膜激光直寫(xiě)疊加曝光方法.6一個(gè)多視角像素指向型背光模組及裸眼3D顯示裝置.3基于大面積多臺(tái)階二元光學(xué)元件激光直寫(xiě)方法.9軟件著作權(quán)4項(xiàng)：登記號(hào)軟件名稱SR037129基于DXF并行激光直寫(xiě)加工圖形處理軟件V1.0SR037127基于DirectX空間光調(diào)制器圖形發(fā)生軟件V1.0SR041635蘇大維格頻閃曝光直寫(xiě)系統(tǒng)SR017923HoloMakerIIICSystemV1.0獲獎(jiǎng)清單以下：項(xiàng)目名稱獎(jiǎng)勵(lì)名稱獲批時(shí)間大幅面微納圖形制造技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng).12卷對(duì)卷納米壓印關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng).2面向微納柔性制造創(chuàng)新工程江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng).2衍射光變圖像高速制作方法和系統(tǒng)中國(guó)專利優(yōu)異獎(jiǎng).11微光變圖像激光直寫(xiě)方法及裝置中國(guó)專利優(yōu)異獎(jiǎng).11寬幅智能激光SLM光刻系統(tǒng)和應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng).5亞波長(zhǎng)光學(xué)制造技術(shù)研究和應(yīng)用教育部科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng).1一個(gè)消色差變色銀衍射圖像制作方法江蘇省專利金獎(jiǎng).12微結(jié)構(gòu)制造高效光刻技術(shù)和應(yīng)用教育部技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng).1（二）產(chǎn)學(xué)研合作情況“十二五”期間，在國(guó)家高技術(shù)研究（863計(jì)劃）計(jì)劃重大項(xiàng)目、國(guó)家自然基金關(guān)鍵項(xiàng)目標(biāo)資助下，蘇州蘇大維格光電科技股份和相關(guān)業(yè)內(nèi)企業(yè)和高校協(xié)同合作，攻克了“微納柔性制造工藝裝備”、“3D成像納米印刷技術(shù)”、“彩色全息顯示基礎(chǔ)問(wèn)題”方面關(guān)鍵基礎(chǔ)問(wèn)題和技術(shù)難題，取得中國(guó)外矚目標(biāo)重大結(jié)果，引發(fā)中國(guó)外同行高度關(guān)注。第一，前瞻性重大技術(shù)創(chuàng)新取得突破。從原理上，現(xiàn)有技術(shù)手段（如金剛石加工僅能加工柱光柵膜模具）不能加工全息原理裸眼3D顯示，必需突破納米加工技術(shù)瓶頸。蘇大維格在高端微納裝備及關(guān)鍵技術(shù)方面取得重大研究進(jìn)展，在國(guó)際上率先實(shí)現(xiàn)“四獨(dú)立變量微納結(jié)構(gòu)快速制造”、“大幅面微納混合光刻”等新技術(shù)方法，研發(fā)成功“納米級(jí)制造設(shè)備”，使得中國(guó)在“大幅面微納結(jié)構(gòu)制造”方面擁有了自主高端裝備。前后獲國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)（）、江蘇省科技一等獎(jiǎng)（）和中國(guó)專利獎(jiǎng)（）。所以，在納米加工設(shè)施、知識(shí)產(chǎn)權(quán)方面，為本項(xiàng)提議任務(wù)提供關(guān)鍵手段支撐。第二，需求牽引組織模式創(chuàng)新。經(jīng)過(guò)運(yùn)行機(jī)制創(chuàng)新，納米技術(shù)從試驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，形成上下游創(chuàng)新鏈，協(xié)同產(chǎn)業(yè)和高校共同推進(jìn)在納米印刷（3D圖像印刷）、柔性電子（微結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電膜）、平板顯示（超薄導(dǎo)光板）產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，并取得重大進(jìn)展，培育了1家上市企業(yè)（上市）和5家國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)。從基礎(chǔ)步驟創(chuàng)新、整個(gè)過(guò)程技術(shù)工藝創(chuàng)新，直至推進(jìn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用，探索了產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)新成功路徑，為取得顛覆性重大目標(biāo)產(chǎn)品提供了組織上經(jīng)驗(yàn)。第三，以重大任務(wù)（目標(biāo)產(chǎn)品）為目標(biāo)創(chuàng)新能力建設(shè)。蘇大維格企業(yè)組建了“國(guó)家地方聯(lián)合工程研究中心”（數(shù)碼激光成像顯示）（國(guó)家發(fā)改委同意），6000平米研發(fā)場(chǎng)所，1萬(wàn)平米中試平臺(tái)。在重大目標(biāo)產(chǎn)品取得突破，得到同行教授、領(lǐng)導(dǎo)和市場(chǎng)高度評(píng)價(jià)。華為科技、京東方科技、龍騰光電、蘇大維格光電等一批企業(yè)含有合作推進(jìn)裸眼3D顯示關(guān)鍵技術(shù)和部件研制基礎(chǔ)能力。為以后以重大任務(wù)位目標(biāo)組織實(shí)施，提供了愈加好創(chuàng)新平臺(tái)和產(chǎn)業(yè)合作基礎(chǔ)。第四、培養(yǎng)一支勇于負(fù)擔(dān)風(fēng)險(xiǎn)和奉獻(xiàn)、能負(fù)擔(dān)重大任務(wù)團(tuán)體。經(jīng)過(guò)協(xié)同合作和體制機(jī)制改革，培養(yǎng)了一支高素質(zhì)團(tuán)體，團(tuán)體組員以中青年組員為主，包含國(guó)家863計(jì)劃重大項(xiàng)目首席教授，千人計(jì)劃人才、海外特聘教授和中國(guó)杰出年輕人才組成充滿活力創(chuàng)新和創(chuàng)新混合團(tuán)體。在“裸眼3D顯示基礎(chǔ)問(wèn)題”，“納米結(jié)構(gòu)3D成像原理”、“納米導(dǎo)光板研究”方面做了大量工作，勇于突破和自主創(chuàng)新。（三）已完成研究開(kāi)發(fā)工作及中試情況和判定年限1、依據(jù)不一樣行業(yè)應(yīng)用需求和加工尺度不一樣，已完成四種類型樣機(jī)研發(fā)：（1）、高速激光圖形直寫(xiě)光刻裝備應(yīng)用樣機(jī)：iGrapher系列iGrapher專門(mén)用于精密電路、光掩模（光罩MASK）、微納結(jié)構(gòu)無(wú)掩模光刻“高端激光直寫(xiě)設(shè)備(UVlaserpatterngenerator)。幅面：8英寸-65英寸，應(yīng)用90nm-130nm節(jié)點(diǎn)（0.22um-0.5um光學(xué)分辨率）柔性電路和光掩膜板制備。iGrapher突破了一系列關(guān)鍵難題技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了上述大幅面微圖形高速直寫(xiě)功效，對(duì)光掩模文件、集成電路文件全兼容。iGrapher采取高速空間光調(diào)制器（spatiallightmodulation），陣列圖形輸入模式（可達(dá)8k幀），3D導(dǎo)航飛行曝光（3Dnavigationflyingexposure）、納秒時(shí)序平鋪曝光（parallelism、nano-secondpatterning）技術(shù)，專用于光掩模、柔性電子微圖形（線寬1um-10um）、LIGA工藝、微納模具高效光刻。

（2）、多功效微圖形光刻設(shè)備工程樣機(jī)：MicrolabMicroLab100是一款適應(yīng)微結(jié)構(gòu)圖形光刻名副其實(shí)小型微加工試驗(yàn)室，系統(tǒng)操作方便在微納結(jié)構(gòu)功效器件、生物和微納界面作用（微流控、基因芯片、探針）和光電子、微光學(xué)等研究中，MicroLab

是一個(gè)理想、高性價(jià)比微加工手段。尤其適合于小尺寸精密掩膜、CGH、微光學(xué)器件、光束整形、MEMS、衍射和折射光學(xué)陣列研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscalelithography，拖曳曝光（形狀光闌積分曝光）laserdragging，圖形化parallelpatterning，3D形貌等高級(jí)加工，比如，閃耀槽型、微透鏡陣列、多臺(tái)階圖形、點(diǎn)陣圖形等，支持薄膠和厚膠工藝。支持DXF，GDSII，位圖文件。只要有基礎(chǔ)計(jì)算機(jī)背景和圖像知識(shí)，合適培訓(xùn)后，就能夠上機(jī)操作。支持二十四小時(shí)不間斷運(yùn)行，運(yùn)行成本低，占地4平方米，基礎(chǔ)免維護(hù)。適合于科學(xué)研究、碩士培養(yǎng)之用途。

（3）、大幅面微納金屬模具激光加工設(shè)備工程樣機(jī)：iEngraver大幅面激光精密微加工設(shè)備，用于超薄TV背光源金屬模具制備?？蓪?shí)現(xiàn)幅面15~70寸。大尺寸精密導(dǎo)光板模具光學(xué)性能為業(yè)內(nèi)做好水平，精密模具加工設(shè)備和工藝成熟度得到充足驗(yàn)證，加工超薄導(dǎo)光板光學(xué)效率、導(dǎo)光均齊度為業(yè)內(nèi)最高水準(zhǔn)。性能參數(shù)：最小微結(jié)構(gòu)尺寸15um激光光源：30kHz@10W機(jī)臺(tái)：花崗石機(jī)臺(tái)光學(xué)頭單次掃描面積：10mmx10mm-15mmx15mm加工速率：4-10小時(shí)（不一樣模具尺寸和光學(xué)網(wǎng)點(diǎn)）運(yùn)動(dòng)平臺(tái)：直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)定位精度：0.1um行程：依據(jù)型號(hào)確定軟件：光學(xué)設(shè)計(jì)文檔格式，或*.DXF；*.ARR配套：整套網(wǎng)點(diǎn)設(shè)計(jì)和處理工藝

（4）、激光動(dòng)態(tài)圖形簽注系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了不需要位移和旋轉(zhuǎn)3D動(dòng)態(tài)圖形實(shí)時(shí)簽注方法和關(guān)鍵技術(shù)。采取曲面擴(kuò)散片實(shí)現(xiàn)3D動(dòng)態(tài)圖像簽注景深改變，實(shí)現(xiàn)簽注動(dòng)態(tài)聚焦，同時(shí)設(shè)計(jì)不一樣棱角位置和棱角鍥角，經(jīng)過(guò)軟件控制統(tǒng)計(jì)圖形位置，分別對(duì)應(yīng)在對(duì)應(yīng)鍥形棱鏡位置，一次性簽注將能取得不一樣再現(xiàn)視角角度和方向效果。簽注效率高，適合工程化應(yīng)用。能夠同時(shí)滿足變景深、多視角簽注要求，提升了簽注圖形技術(shù)門(mén)檻。圖形簽注僅需5秒至10秒，能滿足激光簽注工程化應(yīng)用。在工業(yè)化應(yīng)用方面，可應(yīng)用在銀行卡、護(hù)照、等證卡個(gè)性化序列號(hào)和動(dòng)態(tài)圖形簽注，號(hào)牌激光安全防偽簽注，食品安全三維碼溯源簽注技術(shù)等公共安全領(lǐng)域上。2、完成場(chǎng)地建設(shè)：平方米場(chǎng)地。（1）、機(jī)械部件裝配間（2）、電氣部件裝配間（3）、總裝調(diào)試間（4）、部件、材料、成品倉(cāng)庫(kù)（5）、職員培訓(xùn)室（6）、生產(chǎn)調(diào)度室判定年限：本項(xiàng)目標(biāo)判定年限為3月。（四）技術(shù)或工藝特點(diǎn)和和現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所含有優(yōu)勢(shì)技術(shù)特點(diǎn)：（1）攻克了空間-位相調(diào)制圖形化技術(shù)，微米-納米混合光場(chǎng)調(diào)制，從而能實(shí)現(xiàn)/4結(jié)構(gòu)分辨率國(guó)際領(lǐng)先水平（在355波長(zhǎng)下，實(shí)現(xiàn)100nm結(jié)構(gòu)）；（2）納秒時(shí)序3D導(dǎo)航飛行曝光，實(shí)現(xiàn)大面積微納米結(jié)構(gòu)快速光刻，定位精度達(dá)成20nm；（3）海量數(shù)據(jù)處理和直寫(xiě)軟件和硬件技術(shù)；支持40TB數(shù)據(jù)處理。（4）4-6軸納米精度控制技術(shù)；（5）微納功效材料加工工藝：力圖在國(guó)際上率先實(shí)現(xiàn)3D納米印刷技術(shù)，為柔性材料功效化提供關(guān)鍵技術(shù)手段。在應(yīng)用工藝上，關(guān)鍵攻克在顯示、新型照明和觸控傳感材料低成本制造技術(shù)，推進(jìn)行業(yè)合作和潛在重大應(yīng)用，和相關(guān)產(chǎn)業(yè)（比如華為）共同研發(fā)攻關(guān)“微納米結(jié)構(gòu)手機(jī)功效”光刻工藝研究。技術(shù)優(yōu)異性優(yōu)勢(shì)：1、微納直寫(xiě)光刻和加工設(shè)備，綜合了微納光學(xué)、精密機(jī)械、數(shù)控電氣、納米精度控制，利用計(jì)算機(jī)或工作站進(jìn)行4-5軸光機(jī)電聯(lián)合控制，高端技術(shù)集成度高，設(shè)備自動(dòng)化化運(yùn)行，屬于高端智能裝備。2、該類加工裝備，加工宏觀尺寸達(dá)成米級(jí)，微結(jié)構(gòu)尺寸達(dá)成亞微米級(jí)，部件運(yùn)行精度、數(shù)據(jù)分辨率定義，均需達(dá)成100納米以下等級(jí)，實(shí)現(xiàn)大幅面、微結(jié)構(gòu)、高精度特征統(tǒng)一。3、海量數(shù)據(jù)：以0.1微米分辨率電路為例，200mmx200mm電路數(shù)據(jù)量為4.0TB,一幅600mmX1000mm電路數(shù)據(jù)達(dá)60Tb,所以，這種精密電路圖形海量處理技術(shù)和軟件、數(shù)據(jù)傳輸和壓縮、光電轉(zhuǎn)換和光刻模式等，含有極高難度。4、微納直寫(xiě)光刻和加工設(shè)備，是多行業(yè)生產(chǎn)工藝步驟中關(guān)鍵關(guān)鍵裝備，用于提供光掩模板、微米線寬電路制備和模板、或進(jìn)行直接圖形結(jié)構(gòu)加工，比如超薄導(dǎo)光板模具，是微納功效材料（裸眼3D顯示、柔性電路、觸控）、器件（背光源等）等行業(yè)不可缺乏工具。工藝優(yōu)勢(shì)：本項(xiàng)目申請(qǐng)單位，長(zhǎng)久從事微納制造領(lǐng)域研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化，尤其在超精密大幅面光刻直寫(xiě)等裝備制造方面含有10余年工藝積累，企業(yè)是中國(guó)唯一含有整套微納米柔性制造產(chǎn)線企業(yè)，含有國(guó)際領(lǐng)先水平。中國(guó)外同行和教授參觀后給充足贊賞和肯定，為此，企業(yè)曾負(fù)擔(dān)了國(guó)家863計(jì)劃和電子發(fā)展基金等項(xiàng)目，并圓滿完成。在微納精密制造領(lǐng)域，項(xiàng)目申請(qǐng)單位無(wú)疑在中國(guó)同行中含有領(lǐng)先地位，并在國(guó)外同行中含有影響。工藝設(shè)備上：申請(qǐng)單位是中國(guó)唯一含有獨(dú)立研制“高端激光直寫(xiě)光刻和納米壓印設(shè)備”企業(yè)，厚膠曝光設(shè)備（800mmx1300mm），擁有自主研發(fā)“大型紫外激光直寫(xiě)設(shè)備”（iGrapher820-1500，1100mmx1300mm），支持5.5代線光掩模板制備，在光刻分辨率、CD和綜合寫(xiě)入速率等，含有國(guó)際同行優(yōu)異水準(zhǔn)。圖4高端裝備試驗(yàn)場(chǎng)地中國(guó)產(chǎn)業(yè)環(huán)境發(fā)展，對(duì)高端微納裝備含有大量需求；和國(guó)外企業(yè)相比，在技術(shù)溝通、服務(wù)響應(yīng)能力方面含有優(yōu)勢(shì)；中國(guó)還缺乏微納裝備企業(yè)，維格企業(yè)掌握了關(guān)鍵技術(shù)，擁有些人才團(tuán)體，依靠于“國(guó)家地方聯(lián)合工程研究中心”，維格企業(yè)含有高端裝備產(chǎn)業(yè)化優(yōu)勢(shì)。圖5國(guó)家地方聯(lián)合工程中心配套生產(chǎn)條件（五）重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步關(guān)鍵意義和作用中國(guó)信息顯示、光電子等行業(yè)已經(jīng)有很大產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，江蘇省納米產(chǎn)業(yè)在全國(guó)含有優(yōu)勢(shì)地位?！笆濉逼陂g，江蘇省大力發(fā)展戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)，關(guān)鍵發(fā)展新能源、新材料、高端制造、生物技術(shù)和新醫(yī)藥、節(jié)能環(huán)境保護(hù)和新一代信息技術(shù)等六大新興產(chǎn)業(yè)。在這些產(chǎn)業(yè)中，新型顯示、固體照明、納米印刷和柔性光電子等是國(guó)家中長(zhǎng)久科技發(fā)展計(jì)劃、江蘇省科技計(jì)劃中關(guān)鍵發(fā)展領(lǐng)域，和“柔性微納材料和制造技術(shù)”緊密相關(guān)。蘇州工業(yè)園區(qū)布局了國(guó)際科技園、蘇州納米城等載體，提供了孵化等系列服務(wù)，是蘇州納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)化基地。蘇州納米城將占地約100公頃，計(jì)劃建筑面積約130萬(wàn)平方米，于11月開(kāi)啟建設(shè)，關(guān)鍵發(fā)展納米新材料、納米光電子、微納制造、納米生物醫(yī)藥和納米環(huán)境保護(hù)等五大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，以構(gòu)建產(chǎn)業(yè)生態(tài)圈。蘇大維格在高端微納裝備上自主研發(fā)能力，無(wú)疑提升了本身競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)和可連續(xù)發(fā)展性，基礎(chǔ)不依靠于國(guó)外設(shè)備限制。為此，國(guó)家、省部相關(guān)領(lǐng)導(dǎo)和業(yè)內(nèi)教授數(shù)次視察和調(diào)研本項(xiàng)目申請(qǐng)單位高端裝備和平板顯示關(guān)鍵器件研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展和做法。國(guó)家發(fā)改委副主任朱之鑫、工信部副部長(zhǎng)蘇波、科技部副部長(zhǎng)曹健林等關(guān)鍵領(lǐng)導(dǎo)視察后，均給充足肯定和激勵(lì)。國(guó)家發(fā)改委祁司長(zhǎng)等領(lǐng)導(dǎo)視察，對(duì)申請(qǐng)單位在高端微納光刻設(shè)備和平板顯示領(lǐng)域研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化給肯定。工信部蘇波部長(zhǎng)考察蘇大維格人大副委員長(zhǎng)視察蘇大維格并題詞科技部曹健林副部長(zhǎng)視察維格企業(yè)圖6領(lǐng)導(dǎo)肯定四、項(xiàng)目建設(shè)方案項(xiàng)目建設(shè)關(guān)鍵內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模、采取工藝路線和技術(shù)特點(diǎn)、設(shè)備選型及關(guān)鍵技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)、產(chǎn)品市場(chǎng)估計(jì)、建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期管理等。（一）建設(shè)關(guān)鍵內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模面向平板顯示和大尺寸電容觸控屏、精密柔性電路、精密PCB及封裝、MEMS、公共安全、科研等不一樣行業(yè)應(yīng)用，用3年時(shí)間建設(shè)達(dá)產(chǎn)業(yè)化階段，開(kāi)發(fā)出相對(duì)應(yīng)、含有國(guó)際優(yōu)異水平及滿足工廠產(chǎn)業(yè)需求微納加工裝備，完成四種型號(hào)設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備：大型紫外高速圖形化直寫(xiě)設(shè)備，用于55英寸以上平板顯示、大尺寸電容觸控屏生產(chǎn)用掩模版制備。關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：經(jīng)典線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。

2、MEMS、封裝光刻機(jī)：中小型紫外圖形化直寫(xiě)設(shè)備，用于6-8英寸MEMS、封裝等工藝制程，可適適用于厚膠工藝?？捎糜诳蒲性核骷に囇芯亢托∨恐苽?。關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：經(jīng)典線寬1um，精密圖形光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。

3、精密柔性電路、PCB無(wú)掩模光刻機(jī)：高速無(wú)掩模曝光機(jī)，用于下一代10um以下精密電路生產(chǎn)。關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：最小線寬5um，光刻速度大于0mm2/min。

4、背光模具光刻機(jī)：大幅面激光精密微加工設(shè)備，用于超薄TV背光源金屬模具制備。關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：導(dǎo)光結(jié)構(gòu)最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。

建設(shè)期內(nèi)新增場(chǎng)地建設(shè)平米，累計(jì)完成銷售1.25億元，利潤(rùn)1664萬(wàn)元，稅收1165萬(wàn)元。項(xiàng)目建設(shè)完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元高端微納光刻直寫(xiě)裝備制造和銷售能力，同時(shí)帶動(dòng)下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè)，產(chǎn)生10億左右經(jīng)濟(jì)效益?；谄髽I(yè)在高端智能裝備研發(fā)和應(yīng)用技術(shù)積累，整合資源，合理利用自有和外部資金、人才資源，建立高端成套微納光刻裝備研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化、銷售、服務(wù)條件，面向國(guó)際市場(chǎng)，擴(kuò)充面向多領(lǐng)域產(chǎn)品線，建設(shè)國(guó)際一流綜合性微納裝備企業(yè)，和德國(guó)HeidelbergInstruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech等進(jìn)行市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，成為國(guó)際微納裝備領(lǐng)域關(guān)鍵供給商。（二）工藝技術(shù)路線和技術(shù)工藝特點(diǎn)1、設(shè)備制造工藝路線：總體方案設(shè)計(jì)—光、機(jī)、電分解設(shè)計(jì)—設(shè)計(jì)綜合評(píng)審—圖紙—加工采購(gòu)—設(shè)備組裝—編程調(diào)試—測(cè)試檢驗(yàn)—交付。2、技術(shù)工藝特點(diǎn)：技術(shù)和知識(shí)密集型工藝。無(wú)化學(xué)試劑、無(wú)排放、無(wú)污染。低能耗。場(chǎng)地占用面積小。（三）設(shè)備選型及關(guān)鍵技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)1、檢測(cè)設(shè)備選型（1）共焦顯微鏡：型號(hào)：奧林巴斯OLS4100關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：最高橫向分辨率0.12μm、縱向分辨率1nm。（2）激光干涉儀型號(hào)：雷尼紹XL-80關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：線性測(cè)量精度±0.5ppm、分辨率1nm。（3）激光功率計(jì)型號(hào)：Vega+3A/30A關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：10uw-3w/20mw-30w（4）自動(dòng)圖形檢測(cè)儀型號(hào)：LI712關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：檢測(cè)分辨率0.5μm；檢測(cè)速度0.19sec/cm2。（5）掃描電鏡型號(hào)：Sigma/VP關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：分辨率1.3nm@20KV、1.5nm@15KV、2.8nm@1KV。

2、技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)（還是要補(bǔ)充一下技術(shù)指標(biāo)）：（1）技術(shù)指標(biāo)：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備：關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：經(jīng)典線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。

2、MEMS、封裝光刻機(jī)：關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：經(jīng)典線寬1um，精密圖形光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。

3、精密柔性電路、PCB無(wú)掩模光刻機(jī)：關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：最小線寬5um，光刻速度大于0mm2/min。

4、背光模具光刻機(jī)：關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)：導(dǎo)光結(jié)構(gòu)最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。(2)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目面向不一樣行業(yè)市場(chǎng)需求，完成四種型號(hào)高端微納制造裝備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，實(shí)施期內(nèi)累計(jì)完成銷售額1.25億元，凈利潤(rùn)1,665萬(wàn)元，稅收1165萬(wàn)元。（四）產(chǎn)品市場(chǎng)估計(jì)中國(guó)市場(chǎng)：（1）高校科研院所和研究結(jié)構(gòu)，各大測(cè)試加工平臺(tái)?，F(xiàn)在已經(jīng)成功推廣代表性用戶有哈工大、南開(kāi)大學(xué)、蘇州大學(xué)、中科院納米所、上海通用識(shí)別研究所等。而多年來(lái)，伴隨各大高校和研究機(jī)構(gòu)對(duì)微納學(xué)科加大投入，本項(xiàng)目將有更大應(yīng)用市場(chǎng)替換國(guó)外進(jìn)口設(shè)備。（2）企業(yè)：因?yàn)楝F(xiàn)在中國(guó)企業(yè)升級(jí)轉(zhuǎn)型本身發(fā)展需求，也在研發(fā)和測(cè)試儀器上加大了投入，同時(shí)，企業(yè)端用戶認(rèn)證需要，對(duì)產(chǎn)品本身測(cè)試要求提升。比如，在平板顯示行業(yè)，需要對(duì)各類材料表面結(jié)構(gòu)形貌參數(shù)進(jìn)行測(cè)量，在微加工行業(yè)，需要對(duì)加工微結(jié)構(gòu)尺寸進(jìn)行標(biāo)定。據(jù)估計(jì)，僅中國(guó)就有數(shù)百臺(tái)市場(chǎng)需求。為此，本項(xiàng)目會(huì)依據(jù)用戶對(duì)儀器設(shè)備具體要求，開(kāi)發(fā)不一樣類型儀器。確保能夠滿足行業(yè)應(yīng)用需求，替換進(jìn)口。國(guó)外市場(chǎng)：因?yàn)榍捌诒酒髽I(yè)已經(jīng)開(kāi)展了儀器設(shè)備產(chǎn)品開(kāi)發(fā)工作，經(jīng)過(guò)市場(chǎng)反饋能夠看出，因?yàn)楦鲊?guó)全部將微納制造作為關(guān)鍵發(fā)展領(lǐng)域，國(guó)外很多高校、企業(yè)全部對(duì)本企業(yè)現(xiàn)有納米圖形化儀器表現(xiàn)出高度關(guān)注?，F(xiàn)在，現(xiàn)有儀器設(shè)備已經(jīng)出口日本、韓國(guó)、以色列企業(yè)，作為研究工具。因?yàn)楸酒髽I(yè)在這方面領(lǐng)先技術(shù)基礎(chǔ)和有力價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，國(guó)外市場(chǎng)也將作為以后本項(xiàng)目標(biāo)目標(biāo)市場(chǎng)。項(xiàng)目目標(biāo)產(chǎn)品采取部分型號(hào)市場(chǎng)推廣，部分型號(hào)提供給合作企業(yè)新興產(chǎn)業(yè)應(yīng)用方向進(jìn)行產(chǎn)品培育模式。合作企業(yè)光導(dǎo)膜、大尺寸電容觸摸屏等產(chǎn)品，目前服務(wù)企業(yè)大于30家。企業(yè)技術(shù)積累和新品和開(kāi)發(fā)能力得到合作企業(yè)好評(píng)和認(rèn)可，并和業(yè)內(nèi)一批企業(yè)形成長(zhǎng)久緊密合作關(guān)系。圖7行業(yè)合作

（五）建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期管理等1、建設(shè)地點(diǎn)：建設(shè)地點(diǎn)在蘇州蘇大維格光電科技股份新廠區(qū)（蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)）。企業(yè)在蘇州工業(yè)園區(qū)擁有110畝建設(shè)用地?，F(xiàn)在，建有4.5萬(wàn)平米廠房。其中，本項(xiàng)現(xiàn)在期投入已建設(shè)了平米廠房，擬增加面積平米凈化面積。其中，黃光凈化區(qū)1500平米、檢測(cè)面積500平米。圖8項(xiàng)目已建設(shè)場(chǎng)地2、建設(shè)工期和進(jìn)度安排：項(xiàng)目完成期限：自項(xiàng)目下達(dá)之日起3年內(nèi)完成。進(jìn)度安排：第十二個(gè)月，完成4套工程樣機(jī)制造，二臺(tái)為紫外高速圖形直寫(xiě)光刻設(shè)備，另二臺(tái)為532nm綠光，大功率微納直接加工設(shè)備。以這些樣機(jī)作為試驗(yàn)平臺(tái)，用于設(shè)備應(yīng)用開(kāi)發(fā)性能測(cè)試和驗(yàn)證、產(chǎn)品市場(chǎng)展示和應(yīng)用，和各個(gè)功效模塊研發(fā)。建立高水平專業(yè)銷售團(tuán)體，貯備人才隊(duì)伍。企業(yè)現(xiàn)有微納光刻設(shè)備產(chǎn)品，本年度實(shí)現(xiàn)銷售2500萬(wàn)元。第二年，連續(xù)開(kāi)拓新市場(chǎng)，開(kāi)發(fā)面向3-4個(gè)行業(yè)微納光刻設(shè)備。建立完整設(shè)備銷售、量產(chǎn)和服務(wù)團(tuán)體，實(shí)現(xiàn)設(shè)備在精密柔性電路、大尺寸液晶面板背光源等行業(yè)應(yīng)用，實(shí)現(xiàn)銷售大于4000萬(wàn)元。第三年，開(kāi)拓TFT掩模版、MEMS等行業(yè)，實(shí)現(xiàn)高端光刻設(shè)備規(guī)?；慨a(chǎn)，實(shí)現(xiàn)銷售收入大約6000萬(wàn)元。項(xiàng)目建設(shè)完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元高端微納光刻直寫(xiě)裝備制造和銷售能力，同時(shí)帶動(dòng)下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè)，產(chǎn)生10億左右經(jīng)濟(jì)效益。3、建設(shè)期管理：企業(yè)已經(jīng)過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證和ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證。產(chǎn)品包含大尺寸觸控屏、光掩模版、高端裝備、國(guó)家公共安全證卡和包裝印刷。企業(yè)地處中國(guó)-新加坡合作蘇州工業(yè)園區(qū)科教創(chuàng)新區(qū)，所以，企業(yè)對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)和原材料環(huán)境保護(hù)極其關(guān)注，有嚴(yán)格質(zhì)量保障和檢測(cè)體系，購(gòu)置了優(yōu)異檢測(cè)儀器，建有凈化車(chē)間和檢測(cè)分析試驗(yàn)室，在原料、生產(chǎn)制程和過(guò)程管控等各個(gè)步驟均建立了環(huán)境保護(hù)控制程序。項(xiàng)目實(shí)施將嚴(yán)格根據(jù)質(zhì)量管理體系建立標(biāo)準(zhǔn)化工藝步驟。建立項(xiàng)目責(zé)任人和項(xiàng)目進(jìn)展匯報(bào)制度。對(duì)于項(xiàng)目工程建設(shè)嚴(yán)格實(shí)施“四制”，即法人責(zé)任制、工程監(jiān)理制、項(xiàng)目招投標(biāo)制、項(xiàng)目協(xié)議制。本項(xiàng)目標(biāo)建設(shè)將根據(jù)企業(yè)現(xiàn)有質(zhì)量及環(huán)境保護(hù)體系嚴(yán)格管理。五、項(xiàng)目投資項(xiàng)目總投資規(guī)模，資金起源及籌措方案、投資使用方案、貸款償還計(jì)劃。（一）項(xiàng)目總投資規(guī)模、資金起源、投資使用方案本項(xiàng)目總投資10000萬(wàn)元，前期已投入萬(wàn)元企業(yè)自籌資金（包含基建和裝配車(chē)間，部分樣機(jī)設(shè)備紫外激光直寫(xiě)光刻設(shè)備、激光簽注設(shè)備、掃描光刻設(shè)備等）。類別投資額（萬(wàn)元）設(shè)備106基礎(chǔ)建設(shè)(廠房、配電、污水、道路、裝修)727原材料227試制費(fèi)940累計(jì)新增投資8000萬(wàn)元，為企業(yè)自籌資金投入。申請(qǐng)專題經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助萬(wàn)元。類別金額(萬(wàn)元)建筑工程費(fèi)（凈化）1100設(shè)備購(gòu)置及試制費(fèi)1700其它工程和費(fèi)用200鋪底流動(dòng)資金5000累計(jì)8000附:關(guān)鍵設(shè)備購(gòu)置清單萬(wàn)元序號(hào)設(shè)備名稱設(shè)備型號(hào)擬引進(jìn)國(guó)別單價(jià)臺(tái)數(shù)總價(jià)

1

共焦顯微鏡

lext4000

日本75

2

140

2

激光干涉儀

xl80

英國(guó)1002

200

3

激光功率計(jì)

NOVA2

以色列45

20

4

自動(dòng)圖形檢測(cè)儀

lasertecx700

日本1000

1

1000

5

掃描電鏡

zeissEiGMA

日本3001

300累計(jì)111660（二）資金籌措方案項(xiàng)目總投資10000萬(wàn)元，前期企業(yè)自籌已投入萬(wàn)元。新增投資8000萬(wàn)元，起源于企業(yè)自籌資金。申請(qǐng)專題經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助萬(wàn)元。企業(yè)自籌資金起源于企業(yè)自有資金和利潤(rùn)積累再投入，企業(yè)股東會(huì)議一致經(jīng)過(guò)該項(xiàng)出資方案。

六、項(xiàng)目財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及關(guān)鍵指標(biāo)內(nèi)部收益率、投資利潤(rùn)率、投資回收期、貸款償還期等指標(biāo)計(jì)算和評(píng)定，項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)分析，經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益分析。（一）財(cái)務(wù)分析生產(chǎn)和銷售估計(jì)：?jiǎn)挝唬海ㄈf(wàn)元）年度第十二個(gè)月第二年第三年第四年第五年累計(jì)年銷售量（套）5050486593306銷售單價(jià)(未稅)50.0080125154161570.14銷售收入(未稅)25004000600010,00015,00037,500.00生產(chǎn)成本1,452.02,192.43,407.05647.8847421173.2主營(yíng)業(yè)務(wù)稅金及附加5265384163331期間費(fèi)用1,500.00120010007700其中:營(yíng)業(yè)10001000管理150012001,000.00100010005700財(cái)務(wù)0營(yíng)業(yè)利潤(rùn)-457.00581.601,540.002,268.204,363.008,295.80

項(xiàng)目三年財(cái)務(wù)現(xiàn)金流量表：萬(wàn)元項(xiàng)目第十二個(gè)月第二年第三年第四年第五年累計(jì)1現(xiàn)金流入2,7004,2507,30010,30015,30039,8501.1產(chǎn)品銷售收入25004,0006,00010,00015,00037,5001.2折舊2002503003003001,3501.3回收固定資產(chǎn)余值-1.4回收流動(dòng)資金10001,0001.5營(yíng)業(yè)外收入-2現(xiàn)金流出5000.524542.7565,372.788,877.6012,498.3436,2922.1固定資產(chǎn)