《電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》（GB 50472－2008）

電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計規(guī)范中華人民共和國住房和城鄉(xiāng)建設(shè)部第200號GB50472—2008,自2009年7月1日起實施。其中，第3.2.5、中華人民共和國住房和城鄉(xiāng)建設(shè)部二○○八年十二月十五日本規(guī)范由住房和城鄉(xiāng)建設(shè)部負責管理和對強制性條文的解 3電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求 (6)31一般規(guī)定 32生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求 (8)41位置選擇和總平面布置 (8)42潔凈室型式 43潔凈室布置和綜合協(xié)調(diào) 5工藝設(shè)計 51一般規(guī)定 5.2工藝布局 5.3人員凈化 (12)54物料凈化 55設(shè)備及工器具 61一般規(guī)定 62防火和疏散 63室內(nèi)裝修 7空氣凈化和空調(diào)通風設(shè)計 71一般規(guī)定 (19)72氣流流型和送風量 73凈化空調(diào)系統(tǒng) 74空氣凈化設(shè)備 (23)76排煙 (25) 8給水排水設(shè)計 (27)82給水 83排水 (28)8.4雨水 85消防給水和滅火設(shè)備 (30)9.1一般規(guī)定 92純水系統(tǒng) (31) (32) (32)102常用氣體系統(tǒng) (33)10.3干燥壓縮空氣系統(tǒng) (35)104特種氣體系統(tǒng) (35) (37) (37) (40) 122照明 123通信與安全保護裝置 (42) 13防靜電與接地設(shè)計 (46) 14噪聲控制 15微振控制 (51) 附錄A各類電子產(chǎn)品生產(chǎn)對空氣潔凈度等級的要求 (53)附錄B電子產(chǎn)品生產(chǎn)間/工序的火災(zāi)危險性分類舉例 附錄C精密儀器、設(shè)備的容許振動值舉例 附錄D潔凈室(區(qū))性能測試和認證 本規(guī)范用詞說明 (67)1.0.3電子工業(yè)潔凈廠房的設(shè)計應(yīng)滿足需潔凈環(huán)境的電子產(chǎn)品12.0.1潔凈室cleanroom2.0.2潔凈區(qū)cleanzone2.0.3人員凈化用室roomforcleaninghumanbody2.0.4物料凈化用室roomforcleaningmaterial2.0.5粒徑particalsize2.0.6懸浮粒子airborneparticles用于空氣潔凈度分級的空氣中懸浮粒子尺寸范圍在01~2.0.7含塵濃度particleconcentration2.0.8潔凈度cleanliness2.0.9空態(tài)as-bult2.0.10靜態(tài)at-rest2.0.11動態(tài)operational2.0.12氣流流型airpattern2.0.13單向流unidirectionalairflow2.0.14非單向流non-unidirectionalairflow2.0.15混合流mixedairflow2.0.16潔凈工作區(qū)cleanworkingarea指潔凈室內(nèi)離地面高度0.8～15m(除工藝特殊要求外)的區(qū)利用高速潔凈氣流吹落并清除進入潔凈室人員或物料表面附2.0.18氣閘室airlock2.0.19傳遞窗passbox2.0.20潔凈工作服cleanworkinggarment在額定風量下，最易穿透粒徑法的效率在99.95%以上及氣在額定風量下，最易穿透粒徑法的效率在99.9995%以上及2.0.30純水purewater雜質(zhì)含量很少的水，其電解質(zhì)雜質(zhì)含量(常以電阻率表征)和2.0.32特種氣體specialgas2.0.33化學品chemical2.0.34防靜電環(huán)境ESDcontrolledenvironment2.0.35表面電阻surfaceresistance在材料的表面上兩電極間所加直流電壓與流過兩極間的穩(wěn)態(tài)3電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求3.2.3潔凈室(區(qū))的溫度和相對濕度應(yīng)按表3.23確定。溫度(℃)相對濕度(%冬季夏季冬季夏季生產(chǎn)工藝有要求的潔凈室按具體生產(chǎn)工藝要求確定7續(xù)表3.2.3相對濕度(%)冬季夏季冬季夏季生產(chǎn)工藝無要求的潔凈室~24人員凈化及生活用室~18~28——3.2.5單向流和混合流潔凈室(區(qū))的噪聲級(空態(tài))不應(yīng)大于65dB(A),非單向流潔凈室(區(qū))的噪聲級(空態(tài))不應(yīng)大于60dB(A)。4總體設(shè)計動或噪聲干擾或強電磁場的區(qū)域。不能遠離嚴重空氣污染源時，4.1.2潔凈廠房凈化空調(diào)系統(tǒng)的新風口與城市交通干道之間的潔凈廠房宜根據(jù)電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝特點和各種功能區(qū)的要業(yè)潔凈廠房宜采用混合流潔凈室。對空氣潔凈度凈度要求嚴格2生產(chǎn)工藝或生產(chǎn)設(shè)備有特殊要求時，宜分隔為單獨的房3生產(chǎn)過程中排放腐蝕性氣體的生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)工序應(yīng)分3生產(chǎn)過程中排放影響產(chǎn)品質(zhì)量的有害氣體或化學污染物5.1.3潔凈廠房工藝設(shè)計應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝和空氣潔凈度等5.2.4潔凈室(區(qū))內(nèi)要求空氣潔凈度嚴格的工序(設(shè)備)應(yīng)遠5.2.6潔凈廠房內(nèi)不同空氣潔凈度等級的潔凈室(區(qū))之間聯(lián)系潔凈室潔凈室盥洗更潔凈服更外衣?lián)Q鞋廁所門廳雨具下班宜按潔凈室(區(qū))內(nèi)設(shè)計人數(shù)平均2～4m2/人計算。1在潔凈室(區(qū))的入口處宜設(shè)空氣吹淋室。當不設(shè)空氣吹3單人空氣吹淋室，應(yīng)按最大班人數(shù)每30人設(shè)一臺。潔凈5空氣潔凈度等級為5級或嚴于5級的垂直單向流潔凈室潔凈工作服更衣室的空氣潔凈度等級宜低于相鄰潔凈室氣潔凈度等級宜為8級。5.5.1潔凈室(區(qū))內(nèi)應(yīng)采用具有防塵、防污染的生產(chǎn)設(shè)備和輔5.5.2當設(shè)備安裝在跨越不同空氣潔凈度等級的潔凈室(區(qū))5.5.3潔凈室(區(qū))內(nèi)的設(shè)備宜選用低噪聲產(chǎn)品。當所選設(shè)備超限的20%時，應(yīng)設(shè)尾氣處理裝置，在排入排氣系統(tǒng)前應(yīng)去除或稀6.1.7對兼有一般生產(chǎn)區(qū)和潔凈室(區(qū))的綜合性廠房，廠房的舉例見本規(guī)范附錄B。備設(shè)有火災(zāi)報警和滅火裝置以及回風氣流中設(shè)有靈敏度嚴于1每一生產(chǎn)層、每個防火分區(qū)或每一潔凈室的安全出口數(shù)報警和滅火裝置以及回風氣流中設(shè)有靈敏度嚴于0.01%obs/m要確定，但不得大于本條第2款規(guī)定的安全疏散距離的1.5倍。1應(yīng)滿足使用功能的要求，構(gòu)造和施工縫隙應(yīng)采取密閉措7.1.1潔凈廠房內(nèi)各潔凈室(區(qū))的空氣潔凈度等級，應(yīng)根據(jù)電7.1.2氣流流型應(yīng)根據(jù)各潔凈室(區(qū))空氣潔凈度等級和電子產(chǎn)4潔凈室(區(qū))與室外的靜壓差應(yīng)大于10Pa。7.1.7潔凈室(區(qū))維持靜壓差值所需的壓差風量，宜采用縫隙20凈度等級等因素確定。潔凈室(區(qū))宜采用移動式高效真空吸塵器。對于空氣潔凈度等級為1～5級的潔凈室宜設(shè)置集中式真空2潔凈室工作區(qū)的氣流流速應(yīng)滿足生產(chǎn)工藝和工作人員健7.2.3潔凈室(區(qū))所需的滿足空氣潔凈度等級的潔凈送風量和空氣潔凈度等級氣流流型平均風速(m/s)換氣次數(shù)(h-1)單向流或混合流6非單向流7非單向流非單向流注1換氣次數(shù)適用于層高小于40m的潔凈室。級和產(chǎn)品生產(chǎn)工藝特點確定。潔凈室(區(qū))面積較小或只有局部7.3.2潔凈廠房的潔凈室(區(qū))送風方式可分為集中送風、隧道7.3.5凈化空調(diào)系統(tǒng)設(shè)計應(yīng)合理利用回風，但下列情況不得回7.3.6凈化空調(diào)系統(tǒng)需設(shè)置電加熱時，應(yīng)選用不產(chǎn)塵的電加熱7對化學污染物有控制要求的潔凈室(區(qū)),在凈化空調(diào)系3終阻力時的疊加噪聲及振動應(yīng)滿足生產(chǎn)工藝和本規(guī)范的1潔凈室(區(qū))內(nèi)等于或嚴于5級的局部凈化區(qū)域宜采用層3終阻力時的疊加噪聲及振動應(yīng)滿足生產(chǎn)工藝和本規(guī)范的器機組所提供的機外余壓確定；1應(yīng)有良好的氣密性，漏風率不得大于1%;4送風機宜采取變頻調(diào)速措施。送風機可按凈化空調(diào)系統(tǒng)的總風量和總阻力值進行選擇。計算系統(tǒng)總阻力時，中效(高中效)、高效(亞高效、超高效)空氣過濾器的阻力宜按其初阻力的7.5.1空氣潔凈度等級嚴于8級的潔凈室(區(qū))不應(yīng)采用散熱器不大于爆炸下限的20%計；1事故排風區(qū)域的換氣次數(shù)不應(yīng)小于12次/h;(區(qū))人員密度小于002人/m2,且安全疏散距離小于80m時，潔足潔凈室(區(qū))內(nèi)噪聲控制的要求。潔凈室(區(qū))排風系統(tǒng)，應(yīng)采8.1.1潔凈廠房的給水排水干管應(yīng)敷設(shè)在技術(shù)夾層或技術(shù)夾道8.1.2穿過潔凈室的水管道，應(yīng)根據(jù)管內(nèi)水溫和所在房間的溫8.1.3給水排水管道穿過潔凈室(區(qū))墻壁、樓板和頂棚時應(yīng)設(shè)8.2.1潔凈廠房內(nèi)的給水系統(tǒng)應(yīng)根據(jù)各種用途(包括工藝冷卻4閥門及附件應(yīng)采用與管材相同的材質(zhì)。8.3.2潔凈室(區(qū))內(nèi)與電子產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備相連接的重力排水管8.3.3潔凈室(區(qū))內(nèi)地漏等排水設(shè)施的設(shè)置，應(yīng)符合現(xiàn)行國家8.4.2屋面幣水排水管道的排水設(shè)計重現(xiàn)期不宜小于10年。流設(shè)施。屋面雨水排水工程與溢流設(shè)施的總排水能力不應(yīng)小于50年重現(xiàn)期的雨水量。8.4.4雨水斗的位置應(yīng)確保雨水斗連接管和懸吊管不穿過潔凈8.5.1潔凈廠房必須設(shè)置消防給水系統(tǒng)。消防給水系統(tǒng)的設(shè)置1潔凈室(區(qū))的生產(chǎn)層及上下技術(shù)夾層(不含不通行的技2室內(nèi)消火栓的用水量不應(yīng)小于10L/s,同時使用水槍數(shù)不應(yīng)少于2支，水槍充實水柱不應(yīng)小于10m,每只水槍的出水量不應(yīng)小于5L/s;8L/min·m2,作用面積不應(yīng)小于160m2;統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50370和《二氧化碳滅火系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB9純水供應(yīng)1循環(huán)回流水量應(yīng)大于設(shè)計供水量的30%;2干管流速應(yīng)大于等于1.5m/s;3不循環(huán)支管的長度不應(yīng)大于管徑的6倍；4干管應(yīng)設(shè)置清洗口；6應(yīng)配備在線水質(zhì)檢測儀表；9.2.6純水精處理或終端處理裝置宜靠近用水生產(chǎn)設(shè)備設(shè)置。9.3.2純水管道的閥門和附件的選用應(yīng)符合下列規(guī)定：10氣體供應(yīng)50030等的有關(guān)規(guī)定。徑不宜小于6mm,壁厚不宜小于1mm,1氣體純化裝置應(yīng)根據(jù)氣源和產(chǎn)品生產(chǎn)工藝對氣體純度、容2氣體純化裝置宜設(shè)置在氣體純化間(站)內(nèi)。當潔凈廠房3各類氣體純化裝置宜設(shè)置在同一氣體純化間(站)內(nèi)。若用氣量不超過1瓶時，氣瓶可設(shè)置在潔凈室(區(qū))內(nèi)，但應(yīng)采取不1氣體純度大于或等于99999999%時，應(yīng)采用內(nèi)壁電拋光2氣體純度大于或等于99.999%、露點低于—76℃時，宜采1供氣規(guī)模應(yīng)按產(chǎn)品生產(chǎn)所需供氣量和計入必要損耗量確3供氣系統(tǒng)可集中設(shè)置在潔凈廠房內(nèi)的供氣站或潔凈廠房10.4.3潔凈室(區(qū))內(nèi)可燃或有毒的特種氣體分配系統(tǒng)的設(shè)置，1特種氣體鋼瓶(含硅烷或硅烷混合物)應(yīng)設(shè)置在具有連續(xù)2氣瓶或氣瓶組與周圍的構(gòu)筑物或圍欄的間距應(yīng)大于3儲存區(qū)頂棚的高度應(yīng)大于3.5m。1化學品儲存間(區(qū))的儲量不應(yīng)超過該化學品24h的消耗2運送危險化學品的推車運載量不得超過250L;單個容器的容量不應(yīng)超過20L;3輸送系統(tǒng)應(yīng)只容許采用氮氣增壓，4在分配和使用處應(yīng)設(shè)置手動切斷閥；儲罐的容積或20min消防用水量；保護堤的高度不應(yīng)低于2化學品相互接觸引起化學反應(yīng)的可燃液體儲罐或罐組之密封。隔堤高度不應(yīng)低于400mm;12電氣設(shè)計12.1.1潔凈廠房的用電負荷等級和供電要求，應(yīng)根據(jù)電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝及設(shè)備要求和現(xiàn)行國家標準《供配電系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50052的有關(guān)規(guī)定確定。12.1.3電子產(chǎn)品生產(chǎn)用主要工藝設(shè)備，應(yīng)由專用變壓器或?qū)Ｓ玫蛪吼侂娋€路供電。對電源連續(xù)性有特殊要求的生產(chǎn)設(shè)備、動力設(shè)備，宜設(shè)置不間斷電源或備用發(fā)電裝置等。在潔凈室(區(qū))內(nèi)宜12.1.7潔凈廠房的電氣管線宜敷設(shè)在技術(shù)夾層或技術(shù)夾道內(nèi)，的電氣管線宜暗敷，電氣管線管口及安裝于墻上的各種電器設(shè)備4112.2.2對照度有特殊要求的電子產(chǎn)品生產(chǎn)部位應(yīng)設(shè)置局部照般照明照度值的20%;3備用照明的電源宜由變電所專線供電。2空氣潔凈度等級嚴于或等于5級的潔凈室(區(qū)),宜采用淚1潔凈室(區(qū))內(nèi)應(yīng)設(shè)置內(nèi)外聯(lián)系的通信設(shè)施。每個工序宜2潔凈室(區(qū))內(nèi)設(shè)置的無線通信系統(tǒng)，不得對電子產(chǎn)品生風氣流中應(yīng)設(shè)置靈敏度嚴于0.01%obs/m的早期煙霧報警探測4潔凈生產(chǎn)區(qū)、走道和技術(shù)夾層(不包括不通行的技術(shù)夾計規(guī)范》GB50116的有關(guān)規(guī)定，潔凈室(區(qū))火災(zāi)報警應(yīng)進行核下限值或允許濃度值的20%。《火災(zāi)自動報警系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50116的有關(guān)規(guī)定。潔凈室應(yīng)大于10。極保持20m以上的間距。所應(yīng)符合表13.1.2的要求。防靜電級別靜電電位絕對值V一級1半導(dǎo)體器件、集成電路、平板顯示器制造和測試的場所2電子產(chǎn)品生產(chǎn)過程中操作1級靜電敏感器件制造和測試的場所二級1靜電敏感精密電子儀器的測試和維修場所2靜電敏感電子器件制造和測試的場所三級除一級、二級場所以外的電子器件和整機的組裝、調(diào)試場所1防靜電地面面層的選擇，應(yīng)滿足電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝的要料表面電阻率應(yīng)為2.5×10?~1×10?Q;地泄放電阻值應(yīng)為1×10?~1×10?Q。1×10?0,摩擦起電電壓不應(yīng)大于100V,靜電半衰期不應(yīng)大于電阻、對地電阻應(yīng)為1×10?~1×10?Ω,摩擦起電電壓不應(yīng)大于200V,靜電半衰期不應(yīng)大于1s,但軟簾的摩擦起電電壓不應(yīng)大于電電壓不應(yīng)大于1000V。其主干線截面不應(yīng)小于95mm2,支線最小截面應(yīng)為2.5mm2。值宜為1MQ。14.1.3潔凈室(區(qū))的噪聲控制設(shè)計的噪聲級(空態(tài))應(yīng)符合本規(guī)范第3.2.5條的規(guī)定。1圍護結(jié)構(gòu)宜采取吸聲和隔聲處理；15微振控制3對設(shè)有精密設(shè)備、儀器的潔凈室(區(qū))有振動影響的動力15.3.2有微振動控制要求的潔凈室(區(qū)),其建筑結(jié)構(gòu)的微振動3隔振系統(tǒng)各向阻尼比不應(yīng)小于0.15;附錄A各類電子產(chǎn)品生產(chǎn)對空氣潔凈度等級的要求產(chǎn)品、工序空氣潔凈度等級控制粒徑(μm)半導(dǎo)體材料拉單晶6～8切、磨、拋03～05清洗4～603～05外延4～603～05芯片制造氧化、擴散、清子注入、CMP2～501～05光刻01～0.3檢測02～05設(shè)備區(qū)6～803～05封裝劃片、鍵合03～05封裝6～803～05TFT-LCD陣列板(薄膜、光刻、刻蝕、剝離)2～502～03成盒(涂復(fù)、磨擦、液晶注入、切割、磨邊)02～03模塊4～603～05彩膜板2～502～03STN-LCD03～05HDD制造區(qū)01～03其他區(qū)6～703～05產(chǎn)品、工序空氣潔凈度等級控制粒徑(μm)核心區(qū)支持區(qū)鋰電池干工藝其他區(qū)彩色顯像管徐屏、電子槍裝配、熒光粉錐石墨涂覆、蔭罩裝配8表面處理電子儀器、微型計算機裝配8高密磁帶制造6～8(局部5級)印制版的照相、制版、于膜光導(dǎo)纖維預(yù)制棒拉絲光盤制造磁頭生產(chǎn)核心區(qū)5清洗區(qū)6片式陶瓷電容、片式電阻等制造絲印、流延8聲表面波器件制造光刻、顯影5鍍膜、清洗、劃片、封帽6附錄B電子產(chǎn)品生產(chǎn)間/工序的火災(zāi)危險性分類舉例生產(chǎn)類別甲磁帶涂布烘干工段有丁酮、丙酮、異丙醇等易燃化學品的儲存、分配間有可燃/有毒氣體的儲存、分配間乙印制線路板廠的貼膜曝光間、檢驗修版間彩色熒光粉的藍粉著色間丙半導(dǎo)體器件、集成電路工廠的外延問①、化學氣相沉積間①、清洗間①液晶顯示器件工廠的CVD間①,顯影、刻蝕間，模塊裝配間，彩膜生產(chǎn)間計算機房記錄數(shù)據(jù)的磁盤儲存間彩色熒光粉廠的生粉制造間蔭罩廠(制版)的曝光問、顯影間、涂膠間磁帶裝配工段集成電路工廠的氧化、擴散間，光刻間，離子注入間，封裝間丁電真空顯示器件工廠的裝配車間、涂屏車間、蔭罩加工車間、屏錐加工車間②半導(dǎo)體器件、集成電路工廠的拉單晶間，蒸發(fā)、濺射間，芯片貼片間液晶顯示器件工廠的濺射間、彩膜檢驗間光纖預(yù)制棒工廠的MCVD、OVD沉積間，火拋光、芯棒燒縮及拉伸間、光纖拉絲區(qū)彩色熒光粉廠的藍粉、綠粉、紅粉制造間戊半導(dǎo)體器件、集成電路工廠的切片間、磨片間、拋光間光纖、光纜工廠的光纖篩選、檢驗區(qū)，光纜生產(chǎn)線③注①表中房間在設(shè)備密閉性良好，并設(shè)有氣體或可燃蒸氣報警裝置和滅火裝序號精密儀器設(shè)備名稱振動位移振動速度1每毫米刻3600線以上的光柵刻線機2每毫米刻2400線以上的光柵刻線機3每毫米刻1800線的光柵刻線機、自控激光光波比長儀及光柵刻線檢刻機、80萬倍電子顯微鏡、精度003μm光波干涉孔徑測量儀、14萬倍掃描電鏡、精度002μm柯氏干涉儀、精度001μ雙管烏氏光管測角儀——4每毫米刻1200線的光柵刻線機、6萬倍顯微鏡、▽14光潔度干涉顯微鏡、▽13光潔度測量儀、光導(dǎo)纖維拉絲機、膠片和相紙擠壓涂布機、聲表面波器件制版機5每毫米刻600線的光柵刻線機、立式金相顯微鏡、AC?型檢流計、02μm分光鏡(測角儀)、高精度機床裝配臺、超微粒干板涂布機—6精度lμm的立式(臥式)光學比較儀、投影光學儀、測量計一附錄D潔凈室(區(qū))性能測試和認證D.1.1潔凈室(區(qū))應(yīng)定期進行性能測試。以認證潔凈室(區(qū))始D.1.2潔凈室(區(qū))性能測試認證工作，應(yīng)由專門檢測認證單位D.1.3測試和認證工作之前，系統(tǒng)應(yīng)達到穩(wěn)定運行。測試儀表D.2潔凈室(區(qū))性能測試要求時間間隔應(yīng)符合表D.2.2-1和表D.2.2-2的規(guī)定。空氣潔凈度等級最長時間間隔(月)測試方法6測試項目最長時間間隔(月)測試方法風速或風量靜壓差測試項目空氣潔凈度等級建議最長的時間間隔(月)測試方法已安裝過濾器泄漏氣流流型目測溫度相對濕度照度噪聲自凈時間密閉性所有潔凈度等級見D35見D36見D.36見D38見D37或不應(yīng)少于3點。每一點的測試時間不應(yīng)少于10s。應(yīng)記錄平均應(yīng)少于3點。子濃度應(yīng)大于3.5×10?P/m3的大氣塵或其他氣溶膠；在過濾器N=A?5(D.3.4-1)(D.3.4-2)式中V?———每個采樣點的每次采樣量，以l表示，當Vs很大時，可使用順序采樣法。每個采樣點的最小采樣時間為1min,采樣量應(yīng)至少為21;被測潔凈室空氣潔凈度等級的被測粒徑的限值(p/m3);20——在規(guī)定被測粒徑粒子的空氣潔凈度等級限值時，可測到的粒子顆數(shù)(顆)。4當潔凈室(區(qū))僅有一個采樣點時，則在該點應(yīng)至少采樣3D.3.5氣流流型的檢測，應(yīng)符合下列規(guī)定：1氣流流型的檢測，宜采用氣流目測法。2氣流目測法有示蹤線法、示蹤劑注入法，并應(yīng)用圖像處理技術(shù)記錄和處理。示蹤線法所用纖維或示蹤劑的微粒都不應(yīng)成為潔凈室(區(qū))的一種污染源。3示蹤線法應(yīng)為通過觀察放置在測試桿末端或氣流中細鋼絲格柵上的絲線或單根尼龍纖維等，直接目測得到氣流方向或因干擾引起的波動。4示蹤劑注入法，可采用純水噴霧或化學法生成的乙醇/正二醇等示蹤劑粒子的特性，在高強度光源下進行觀察或做成圖像。5應(yīng)采用圖像處理技術(shù)進行氣流目測，本法一般是與示蹤法結(jié)合，將在攝像機或膜上的粒子圖像等經(jīng)技術(shù)處理得到氣流特性。6氣流目測的測點位置、儀器等，應(yīng)根據(jù)潔凈室(區(qū))的具體條件洽商確定。D.3.6溫度、相對濕度的檢測，應(yīng)符合下列規(guī)定：1溫度、相對濕度的檢測應(yīng)在潔凈室(區(qū))內(nèi)氣流分布均勻狀態(tài)測試，并應(yīng)在凈化空調(diào)系統(tǒng)試運轉(zhuǎn)合格后安排進行。溫度、相對濕度檢測應(yīng)在凈化空調(diào)系統(tǒng)已經(jīng)運轉(zhuǎn)，并應(yīng)至少穩(wěn)定運行1.0h大面積應(yīng)為100m2,應(yīng)每格一個測點，但每個4檢測時間應(yīng)至少1.0h,并應(yīng)至少6min進行1次(30s)讀2潔凈室(區(qū))內(nèi)的噪聲檢測點應(yīng)根據(jù)電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝要求確定。噪聲檢測點宜距地面1.1～1.5m,距墻應(yīng)大于3m;檢測D.3.8照度測試，應(yīng)符合下列規(guī)定：2微振檢測點應(yīng)根據(jù)潔凈室(區(qū))內(nèi)需進行微振控制的精密3微振控制的檢測應(yīng)由具有相應(yīng)資質(zhì)的單位進行。現(xiàn)場檢凈室(區(qū))或非潔凈室(區(qū))侵入。本檢測一般用于ISO1～5級潔比潔凈室(區(qū))內(nèi)濃度大10?,并大于等于35×10?個/m3待測粒其掃描速度為50mm/s。潔凈室敞開門處的滲漏檢測，應(yīng)在距離門0.3～3.0m處測定記錄并報告比測得的外部相同粒徑粒子濃度大于10-3倍的D.4.1潔凈廠房性能測試認證前，應(yīng)由業(yè)主與認證單位簽訂協(xié)D.4.2按協(xié)議書規(guī)定及本附錄第D.2節(jié)的要求，以及本附錄第D.4.3每次性能測試或再認證測試應(yīng)作記錄，并提交性能合格D.4.4測試機構(gòu)應(yīng)提交潔凈室檢驗證書、再檢驗證書。D.5.2應(yīng)按常規(guī)或定期的測試方法和儀表檢測，將初始觀察記GB50472-2008條文說明 (73)3電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求 (74)31一般規(guī)定 32生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求 (87)41位置選擇和總平面布置 (89)43潔凈室布置和綜合協(xié)調(diào) (92) (94)51一般規(guī)定 53人員凈化 54物料凈化 6潔凈建筑設(shè)計 62防火和疏散 63室內(nèi)裝修 7空氣凈化和空調(diào)通風設(shè)計 72氣流流型和送風量 73凈化空調(diào)系統(tǒng) 81一般規(guī)定 82給水 83排水 (128)85消防給水和滅火設(shè)備 91一般規(guī)定 92純水系統(tǒng) 101一般規(guī)定 103干燥壓縮空氣系統(tǒng) 104特種氣體系統(tǒng) 11.1一般規(guī)定 112化學品儲存、輸送 113管材、閥門 122照明 123通信與安全保護裝置 13防靜電與接地設(shè)計 13.1一般規(guī)定 (156)132防靜電措施 133防靜電接地 (160) 142噪聲控制設(shè)計 151一般規(guī)定 152容許振動值 3電子產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求微電子產(chǎn)品為代表的各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)發(fā)展迅速。現(xiàn)代電子其組裝的生產(chǎn)過程都要求在受控環(huán)境條件下進行操作，其中以集成電路生產(chǎn)過程對受控環(huán)境的要求尤為嚴格，當今線寬為45nm的超大規(guī)模集成電路產(chǎn)品已投入生產(chǎn)，其受控生產(chǎn)環(huán)境潔凈室(區(qū))的受控粒子尺寸要求小于0.02μm甚至更小。表1是超大規(guī)模集成電路的發(fā)展及相應(yīng)控制粒子的粒徑。集成電路產(chǎn)品的生產(chǎn)和研究表明，超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)所需受控環(huán)境不僅嚴格控制微粒，而且還需嚴格控制生產(chǎn)環(huán)境的化學污染物和直接與產(chǎn)和雜質(zhì)含量，表2是超大規(guī)模集成電路對化學污染物的控制指標。表3是大規(guī)模集成電路的工藝發(fā)展。投產(chǎn)年代集成度(DRAM)線寬(μm)控制粒子直徑(μm)0125007500650.0350025年份1997~1999~2003~2006~2009~線寬(μm)018～015硅片直徑(μm)受控粒徑(μm)粒子數(shù)(柵清洗)(個·cm-2)重金屬(Fe)(原子·cm-2)25X10105×10925×10925×10?有機物(C)(原子·cm-2)5×10133×1012年份工藝特征硅片直徑(μm)特征尺寸(μm)21工藝步數(shù)400潔凈度等級531純氣、純水中雜質(zhì)X10-9X10-951X10-9X10-9從表1～表3中所列數(shù)據(jù)可見，動態(tài)隨機存儲器(DynamicRandomAccessmemory,簡稱DRAM)產(chǎn)品的線寬從0.25μm發(fā)要求潔凈室(區(qū))生產(chǎn)環(huán)境控制粒子直徑從0.125μm嚴格到0.025μm,空氣潔凈度等級從5級到6級，嚴格到1級或更嚴；生產(chǎn)過程使用的高純氣、高純水中的雜質(zhì)含量從10-6,嚴格到10-1等。集成電路生產(chǎn)實踐表明，芯片生產(chǎn)過程使第3.11～3.1.3條的一般規(guī)定。3.2.1在現(xiàn)行國家標準《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》GB50073—2001中等同采用國際標準《潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境第一篇》ISO14644-1中有關(guān)潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境空氣中懸浮粒子潔凈度級不相同。因此第3.2.2條規(guī)定各種電子產(chǎn)品用潔凈廠房設(shè)計時，8”4”、5”單晶拉制、原輔材料腐蝕8級二級過濾磨片清洗、噴砂、加熱爐室、檢測封裝7級二級過濾石英管清洗、腐蝕清洗、加熱爐后室6級—磨片、腐蝕清洗7級二級過濾，局部5級拋光室7級二級過濾拋光貼片6級二級過濾，局部5級清洗、檢測、包裝4級6級，局部5級最終檢測3級6級，局部5級A廠C廠D廠E廠溫度(℃)22士145±521±150±522士145±55級22±0545士35級22±145+5氯化、擴散、清洗、離子注入等溫度(℃)22±245±105級21士150士56級23士245士105級22±0545士322±145士5溫度(℃)7級6級20～2840～6040～7024士135～407級22±340～70溫度(℃)24士250±107級20～2840～6023±345±1024土135～407級22士340～70溫度(℃)21士150±5注表中*為芯片生產(chǎn)設(shè)備配帶微環(huán)境裝置，裝置內(nèi)空氣潔凈度等級為1～2級。A廠B廠陣列(薄膜、光刻、刻蝕)空氣潔凈度5級(03μm)、4級溫度(℃)23士2成盒(液晶汪入、裝配、切割空氣潔凈度溫度(℃)6級(03μm)、5級5級(03μm)、溫度(℃)60士560±1060士57級(03μm)、5級溫度(℃)23士223士12微硬盤驅(qū)動器(HDD)生產(chǎn)用潔凈廠房濺射生產(chǎn)區(qū)4級：0lμm、23±1℃、45%±5%;3高密度磁盤生產(chǎn)用潔凈廠房.50±5%,其中，涂布間的頭部要求5級；4表7、表8分別列出彩色顯像管生產(chǎn)、光導(dǎo)纖維生產(chǎn)所需A.廠B廠C廠D廠屏、電子槍組裝空氣潔凈度8級(5級)7級(5級)7級(5級)5級溫度(℃)濕度(%)24士2續(xù)表7A廠B廠C廠D廠熒光粉配制等空氣潔凈度溫度(℃)濕度(%)8級8級8級8級26士1蔭罩組裝、錐石墨涂覆空氣潔凈度溫度(℃)濕度(%)40～707級8級40～708級40～70蒸鋁問空氣潔凈度溫度(℃)濕度(%)8級8級8級8級涂有機膜空氣潔凈度溫度(℃)8級7級7級24士28級60士5B廠C廠24士224士2預(yù)制棒制造溫度(℃)6級22士27級24士28級檢測間8級8級24士360士58級6印制電路板生產(chǎn)用潔凈廠房：6.5級、24±2℃、65%士5%。8等離子顯示器(PDP)生產(chǎn)用潔凈廠房：涂屏間等：5.5士10%。質(zhì)含量的要求不同，它們之間差異很大。表9是中國電子級水的技術(shù)指標，表10是美國ASTMD5127電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水級別指標EW—1EW—2EW—3EW一4電阻率I(MQ·cm,25℃)全硅，最大值(μg/L)2最大值(μg/L)5細菌個數(shù)，最大值(個/mL)銅，最大值(μg/L)12鋅，最大值(μg/L)15鎳，最大值(μg/L)12鈉，最大值(μg/L)25鉀，最大值(pg/L)25氯，最大值(μg/L)11續(xù)表9級別指標EW一1EW—2EW—3EW一4硝酸根，最大值(μg/L)115磷酸根，最大值(μg/L)115硫酸根，最大值(μg/L)115總有機碳最大值(μg/L)表10美國ASTMD5127電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水水質(zhì)要求線寬(μm)10~05~025~50~ —總有機碳TOC(μg/L)521溶解氧DO(μg/L)111蒸發(fā)殘渣(μg/L)1微粒(μm)(SEM檢測)1——微粒(μm)(在線檢測)441—細菌1I111—硅(μm)總硅溶解硅31續(xù)表10E一3E一4離子(μg/L)11111121l55522555項目(1)項目(2)項目(3)電阻率(25℃)微粒子≤10個/mL≤10個/mL≤10個/mL≤10個/mL續(xù)表11項目(1)項目(2)項目(3)細菌≤005個/mL≤01個/mL≤100個/L≤50個/L溶解氧水溫暫缺水壓025士002MPaNa+N?+—一Mg2+表128”大規(guī)模集成電路生產(chǎn)用高純水質(zhì)量指標(前工序》電阻率(MQ·cm,25℃)活性硅(pg/L)膠體硅(μg/L)顆粒(個/mL)(≥005μm)總有機碳TOC(μg/L)溶解氧DO(μg/L)細菌(cfu/L)使用點溫度(POU)℃每項<005POi-(pg/L)名稱砷烷氯化氫磷烷硅烷氧化氮氯二氯硅烷分子式AsH?HClPH?N?OCl?S?H?Cl?狀態(tài)瓶裝瓶裝瓶裝瓶裝瓶裝瓶裝瓶裝999467999940999828999417999974999961970000雜質(zhì)含量CO?121Ai10×10-9As05×10-9H?1B03X10-9(wt)N?C10×10-9(wt)O?54424THC1541HC—一X10-9S05×10-9(wt)PH?-NH?5Fe<200AsH?一2Cr<200氯烷3%稀有氣體5Ar十He40總硫1—NO1NO?1H?O42333重金屬頭長若頭—微粒關(guān)關(guān)*頭—關(guān)*小計注表**為協(xié)商確定。集成度H?OO?CO?微粒256KB≥02μm,<35pc/m35≥0014μm,<2pc/m3N?O?H?ArHeNH?HClN?O純度(%)9999999999999999999999599999999999999999999599995雜質(zhì)含量2×10-6CO<01X10-6CO?≤4×10-601×10-6H?≤05X10—650X10-6THC≤05X10-605×10-6H?O≤5×10-6N?≤—4X10-62×10-6微粒pc/m33.2.5近年來，對一些電子工廠的潔凈室(區(qū))內(nèi)的噪聲級(空態(tài))的檢測資料表明，大部分單向流潔凈室(區(qū))內(nèi)的噪聲均可小于65dB(A),也有少數(shù)潔凈室(區(qū))由于各種原因，實際檢測的噪聲超過65dB(A)。非單向流潔凈室(區(qū))內(nèi)的噪聲大部分可小于60dB(A)。表16是部分電子工廠潔凈室(區(qū))內(nèi)噪聲的檢測數(shù)據(jù)。房間名稱空氣潔凈度等級實測噪聲[dB(A)]狀態(tài)光電子器件7級空態(tài)TFT-LCD陣列5級空態(tài)干法刻蝕間6級空態(tài)光刻間5級空態(tài)塑封間6級空態(tài)化學鍍膜間4級空態(tài)精密裝校間4級空態(tài)擴散間3級空態(tài)部品清洗間7級空態(tài)潔凈服洗滌間7級空態(tài)8級空態(tài)鍵合間8級空態(tài)清洗間8級空態(tài)4總體設(shè)計4.1.1電子產(chǎn)品生產(chǎn)用潔凈廠房與其他工業(yè)潔凈廠房的重要區(qū)別之一是一些電子產(chǎn)品生產(chǎn)對化學污染物有嚴格的要求，如微2中列出集成度從64M發(fā)展到64G(原子·cm~)嚴格至小于2.5×10?(原子·cm-2);有機物從些微電子潔凈廠房的產(chǎn)品生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)極微量的Na+、SO2-等化間的距離。由于城市交通干道上運輸車輛運行中所產(chǎn)生的污染物主要通過新風的吸入對潔凈廠房產(chǎn)生影響，根據(jù)現(xiàn)行國家標2在美國國家消防協(xié)會(NFPA)的標準規(guī)范NFPA318《潔凈廠房消防標準》(Standardfortheprocectionofcleanroom)(2000年版)的第1.5.5條中規(guī)定：“潔凈室的范圍包括活動地板一種能滿足以上要求的混合流潔凈室。圖2是Ballroom十微環(huán)境分空間均采用5～6級、平均風速約為0.1m/s。兩種方式的主要技術(shù)經(jīng)濟數(shù)據(jù)的比較見表17,從表中數(shù)據(jù)可見：Ballroom十微環(huán)傳統(tǒng)潔凈室微環(huán)境總送風量(cmf)890300高效過濾器(個)風機發(fā)熱(Btuh)8326100冷負荷(RT)風機耗電(kW)HVAC年耗電量(kW/h)328855066673250注表中兩種方式的總排風量均為80900cmf,新風總量為100000cmf.為1.0～1.5m,有的面積較小的潔凈室只有06～0.8m。所謂“多過濾器或FFU的外形尺寸等確定，一般上技術(shù)夾層空間尺寸寸為4.0m。途的非單向流潔凈室的上技術(shù)夾層的空間尺寸一般為1.5～2.0m,視具體工程項目安排的使用功能和布置在此空間的公用動力間進行分隔。第3款，是從排放有害氣體或化學污染物會發(fā)生交5工藝設(shè)計TFT-LCD為代表的顯示器件正在取代彩色顯像管的顯示器件生備)應(yīng)遠離出入口和可能干擾氣流的場所設(shè)置，并宜布置在上風5.2.6為避免不同空氣潔凈度等級的潔凈室(區(qū))之間的頻繁聯(lián)5.3.3潔凈廠房內(nèi)人員凈化用室和生活用室的建筑面積指標——按設(shè)計人數(shù)平均每人2～4m2是經(jīng)驗數(shù)據(jù)，在具體工程項5.3.5電子工業(yè)潔凈廠房中，設(shè)置了空氣吹淋室的主要是6～9為5級或嚴于5級的垂直單向流潔凈室設(shè)置空氣吹淋室的較少，凈室(區(qū))與非潔凈室(區(qū))的分隔和緩沖。5級或嚴于5級的垂直第2款，規(guī)定空氣吹淋室應(yīng)設(shè)在更換潔凈工作服后的相鄰場第3款，其規(guī)定包含.①潔凈室按最大班人數(shù)每30人設(shè)1臺5.3.6潔凈廠房內(nèi)的人員凈化應(yīng)遵循由外至內(nèi)逐步潔凈的循序更衣室的潔凈度等級，推薦低于相鄰潔凈室(區(qū))空氣潔凈度等8級。3潔凈室(區(qū))的物料凈化用室與潔凈室(區(qū))之間應(yīng)設(shè)置氣閘室或傳遞窗。本條規(guī)定不僅是確保物料的搬入不影響潔凈室生產(chǎn)環(huán)境接觸的表面和可能與電子產(chǎn)品生產(chǎn)過程接觸的表面，也包括這些表面的制作材料。某些電子產(chǎn)品與一些化學物質(zhì)在制作過程中或在電子產(chǎn)品的使用過程中可能發(fā)生化學反應(yīng)，影響某些電子產(chǎn)品的性能參數(shù)，所以要求設(shè)備表面不揮發(fā)化學物標準》(Standardfortheprocectionofcleanroom)第8.6.1條和第網(wǎng)，以便適應(yīng)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝調(diào)整或生產(chǎn)規(guī)模的擴大或產(chǎn)品的升級6.12條的規(guī)定。的甚至達90%以上，因此，潔凈廠房主體結(jié)構(gòu)的耐久性等應(yīng)與之用于集成電路的芯片生產(chǎn)或TFT-LCD生產(chǎn)用潔凈廠房。潔凈生一般約3m左右；潔凈生產(chǎn)層活動地板和多孔板以下的下技術(shù)夾6.2.2本條規(guī)定.電子工業(yè)潔凈廠房內(nèi)生產(chǎn)工作間的火災(zāi)危險在附錄B中列出電子工業(yè)潔凈廠房生產(chǎn)工作間的火災(zāi)危險性分類的舉例?，F(xiàn)對附錄B中與現(xiàn)行國家標準《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》GB50073相關(guān)舉例不同或增加的內(nèi)容說明如下.學品的潔凈室，這些化學品的主要性質(zhì)見表25。從表中數(shù)據(jù)可見用H?、S?H?、AsH?、PH?等可燃、有毒氣體，從表22中所列這些需使用H?、SiH?等可燃氣體，因此在現(xiàn)行國家標準《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》GB50073附錄A中外延間列為甲類。但是近年來，隨著科學技術(shù)進步，半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)所采用的外延設(shè)備的也有了長足進步和提高。據(jù)調(diào)查表明·半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)所采用的外延設(shè)備已配置有氫氣泄漏和排放超濃度報警、連鎖控制裝置以及滅火裝置等；半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)用外延間6.2.3從20世紀90年代末以來，我國建設(shè)了一批大規(guī)模集成電50016規(guī)定的面積。這潔凈區(qū)面積從6500m2~凈區(qū)已達36000m2,第八代TFT-LCD已達90000m2。這類潔凈藝區(qū)是不能分隔的。為加強消防技術(shù)措施，在美國消防標準NFPA318《潔凈室消防標準》中要求采用高靈敏(≤0.01%obs/房的潔凈室(區(qū)),在關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備設(shè)有火災(zāi)報警和滅火裝置以及回風氣流中設(shè)有靈敏度小于等于0.01%obs/m的高靈敏度早期風氣流中應(yīng)設(shè)置高靈敏度早期報警火災(zāi)探測器及其報警系統(tǒng)(VeryEarlySmokeDetectionApparayus,簡稱VESDA)或稱空氣采樣式煙霧探測系統(tǒng)(AirSamplingTypeSmokeDetect?on設(shè)有火災(zāi)報警和滅火裝置。據(jù)調(diào)研表明，在集成電路芯片工廠、TFT-LCD制造工廠等使用易燃、易爆化學品、氣體的生產(chǎn)設(shè)備都設(shè)有火災(zāi)報警和滅火裝置，為本條規(guī)定的實施創(chuàng)造了有利條工廠類別潔凈室建筑(核心生產(chǎn)區(qū))面積(m2)潔凈室建筑高度(m)主要消防技術(shù)措施集成電路芯片甲廠設(shè)有回風高靈敏度早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，易燃、易爆氣體報警系統(tǒng)，機械排煙設(shè)施，CO?滅火裝置等集成電路芯片乙廠設(shè)有機械排煙系統(tǒng)，回風高靈敏度早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，易燃、易爆氣體、化學品泄漏報警與聯(lián)鎖等集成電路芯片丙廠設(shè)有自動噴淋系統(tǒng)，CO滅火裝置，回風高靈敏度早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，易燃、易爆氣體報警系統(tǒng)等TFT-LCD甲廠設(shè)有自動噴淋系統(tǒng)，疏散走廊機械排煙，回風高靈敏度早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，特氣、危險化學品報警系統(tǒng)等續(xù)表18工廠類別潔凈室建筑(核心生產(chǎn)區(qū))面積(m2)潔凈室建筑高度(m)主要消防技術(shù)措施TFT-LCD乙廠22000+14000設(shè)有早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，機械排煙系統(tǒng)，易燃、易爆氣體報警系統(tǒng)、自動噴淋系統(tǒng)等TFT-LCD丙廠設(shè)有早期火災(zāi)報警系統(tǒng)，機械排煙系統(tǒng)，易燃、易爆氣體報警系統(tǒng)，自動噴淋系統(tǒng)等6.2.4據(jù)調(diào)查資料表明，表18所列的一些電子工業(yè)潔凈廠房都上開孔多少視回風量確定，其開孔率一般在30%～50%;而華夫板上的開孔率大于上述開孔率，每個孔洞的直徑一般是400mm2001中第5.2.5條的規(guī)定。6.2.7本條為潔凈廠房的安全出口設(shè)置的有關(guān)規(guī)定。第1款中第5.2.7條的規(guī)定。GB50016—2006的第3.7.4條中有關(guān)廠房內(nèi)任一點到最近安全出口的距離不應(yīng)大于表第3.7.4的規(guī)定。第2款中，還根據(jù)潔凈第3款的規(guī)定是由于近年設(shè)計建造的微電子工廠潔凈廠房的大體量、大面積的實際情況，如表18中所列的5代、6代TFT-LCD液晶顯示器生產(chǎn)用潔凈廠房的潔凈生產(chǎn)區(qū)面積已達氣流中設(shè)有靈敏度嚴于0.01%obs/m的高靈敏度早期火災(zāi)報警2款規(guī)定的安全疏散距離的1.5倍?！痹诒究畹摹白ⅰ敝袑?代TFT-LCD生產(chǎn)用潔凈生產(chǎn)區(qū)的疏散距離，推薦在人員密度小于1在電子工業(yè)潔凈廠房內(nèi)不可避免地會設(shè)有現(xiàn)行國家標準體項目的業(yè)主方或提供生產(chǎn)工藝方進行協(xié)調(diào)后確定。3潔凈室內(nèi)所選用的裝修材料的燃燒性能應(yīng)符合現(xiàn)行國家6.3.3制定本條文的目的除了強調(diào)潔凈室樓地面設(shè)計1潔凈室(區(qū))地面應(yīng)滿足電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝和設(shè)備安裝要中第61.5條的規(guī)定。內(nèi)正壓值要高于室外風速產(chǎn)生的風壓力。當室外風速大于3m/s時，產(chǎn)生的風壓力接近5Pa;若潔凈室內(nèi)正壓值等于或小于5Pa鄰時其最小的靜壓差值應(yīng)該大于5Pa,所以規(guī)定潔凈室與室外的最小壓差為10Pa。第6.24條的規(guī)定。子工廠潔凈廠房工作實踐的經(jīng)驗總結(jié)，并結(jié)合國際標準化組織況制定的。圖4是ISO14644-4中對潔凈室氣流流型的圖示。表等級為6～9級時，基本上采用非單向流，且混合流流型可應(yīng)用于所有各種空氣潔凈度等級的潔凈室。圖4潔凈室內(nèi)的氣流流型示意表19一些電子工業(yè)潔凈廠房的氣流流型工廠類別產(chǎn)品類型空氣潔凈度等級氣流流型建設(shè)時間集成電路芯片制造甲廠6”5單向流1996年集成電路芯片制造乙廠單向流1999年集成電路芯片制造丙廠6“/8”混合流2003年TFT-LCD甲廠5單向流1998年TFT-LCD乙廠5代混合流2004年1表20是根據(jù)國際標準化組織ISO/TC209技術(shù)委員會編表20微電子潔凈室的實例空氣潔凈度等級(級)工作狀態(tài)氣流形式平均氣流速度換氣次數(shù)(次/h)應(yīng)用舉例2U不適用光刻，半導(dǎo)體加工區(qū)3U不適用工作區(qū)，半導(dǎo)體加工區(qū)4U03～05不適用工作區(qū)，多層掩膜加工，光盤制造，半導(dǎo)體服務(wù)區(qū)，公用設(shè)施區(qū)5U02～0.5不適用工作區(qū)，多層掩膜加工，光盤制造，半導(dǎo)體服務(wù)區(qū)，公用設(shè)施區(qū)6N或M不適用70～160公用設(shè)施區(qū)，多層掩膜加工，半導(dǎo)體服務(wù)區(qū)7不適用30～70服務(wù)區(qū)，表面處理8N或M不適用服務(wù)區(qū)議的換氣次數(shù)是指30m的室高度。應(yīng)考慮不透水的屏障技術(shù)。污染源和待其潔凈廠房內(nèi)潔凈區(qū)的空氣潔凈度等級為5級或6級，氣流流型率為25%左右；微環(huán)境內(nèi)的空氣潔凈度等級為2～4級。0.11m/s。7.3.1電子工業(yè)潔凈廠房中的凈化空調(diào)系統(tǒng)的主要形式為集中式和分散式，圖5是幾種分散式凈化空調(diào)系統(tǒng)的典型圖示。從圖OO高效過濾器風機單元新風一System),室外新風經(jīng)新風處理裝置(MAU)后，與經(jīng)表冷器降溫和風機增壓后的回風混合，通過高效過濾器送至潔凈生產(chǎn)層。(b)隧道送風系統(tǒng)(TunnelSystem),潔凈區(qū)的回風經(jīng)維修區(qū)與新響產(chǎn)品質(zhì)量或降低成品率的分子態(tài)化學污染物，如Na、SOx、染物去除到規(guī)定的濃度要求。圖7是某微電子工業(yè)潔凈廠房的新必須的新鮮空氣量的前提下將潔凈室的回風基本得到合理利用，t中效過濾器再熱盤管風機預(yù)(粗效)過濾器化學過濾器淋水室圖7新風處理裝置的示意7.4空氣凈化設(shè)備7.4.1電子工業(yè)潔凈廠房的凈化空調(diào)系統(tǒng)的核心設(shè)備之一的空氣過濾器的正確選用和合理布置，是至關(guān)重要的。首先，應(yīng)遵循我國的相關(guān)國家標準、行業(yè)標準合理選用空氣過濾器，包括空氣過濾器的處理風量、效率、阻力、材質(zhì)和檢測方法(含檢漏方法)等。其次，根據(jù)具體工程項目的產(chǎn)品生產(chǎn)要求和凈化空調(diào)系統(tǒng)設(shè)計，合理安排各類空氣過濾器的位置，在空調(diào)箱中，中效(高中效)空氣過濾器常安裝在正壓段，但近年來為了保持表冷器表面清潔，減少塵粒鑒于目前我國的相關(guān)標準中還沒有去除化學污染物的空氣過濾器或其他去除裝置的標準，只能參照相關(guān)國際標準進行選用和布置。7.4.2風機過濾機組(FFU)是將風機與高效過濾器(HEPA)或超高效過濾器(ULPA)組合在一起，構(gòu)成自身可提供推動力的末端空氣凈化裝置。它由風機、過濾器、機殼和電器控制等部分組成。FFU的主要技術(shù)性能包括風量(一般以斷面風速表示)、余表21一些廠家生產(chǎn)的FFU機組的性能參數(shù)產(chǎn)品編號ABCD轉(zhuǎn)數(shù)風速風量余壓能耗余壓能耗余圧能耗余壓[dB(A)”能耗———-—一注表中產(chǎn)品的模數(shù)尺寸為1200mm×600mm。風壓均為機外余壓(Pa)。百臺甚至上千臺FFU裝置安裝后的疊加噪聲將是不同的。據(jù)初65dB(A)(空態(tài))的要求，F(xiàn)FU在斷面風速為0.45m/s的條件下，其余壓大于100Pa時，單臺FFU裝置的噪聲應(yīng)為50dB(A)左右?；谏鲜銮闆r，本條對電子工業(yè)潔凈廠房中FFU裝置的設(shè)7.4.6空氣處理機組是電子工業(yè)潔凈廠房凈化空調(diào)系統(tǒng)的關(guān)鍵排氣系統(tǒng)50%的容量。第88節(jié)，使用可燃或易燃化學品的設(shè)備，必須具有可燃或易燃氣體或蒸氣濃度降低至爆炸下限20%以1按現(xiàn)行國家標準《采暖通風與空氣調(diào)節(jié)設(shè)計規(guī)范》GB50019—2003中第54.3條制定本條第1款規(guī)定。50019—2003中第5.46條規(guī)定本條第2款明確規(guī)定在潔凈室3參照美國消防標準NFPA318《潔凈室消防標準》中第第3款的規(guī)定。0.02人/m2,且安全疏散距離小于80m時，潔凈室(區(qū))可不設(shè)置50019—2003中第5.8.10條和第79.3條第4款的規(guī)定。2美國消防標準NFPA318《潔凈室消防標準》中第33.5第2款、第3款為強制性條文。8.1.1潔凈廠房內(nèi)的管道敷設(shè)方式會對潔凈室的空氣潔凈度產(chǎn)塵粒也會順管道縫隙進入潔凈室，從而破壞潔凈室的潔凈環(huán)境。8.2.1電子工業(yè)潔凈廠房內(nèi)的生產(chǎn)工藝一般為精細或超精細加緊急淋浴器和洗眼器。環(huán)行設(shè)置緊急淋浴器和洗眼器的供水管產(chǎn)品生產(chǎn)過程中排出的生產(chǎn)廢水就有酸性廢水(HF、HC1、應(yīng)為50～100mm水柱并不小于50mm,這與《建筑給水排水設(shè)計8.3.4本條是為了從各個方面采取相應(yīng)措施確保潔凈室的潔凈8.5.3目前在我國的電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計、建造中，潔凈室業(yè)潔凈廠房消防設(shè)計的實踐，并參照美國消防協(xié)會發(fā)布的部分電子工業(yè)潔凈廠房其噴水強度均按8L/min·m2進行設(shè)計，作用面積有的為160m2,有的為280m2;美國消防標準NFPA318規(guī)定潔凈室自動噴水滅火系統(tǒng)的噴水強度為8L/min·m2,作用8L/min·m2,作用面積為160m2。種氣體鋼瓶的特氣柜中均設(shè)有自動噴水噴頭；美國消防標準8.5.4滅火器是撲滅初期火災(zāi)的最有效手段。據(jù)統(tǒng)計，60%~80%的初期火災(zāi)，是在消防隊到達之前靠滅火器撲滅的。因此規(guī)定潔凈廠房要按現(xiàn)行國家標準《建筑滅火器配置設(shè)計規(guī)范》GB50140設(shè)置滅火器。應(yīng)注意的是，潔凈室采用的滅火器不應(yīng)因誤噴而破壞潔凈環(huán)境，也就是說避免使用各種類型的干粉滅火器.時應(yīng)避免使用蛋白泡沫滅火器(該滅火器噴完后會散發(fā)出臭味)。9.1.1電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計中純水供應(yīng)是重要內(nèi)容之一。各級水的技術(shù)指標中，僅電阻率一項指標———EW-1級水為18級水只為05MO·cm,相差36倍。在美國試驗與材料協(xié)會(ASTM)D5127《電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水水級與E-4級相差20000倍。各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)用水量的差異也是以下，而TFT-LCD潔凈廠房的純水用量達500～1000t/h。是否選擇原水預(yù)處理，預(yù)處理設(shè)備的種類、規(guī)模都與原水水質(zhì)有關(guān)。因此，電子工業(yè)潔凈廠房的純水系統(tǒng)的選擇應(yīng)根據(jù)原水水質(zhì)和電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝對水質(zhì)的要求，結(jié)合純水系統(tǒng)的產(chǎn)水量以及是目前各類電子工業(yè)潔凈廠房純水系統(tǒng)的實際設(shè)置狀況，圖8是純水水質(zhì)的不同，一般分別采用低碳優(yōu)質(zhì)不銹鋼、聚氯乙烯裝置(RO)前的管道材質(zhì)采用C-PVC;而RO裝置之后的純水管道材質(zhì)一般采用PVDF-HP,循環(huán)供水系統(tǒng)的回水管路材質(zhì)一般采用PVDF。10氣體供應(yīng)氣體種類集成電路芯片制造廠制造廠光纖預(yù)制棒拉絲工廠F?/Kr/Ne腐蝕性√NF?毒性、強氧化性√√Cl?腐蝕性√√√毒性、腐蝕性√BCl?毒性、腐蝕性√WF?毒性、腐蝕性√√毒性、腐蝕性√ClF?腐蝕性、強氧化性√C?F?腐蝕性√可燃性NH?可燃性√√CH?F?可燃性√POCl?腐蝕性√√毒性、可燃性√√PH?毒性、可燃性√√CHF?惰性√√續(xù)表22氣體種類集成電路芯片制造廠TFT-LCD制造廠光纖預(yù)制棒拉絲工廠可燃性√S?H?Cl?毒性、可燃性√Kr/Ne惰性√C?F?惰性√C?F?惰性√惰性√√CH?F可燃性√SF?惰性√√√CO?惰性√SiCL?腐蝕性√√N?O氧化性√HCI腐蝕性√GeCl腐蝕性√PH?可燃性√√PO?氧化性√√UN2惰性√√√PN2惰性√√√PAr惰性√PHe惰性√√√~10-?,而潔凈室生產(chǎn)環(huán)境中的氧濃度、水汽含量均在10-1以上，即高純氣體輸送管內(nèi)外的氧氣、水分的分壓差達10?~1010,分壓時，必須采取相應(yīng)的技術(shù)措施。本條規(guī)定的3款規(guī)定正是這些技供氣方式主要優(yōu)缺點設(shè)現(xiàn)場制氣設(shè)備管道供氣1輸送氣體量大2輸送中污染少3使用方便靈活，穩(wěn)定可靠4電耗少，成本較低5基建投資較大6需操作人員1工廠用氣量大2離制氣廠遠3鄰近幾家工廠統(tǒng)一集中供氣液態(tài)氣體供氣1.輸送氣體量較大2與鋼瓶運輸相比，輸送費低3輸送中污染較少4使用較方便5電耗及成本高6輸送儲存中，均有損耗2可方便、價格適宜地得到液態(tài)氣體供應(yīng)氣體鋼瓶供氣1用氣量少時，投資少，使用方便2電耗及制氣成本較液態(tài)低3運費高，勞動強度大4輸送中易污染1僅在工廠用氣量少時采用2工廠有一定的氫氣用量，應(yīng)10.2.3～10.2.5這3條是對電子工業(yè)潔凈廠房中的氣體純度達9999%或99.999%,尚需設(shè)置金屬吸氣劑法、低溫吸附3為了對進入電子工業(yè)潔凈廠房的各種氣體管道進行集中封接頭(VCR)或雙卡套，高純氣體管道應(yīng)采用表面密封接頭(VCR),采用雙卡套接頭時，其密封材料宜采用金屬或聚四氟乙用于許多電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝設(shè)備氣