NBT 47013.12-2015 承壓設(shè)備無(wú)損檢測(cè) 第12部分：漏磁檢測(cè)

第12部分：漏磁檢測(cè)2015-04-02發(fā)布2015-09-01實(shí)施前言 432 2規(guī)范性引用文件 4一般要求 4335在制鋼管元件漏磁檢測(cè) 4356在用承壓設(shè)備漏磁外檢測(cè) 7在用壓力管道漏磁內(nèi)檢測(cè) 8檢測(cè)記錄和報(bào)告 41附錄A(規(guī)范性附錄)在用承壓設(shè)備漏磁外檢測(cè)試件 附錄B(規(guī)范性附錄)在用壓力管道漏磁內(nèi)檢測(cè)對(duì)比試件 第8部分：泄漏檢測(cè)： 第12部分：漏磁檢測(cè)； 第12部分：漏磁檢測(cè)GB/T12604.5無(wú)損檢測(cè)術(shù)語(yǔ)磁粉檢測(cè)GB/T12604.6無(wú)損檢測(cè)術(shù)語(yǔ)渦流檢測(cè)4一般要求1)覆蓋層或覆蓋層厚度；c)連續(xù)檢測(cè)時(shí)，每8h檢查1次；6.4.7檢測(cè)6.4.7.3掃查檢測(cè)中應(yīng)保證相鄰掃描帶之間的有效重疊(一般不低于10%,可依據(jù)現(xiàn)場(chǎng)情況適當(dāng)mm~1420mm,壁厚6mm~30mm。針孔金屬損失類(lèi)型參考點(diǎn)(L×W)一般金屬損失[W≥3A]和[L≥3A]([1A≤W<6A]和[1A≤L<6A]和[0.5<L/W<2])并且不能是([W≥3A]和[L≥3A])[1A≤W<3A]和[L/W≥2][L/W≤0.5]和[1A≤L<34][0.1A<W<1A]和[0.1A<L<1A][0.05A<W<1A]和[L≥1A][W≥1A]和[0.05A<L<1A]注3:A是幾何參數(shù)。當(dāng)I<10mm時(shí)，A=10mm;注4:t表示管道公稱(chēng)壁厚。7.2.2.2管道漏磁內(nèi)檢測(cè)器按檢測(cè)清晰度分為三種：標(biāo)準(zhǔn)清晰度、高清晰度和超高清晰度檢測(cè)器。其性能指標(biāo)見(jiàn)表2。高清晰度檢測(cè)器一般金屬最小深度坑狀金屬最小深度最小深度 軸向凹溝最小深度表2(續(xù))高清晰度檢測(cè)器最小深度周向凹溝最小深度a為周向勵(lì)磁檢測(cè)器指標(biāo)，不作為軸向勵(lì)磁檢測(cè)器指b)數(shù)據(jù)丟失不超過(guò)總掃查量的5%,且不允許相鄰數(shù)據(jù)連續(xù)丟失；對(duì)于首次檢測(cè)和重要(高風(fēng)險(xiǎn)或與用戶(hù)協(xié)商)被檢工件，數(shù)據(jù)丟失量不得超過(guò)1%;d)受速度效應(yīng)影響的距離不超過(guò)管道總長(zhǎng)度的3%。他不超過(guò)20mm厚的鋼板；試件的寬度至少為探頭陣列總掃查寬度的2倍，試件的長(zhǎng)度至少為1.5倍、深為板厚的20%、40%、60%和80%的4條橫槽，槽寬度與深度的公差不大于±0.2mm,槽頭陣列總掃查寬度的2倍，試件的長(zhǎng)度至少為掃查器長(zhǎng)度的3倍再加400mm。除合同有關(guān)各方另有約定之外，應(yīng)在對(duì)比試件長(zhǎng)軸中心線(xiàn)上分別加工出深度為板厚的20%、40%、60%和80%的4對(duì)于階梯平底孔的加工，不同板厚推薦孔的階梯邊線(xiàn)應(yīng)形成一個(gè)梯形，孔直徑與深度的公差不大于±0.2mm,孔與孔之間的間距至少為200mm,兩端孔距試件邊沿的距離相同。圖A.2為對(duì)比試件的示意圖。不小于300mm200mm200mm200mm不小于300mmb)階梯數(shù)階梯深度626323833483466382842353464664階梯數(shù)階梯高度12523 345一465126246346466厚度為8mm或不超過(guò)20mm,最小長(zhǎng)度為2000mm。在校準(zhǔn)試件上從管件外表面分別加工寬度為2mm、深為壁厚的20%、40%、60%、80%的4條周向槽，槽寬度與深度的公差不大于±0.2mm,NB/T47013.12—2015內(nèi)表面開(kāi)槽BBA外表面開(kāi)槽外表面開(kāi)槽AB300mn200mm20ommAB圖A.3管件校準(zhǔn)試件的示意圖距試件邊沿的距離相同，且不小于300mm。對(duì)于圓錐形孔的加工，應(yīng)參考球形孔加工要求，圓錐形孔的底面直徑與球形孔在試件表面形成的直徑相等。缺陷類(lèi)型內(nèi)/外對(duì)比試件示意圖晰度檢測(cè)器外為3A,深度為20%t的人工缺陷，如圖B.1所示圖B.1標(biāo)準(zhǔn)清晰度檢測(cè)器一般金屬損失對(duì)比試件外20%t、35%t和50%t的平底孔，共12個(gè)，軸向3列，周向4行，列間距為k,行間距為1,如圖B.2所示圖B.2標(biāo)準(zhǔn)清晰度檢測(cè)器坑狀金屬損失對(duì)比試件軸向凹溝金屬外3A,深度為40%t、60%t的凹溝，共4個(gè)，軸向2列，周向2行，列間距為k,行間距為m,圖B.3標(biāo)準(zhǔn)清晰度檢測(cè)器軸向凹溝金屬損失對(duì)比試件表B.1(續(xù))類(lèi)型缺陷類(lèi)型內(nèi)/外對(duì)比試件示意圖晰度檢周向凹槽金屬外為0.5A,深度為10%t、共3個(gè)，軸向間距為k,如圖B.4所示BBBA周向凹溝金屬外為A,深度為10%t、30%t、50%t的凹溝，ABB周向凹溝金屬內(nèi)為A,深度為10%t、30%t的內(nèi)壁凹溝，共2個(gè)，軸向間距為k,AB高清晰度檢測(cè)器外的缺陷，如圖B.7所示圖B.7高清晰度檢測(cè)器一般金屬損失對(duì)比試件內(nèi)/外對(duì)比試件示意圖高清晰度檢測(cè)器外10%t、20%t、35%t和50%t的平底孔，共16行，列間距為k,行間距為1,如圖B.8所示AAA圖B.8高清晰度檢測(cè)器坑狀金屬損失對(duì)比試件軸向凹溝金屬外3A,深度為20%t、共6個(gè)，軸向3列，周向2行，列間距為k,行間距為m,如圖B.9ABA圖B.9高清晰度檢測(cè)器軸向凹溝金屬損失對(duì)比試件周向凹槽外為0.5A,深度為10%t、25%t、40%t、50%t的凹槽，共4個(gè)，軸向間距為k,如圖B.10所示AAB圖B.10高清晰度檢測(cè)器周向凹槽金屬損失對(duì)比試件周向凹溝金屬外為A,深度為10%t、25%t、40%t、50%t的凹溝，共4個(gè)，軸向間距為k,如圖B.11所示A圖B.11高清晰度檢測(cè)器周向凹溝金屬損失對(duì)比試件類(lèi)型缺陷類(lèi)型內(nèi)/外對(duì)比試件示意圖高清晰度檢測(cè)器周向凹溝金屬內(nèi)軸向間距為k,如圖BBBk圖B.12標(biāo)準(zhǔn)清晰度檢測(cè)器周向凹溝金屬損失對(duì)比試件晰度檢外為3A,深度為10%t的缺陷，如圖B.7所示外20個(gè)，軸向5列，周行間距為1,如圖B.13B圖B.13超高清晰度檢測(cè)器坑狀金屬損失對(duì)比試件軸向凹槽金屬外度為3A,深度為10%t、20%t、35%t、50%t的凹槽，共8個(gè)，軸向4為k,行間距為m,如圖B.14所示BBA圖B.14超高清晰度檢測(cè)器軸向凹槽金屬損失對(duì)比試件軸向凹溝金屬外35%t、50%t的凹溝，共8個(gè)，軸向4列，周向2行，列間距為k,行間距為1,如圖B.15A-圖B.15超高清晰度檢測(cè)器軸向凹溝金屬損失對(duì)比試件表B.1(續(xù))缺陷類(lèi)型內(nèi)/外對(duì)比試件示意圖晰度檢周向凹槽金屬外加工寬度為3A,長(zhǎng)度為0.5A,深度為5%t、15%t、30%t、50%t的凹槽，共4個(gè)，軸向間距為k,如圖B.16所示 A圖B.16超高清晰度檢測(cè)器周向凹槽金屬損失對(duì)比試件周向凹溝金屬外加工寬度為3A,長(zhǎng)為A,深度為5%t、20%t、共4個(gè)，軸向間距為k, BkA-圖B.17超高清晰度檢測(cè)器周向凹溝金屬損失對(duì)比試件周向凹溝金屬內(nèi)加工寬為3A,長(zhǎng)為A,深度為10