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焦磷酸鹽鍍銅清潔生產(chǎn)推薦技術(shù)技術(shù)說明焦磷酸鹽鍍液穩(wěn)定、成分簡單、腐蝕性小、呈弱堿性、無毒、電流效率高、分散能力和覆蓋能力較好,而且鍍層結(jié)晶細致,并能獲得較厚的銅鍍層。電鍍過程中無刺激性氣體逸出,可減少通風設(shè)備。但對于鋼鐵件一般要進行預浸或預鍍處理,也可以采用焦磷酸鹽直接鍍銅工藝。但該鍍液溶液配制時成本較高,廢水處理時可采用生成焦磷酸銅沉淀的方法進行回收。①原理焦磷酸鹽鍍銅的鍍液主要是由焦磷酸銅、焦磷酸鉀及一些輔助絡合劑和光亮劑組成的。在溶液中以焦磷酸鉀為主絡合劑,二價銅以[Cu(P2O7)2]6-形式存在。電解過程中陽極表面聲稱氧化膜能使陽極鈍化,因此在生產(chǎn)過程中要加入一些輔助絡合劑以防止鈍化,如酒石酸鹽、檸檬酸鹽、氨三乙酸鹽、草酸鹽等。②工藝規(guī)范成分及工藝參數(shù)配方1配方2配方3焦磷酸銅(g/L)70~10070~9050~60焦磷酸鉀(g/L)300~400300~380350~400檸檬酸銨(g/L)15~20酒石酸鈉鉀(g/L)25~30氨三乙酸(g/L)20~30氨水(25%)(ml/L)2~3二氧化硒(g/L)0.008~0.020.008~0.020.008~0.022-巰基苯并咪唑(g/L)0.02~0.040.002~0.0042-巰基苯并噻唑(g/L)0.002~0.004pH值8~8.88~8.88.4~8.8溫度(℃)20~5030~5030~40電流密度(A/dm2)2~41.5~30.5~1陰極移動(次/min)25~3025~30滾鍍③溶液成分的作用和影響焦磷酸銅:是鍍銅液中提供銅離子的主鹽。光亮鍍液中的金屬鹽以銅計,應控制在25~35g/L,一般鍍液中可以控制在20~25g/L之間。在光亮鍍液中,如果銅含量過低,不但鍍層的光亮整平性差,而且允許工作電流密度范圍狹小。若銅含量過高,焦磷酸鉀含量也要相應增加,從而增加新配液費用和零件電鍍時帶來的損失,成本高。焦磷酸鉀:是鍍銅液中的主絡合劑,其作用是使絡合物穩(wěn)定,防止沉淀,改善鍍層結(jié)晶,提高鍍液分散能力和覆蓋能力,促使陽極溶解。超過絡和量的焦磷酸鉀呈游離狀態(tài)。在焦磷酸鍍銅溶液中,一般控制總焦磷酸鹽根(P2O74-)與金屬(Cu2+)的比值,應保持在(7~8):1之間。低于7:1時,陽極溶解性差,鍍層結(jié)晶較粗糙,高于8.5:1時,陰極電流效率下降。檸檬酸鹽、酒石酸鹽、氨三乙酸和銨鹽:這幾種鹽類是鍍銅液中的輔助絡合劑,都能與銅生成絡合劑,其作用是改善鍍液分散能力,促使陽極溶解,防止產(chǎn)生銅粉,還可增加電流密度,增強鍍液的緩沖作用和提高鍍層的光亮度。其中以檸檬酸效果最好,若用酒石酸鹽或氨三乙酸代替檸檬酸鹽,鍍層的整平性和光亮度稍差。加入銨鹽可以改變外觀,當銨離子過低時,鍍層粗糙、色澤變暗,若濃度過高,鍍層呈暗紅色,有脆性。在采用較高溫度的鍍液中,由于氨容易揮發(fā),應經(jīng)常調(diào)整,加入量為1~3ml/L。光亮劑:可用于焦磷酸鹽鍍銅溶液的光亮劑有2-巰基苯并咪唑和2-巰基苯并噻唑,其中2-巰基苯并咪唑效果較好,不但能使鍍層光亮,并具有一些整平作用,還能提高工作電流密度,可以和2-巰基苯并噻唑并用。含量低時光亮度較好,但整平性較差,含量高則相反,并易于從溶液中析出,采用中等濃度較好。加入二氧化硒可以降低鍍層的內(nèi)應力和獲得更好的光亮度,含量少時達不到應有效果,過多則形成暗紅色霧狀鍍層。用雙氧水處理鍍液時二氧化硒也被氧化,處理后應重新調(diào)整其含量。④工藝條件的影響pH值:在焦磷酸鹽鍍銅溶液中,pH值的高低直接影響到鍍層質(zhì)量和鍍液的穩(wěn)定性。當pH值過低時,零件的深凹處發(fā)暗,鍍層易生毛刺,鍍液中的焦磷酸鉀也易于水解成正磷酸鹽。如pH值過高,鍍層的光亮范圍窄小,色澤暗紅,結(jié)晶粗糙疏松,允許工作電流密度降低,鍍液的分散能力降低,陰極電流效率降低。一般情況下pH值應控制在8.0~9.0之間。當pH值低時,用氫氧化鉀調(diào)整,若溶液中同時缺少銨鹽,可用氨水調(diào)整。當pH值高時,可用酒石酸、焦磷酸鹽、檸檬酸調(diào)整,在含有硝酸鹽的鍍液中,也可用適量的硝酸來調(diào)整。在可能情況下,應避免使用磷酸,以免造成磷酸的積累。溫度:提高溫度可以增大電流密度。但溫度過高,鍍液中氨易揮發(fā)使鍍層粗糙,溫度低時分散能力較好,但鍍層易燒焦。光亮性鍍液操作溫度控制在40~45℃為宜,普通鍍液中操作溫度可低一些,如30~40℃。電源:焦磷酸鹽鍍銅對電源有一定的要求。使用平滑的直流電源時,鍍?nèi)〉腻儗影l(fā)暗且較粗糙。采用周期換向電流或間歇電流才能獲得細致光亮的銅鍍層。間歇電鍍的周期為電鍍2~8s、間歇1~2s。攪拌:攪拌鍍液不僅能增加鍍層光亮度,還能增大陰極工作電流。常用的攪拌是陰極移動,陰極移動的速度對鍍層光亮度和電流密度有較大影響。在光亮性鍍液中,陰極移動速度可采用25~30次/min,行程100mm。普通鍍銅工藝在15~25次/min之間比較適宜。陽極:陽極應選用堅實、結(jié)晶細致的電解銅板,在壓延加工后再用。陽極和陰極面積比為2:1,陽極電流密度過大,其表面會生成淺棕色的鈍化膜。適用范圍(替代的落后技術(shù))硫酸鹽光亮鍍銅溶液是在普通鍍液的成分中加入了適當?shù)奶砑觿?,改善了鍍液的分散能力,并能直接鍍?nèi)∪饬恋腻儗?,省去了繁重的機械拋光工序。主要環(huán)境、經(jīng)濟指標酸性硫酸鹽
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