2024電子工業(yè)超純水紫外線降解總有機碳系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)規(guī)程

目總 術(shù) 基本規(guī) 設(shè) 安裝與調(diào) 安 檢測與驗 運行維 附錄 痕量總有機碳的在線測定方 用詞說 引用標(biāo)準(zhǔn)名 Basic System UVreduction Ionexchange Installationand General Testingand System System Operating Operating Safety AppendixA Testmethodfordual-wavelengthvacuumultravioletlightintensity.26Explanationof Listofquoted Addition:Explanationof 子器件、電子專用材料的產(chǎn)業(yè)化行業(yè)。在以集成電路和新型顯示器件為代表的電子工業(yè)半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)過程中，超純水是提供清洗、配制化學(xué)品以及靶材冷卻液的重要高純介質(zhì)。隨著工藝特征尺寸的縮小，超純水的制備系統(tǒng)對總有機otalOgnicCrbonOC等核心微污染指標(biāo)提出了更加嚴(yán)格的控制要求，12英寸半導(dǎo)體超純水制備系統(tǒng)中普遍采用OC＜μg/L作為有機物的關(guān)鍵OC電子工業(yè)超純水ultrapurewaterforelectronics18.0MΩ·cm。ASTMD5127Standardguideforultrapurewaterusedinthe1.1、E-1.2E-1.31表 13（2018E-1E-1.1E-1.2E-1.3OC（μgL100mL1L10L總硅IC測陰離子和銨根E-1E-1.1E-1.2E-1.3ICP/MS總有機碳totalorganic微污 紫外線降解裝置UVdegradation離子交換裝置ionUVdegradationsystemoftotalorganic185nm紫外線，促（ROSs，ROSs降解有機物的主要反應(yīng)是脫氫反應(yīng)，產(chǎn)生可離子化的無機弱酸紫外線穿透率UV254nm1cm比色皿水樣后的紫外線強度與通過前轉(zhuǎn)換：UVT（%）=100%x10-A紫外線目標(biāo)劑量reductiontargetUVT254TOC185nm紫外線劑mJ/cm2。石英套管紫外線穿透率UVtransmittanceofquartzglasstube（UVT185）185nm紫外線透過石英套管的光通量與入射光通量之比。配送點pointofPOD水質(zhì)要求以及其他微污染【條文說明】根據(jù)《電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50685中規(guī)定，純水制備TOC和其它微污染控制5μm以下精度過濾設(shè)備。【條文說明】本條符合國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50685-3.5.2條的規(guī)定。在超純水制備工藝中，膜過濾（包括反滲透膜和超濾膜）POD存在風(fēng)險的不可控因素。根據(jù)純水制備工藝此外，本條符合國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50685-20113.1.7條的規(guī)定，電子工業(yè)超純水制備系統(tǒng)一般由預(yù)處理、深處理及精處理三185nm紫外線適宜應(yīng)用于處理含有低濃度有機物的超純水制備系統(tǒng)，TOC100μg/L，且水質(zhì)UVT254≥99%。185nm紫外線輻照效率，保護鏈?zhǔn)椒磻?yīng)產(chǎn)當(dāng)配送點（POD）TOC5μg/L時，電子工業(yè)超純水制備TOC【條文說明】這里的通常原水條件，指的是超純水制備系統(tǒng)的原水中TOC＜5TOC＜5μg/L，系統(tǒng)設(shè)計將面臨深度處理的控制風(fēng)險，應(yīng)考慮原水中有機物的組分，如低分子量有機物（LowMolecularWeightOrganicMatter，LMWOM）中的PODTOC5μg/L的控制2。1-深處理工藝段紫外降解裝置；2-圖 1-深處理工藝段紫外降解裝置；2-圖 ??254=??? 式中：D254——254nm波長紫外線的投加劑量（mJ/cm2T——紫外線反應(yīng)器腔體內(nèi)停留時間4.1.3 TOC進水出水注：1TOCTOC濃度的最大TOCTOC≤1μg/L1000TOCTOC指標(biāo)控制的同時，要求紫外線降解系統(tǒng)做到低碳環(huán)保，對目標(biāo)TOC的處理工藝，可以避免增加用于去除副產(chǎn)物的催化處理單元的投TOC及金屬離子的PVDFμm120℃，熱熔連接，不存在粘接劑溶出問題。TOC＜5μg/LPVDF-HP、SS316L、PP-4.2.11-紫外線反應(yīng)器殼體；2-石英套管；3-紫外線燈管；4-紫外線強度傳感器；5混流隔板；6溫度傳感器；7圖 3次/天的運行條件下時，8000h；6紫外線消毒設(shè)備》GB/T19837-2019A的方法進行測定；15mg以內(nèi)，汞燈到達(dá)運行壽命后應(yīng)按照危依據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)《城鎮(zhèn)給排水紫外線消毒設(shè)備》GB/T19837-20193.1條100h后的紫外線輸出功率之比。通常采用紫外線傳感器測量。燈管304316L其他要求應(yīng)符合現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《城鎮(zhèn)給排水紫外線消毒設(shè)備》GB/T19837的相1.2~2.0mm。304不銹鋼或Ra0.4μm；燈管維護側(cè)應(yīng)設(shè)計封罩作為燈線及電氣連接線的保護H2O2和紫外線185nmO3H2O2O3等強氧化劑相容性差會導(dǎo)致過電氣部件的防護等級應(yīng)符合現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《外殼防護等級（IP代碼GB/T4208安裝工程電纜線路施工及驗收標(biāo)準(zhǔn)》GB50168的相關(guān)規(guī)定；；（ELCBGB50054-20113線施工及驗收規(guī)范》GB50171-20124GB50054-20113壓配電設(shè)計規(guī)范》GB50054-20117纜線路施工及驗收標(biāo)準(zhǔn)》GB50168-2018645℃后手動斷開設(shè)整流器應(yīng)為電子式雙回路，輸入電壓應(yīng)為120V或240V,輸入頻率50/60hz24kHz～35kHzModbusRTU、TCP/IP及等同的GB50685-20116.1.3條規(guī)定了純（檢）PMBXAIXP的裝填形式，形成了多種離子交換裝置（MBX、AIX、SB-P等。ENCs【條文說明】本條符合國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范》GB50685-TOC的升高。因而在離子交換裝置中對潔凈離子交換樹脂或介質(zhì)的設(shè)計考慮，制造用超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)中，尤其在工藝節(jié)點5nm以下的先進制程超純水制備TOC、H2O2、溶解氧（DO）以及痕量金屬（TraceMetals）H2O21μg/LPODH2O2提出重點控制要求的超純水制備系統(tǒng)，對于沒有H2O2量化控制指標(biāo)的純水制備裝工程施工及驗收通用規(guī)范》GB50231屬管道工程施工規(guī)范》GB50235的有關(guān)規(guī)定。驗收通用規(guī)范》GB50231-2009中的有關(guān)規(guī)定。線路施工及驗收標(biāo)準(zhǔn)》GB50168-2018中的有關(guān)規(guī)定。其中，檢測儀表應(yīng)安裝牢國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)純水系統(tǒng)安裝與驗收規(guī)范》GB51035-2014道工程施工規(guī)范》GB50235-2010宜安裝在室內(nèi)，保持良好通風(fēng)，環(huán)境溫度宜小于40℃GB51035GB51035-2014中“3.6.8組裝式設(shè)備安裝的允許偏差及檢查方法”3。34.2.4.25與裝置直接相連的進出水管應(yīng)采用不少于兩個彎頭的L型或S型不銹鋼51035-20143.1.9條的規(guī)定。U型結(jié)構(gòu)，應(yīng)用計算流體動構(gòu)，以提升降解性能與效率。在管道安裝過程中，UL型結(jié)構(gòu)的反應(yīng)30min以上，確認(rèn)石英8h后降解裝置的工況達(dá)到穩(wěn)定值，而紫外線燈管的輻射劑24h24h24h后，記錄流量、壓力、電阻率等運行數(shù)據(jù)，并測試記錄紫外線降解裝置的進水TOC質(zhì)量濃度和紫外線降解系統(tǒng)的出水TOC質(zhì)（POD（POE10℃~40℃5℃/h0~80（無結(jié)露500ml/min【條文說明】本條對在線分析儀的檢測環(huán)境提出了要求，通常將TOC分析儀安25℃5℃TOC驗證。6.1.46.1.4析法溫度：10℃~50℃流量：30mL/min~500mL/min；32μS/cm。電阻率≥15TOC＜5溶解氧＜20μg/L范》GB50685-20116.1.3條的規(guī)定，為保障電子工業(yè)超純水系統(tǒng)安全穩(wěn)定TOC氧化的方法可分為藝節(jié)點的先進制程半導(dǎo)體超純水制備系統(tǒng)，H2O2成為受控指標(biāo)時，采取在線測TOC185檢出限（I.D.L）≤0.1AUPWIRDS委員會在世界各地的多家半導(dǎo)體制造廠進行了微污染控＜1μg/Lppb級總有機碳濃度的影響H2O2 （I..L.：≤0.3 測量范圍：0.3μg/L~3000μg 測量流量：≥180ml/min收通用規(guī)范》GB50231-20098規(guī)范》GB51035-20147GB50268-20089檢查紫外線燈管正常運行（指示燈檢查紫外線燈管照射強度（傳感器檢查紫外線裝置工作環(huán)境（溫濕度【條文說明】7.1.2條規(guī)定了檢查紫外線降解裝置的累計運行時間、燈管運行時間和紫外線強度指示等數(shù)據(jù)的維護要求，通常低壓紫外燈當(dāng)運行時間大于8000h80%以下時，需考慮更換燈管。7.1.3條規(guī)定了需定期查看紫外線降解裝置的各 1）測量范圍：0.1μg/L~2000μg/L（以碳計（I.D.L.：≤0.13）精密度（RSD）≤1%185nm172nm25°C1TOC的測定。PFAPVDF