2019_2020年高中化學課時分層作業(yè)19含硅礦物與信息材料（含解析）蘇教版必修1.docx

課時分層作業(yè)(十九)(建議用時：25分鐘)合格基礎練1下列敘述正確的是()ANa2SiO3是硅酸鹽，但不能溶于水B電影銀幕用水玻璃浸泡，主要是了為防腐C建筑工業(yè)常用水玻璃作黏合劑D用水玻璃浸泡鐵道的木制枕木，主要是為了防火CNa2SiO3既是硅酸鹽，又是鈉鹽，硅酸鹽大多難溶于水，而鈉鹽均易溶于水；浸泡銀幕主要是為了防火，而浸泡枕木主要是為了防腐；水玻璃有黏合作用，常作黏合劑。2下列關于水玻璃的性質(zhì)和用途的敘述中不正確的是()A這是一種礦物膠，既不燃燒也不受腐蝕B在建筑工業(yè)上可以作黏合劑、耐酸水泥摻料C木材、織物浸過水玻璃后具有防腐性能且不易燃燒D水玻璃的試劑瓶可用磨口玻璃塞D水玻璃能夠粘結玻璃，試劑瓶塞應用橡皮塞。3下列說法正確的是()A硅的化學性質(zhì)不活潑，常溫下不與任何物質(zhì)起反應BSiO2是制造玻璃的主要原料之一，它在常溫下不與NaOH溶液反應C電腦芯片的主要成分是SiO2DCO2通入水玻璃中可以得硅酸DA中硅常溫下能與F2、HF反應；B中SiO2常溫下可與NaOH溶液反應；C中電腦芯片的主要成分是Si；D中反應為Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3。4昆侖玉的成分可簡單看成是Ca2Mg5Si8O22(OH)2，則其用二氧化硅和金屬氧化物的形式可表示為()ACaOMgOSiO2H2OB2CaO5MgO8SiO2H2OC2CaOMgOSiO22H2OD5CaO2MgO8SiO2H2OB根據(jù)昆侖玉的化學式，將Ca、Mg、Si、H分別寫成氧化物的形式，按較活潑金屬氧化物較不活潑金屬氧化物SiO2H2O的順序排列，再調(diào)整各氧化物前的計量數(shù)并使其與昆侖玉化學式中一致，可得昆侖玉氧化物表示形式為2CaO5MgO8SiO2H2O。5下列敘述正確的是()ACO2和SiO2都是酸性氧化物，所以兩者物理性質(zhì)相似B因為CaCO3SiO2CaSiO3CO2，所以硅酸的酸性比碳酸強CCO2和SiO2都能與碳反應，且都作氧化劑DSiO2既能和NaOH反應，又能和HF反應，所以二氧化硅屬于兩性氧化物CCO2和SiO2都是酸性氧化物，和其物理性質(zhì)無因果關系，CO2熔、沸點低，硬度小，微溶于水，SiO2的熔、沸點高，硬度大，不溶于水。CO2和SiO2的物理性質(zhì)相差較大，A項不正確；CaCO3SiO2CaSiO3CO2，反應進行的原因是因為SiO2沸點高，CO2沸點低，而“較強酸制較弱的酸”是溶液中復分解反應規(guī)律，B項不正確；CO2和SiO2都與碳反應，碳作還原劑，CO2和SiO2作氧化劑，C項正確；SiO2與HF反應是HF的特性，SiO2不與其他酸反應，故SiO2不屬于兩性氧化物，D項不正確。6為確認HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性強弱，某學生設計了如下圖所示的實驗裝置，一次實驗即可達到目的(不必選其他酸性物質(zhì))。請據(jù)此回答： (1)錐形瓶中裝某可溶性正鹽溶液，分液漏斗所盛試劑應為_。(2)裝置B所盛的試劑是_，其作用是_。(3)裝置C所盛試劑是_，C中反應的離子方程式是_。(4)由此得到的結論是：酸性_。解析根據(jù)強酸弱酸鹽弱酸強酸鹽分析可知，分液漏斗中盛裝鹽酸，A中盛放Na2CO3，根據(jù)Na2CO32HCl=2NaClH2OCO2可以知道酸性HCl強于H2CO3，然后將生成的CO2通入Na2SiO3溶液中，反應為Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3，由此判斷酸性H2CO3H2SiO3，但需注意的是A中反應會有HCl氣體逸出，故通入Na2SiO3溶液前需將HCl吸收，但不能吸收CO2，故選用飽和NaHCO3溶液。答案(1)鹽酸(2)飽和NaHCO3溶液吸收HCl氣體(3)Na2SiO3溶液SiOCO2H2O=H2SiO3CO(或SiO2CO22H2O=2HCOH2SiO3)(4)HClH2CO3H2SiO3等級過關練7將過量的CO2分別通入：CaCl2溶液濃Na2SiO3溶液Ca(OH)2溶液飽和Na2CO3溶液。最終溶液中有白色沉淀析出的是()ABC DBCO2溶于水：CO2H2O=H2CO3，H2CO3的酸性比鹽酸弱，而比硅酸強。根據(jù)酸與鹽反應的規(guī)律，CO2通入CaCl2溶液無明顯現(xiàn)象；過量的CO2通入濃Na2SiO3溶液中有白色沉淀H2SiO3生成；CO2通入Ca(OH)2溶液至過量，Ca(OH)2CO2=CaCO3H2O，CaCO3H2OCO2=Ca(HCO3)2，最終生成Ca(HCO3)2而無沉淀；過量CO2通入飽和Na2CO3溶液中：Na2CO3H2OCO2=2NaHCO3，生成的NaHCO3溶解度比Na2CO3溶解度小而結晶析出。8硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如圖所示：(1)寫出由純SiHCl3制備高純硅反應化學的方程式：_。(2)整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學方程式：_；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_。解析(1)根據(jù)質(zhì)量守恒定律可知，SiHCl3與H2在高溫下反應，生成Si和HCl，反應的化學方程式為SiHCl3H2Si3HCl。(2)根據(jù)質(zhì)量守恒定律，SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和H2，反應的化學方程