高精度光學(xué)測量微位移技術(shù)綜述

1、高精度光學(xué)測量微位移技術(shù)綜述*（*大學(xué)光電*學(xué)院，重慶 ）摘 要微位移測量技術(shù)在科學(xué)與工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。光學(xué)測量微位移技術(shù)與傳統(tǒng)測量方法相比，具有靈敏度高、抗電磁干擾能力強(qiáng)、耐腐蝕、防爆、結(jié)構(gòu)簡單、體積小、重量輕等優(yōu)點(diǎn)。本文介紹了幾種高精度光學(xué)測量微位移的方法，從激光三角法、激光干涉法、光柵尺法、光纖光柵法、X射線干涉法和F-P干涉法幾個(gè)類別對(duì)各種微位移測量原理和儀器進(jìn)行了系統(tǒng)的分析和比較，并對(duì)各種方法的特點(diǎn)進(jìn)行了歸納，對(duì)光學(xué)微位移測量方法的發(fā)展趨勢進(jìn)行了概括。關(guān)鍵詞：微位移測量，高精度，光學(xué)測量，發(fā)展趨勢1 引 言隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，微小位移的檢測手段已發(fā)展到多種，測量準(zhǔn)確度也不斷提高。

2、目前，高分辨力微位移測量技術(shù)主要分為包含電學(xué)、顯微鏡等測量方法的非光學(xué)測量技術(shù)和以激光干涉測量為代表的光學(xué)測量技術(shù)兩大類。電學(xué)測量技術(shù)又包括電阻法、電容和電感法以及電渦流法等，其中，電容和電感法發(fā)展迅速，較為常用。目前，三端電容傳感器可測出5105m的微位移，最大穩(wěn)定性為每天漂移幾個(gè)皮米1。而顯微鏡測量技術(shù)種類較多，主要有高性能透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、掃描探針顯微鏡（包括掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡）等二十多個(gè)品種2。按光學(xué)原理不同，光學(xué)測量技術(shù)可分為激光三角測量3、光杠桿法1,4、光柵尺測量法5、光纖位移測量法5和激光干涉法等，測量分辨力在幾十皮米到幾納米之間。此外，利用X射線衍射效

3、應(yīng)進(jìn)行位移測量的X射線干涉技術(shù)近年來備受關(guān)注，其最大特點(diǎn)是以晶格結(jié)構(gòu)中的原子間距作為溯源標(biāo)準(zhǔn)，可實(shí)現(xiàn)皮米量級(jí)的高分辨力，避免了光學(xué)干涉儀的各種非線性誤差6?，F(xiàn)將主要的具有納米量級(jí)及以上分辨力的微位移測量技術(shù)概括如表1所示?？v觀位移測量技術(shù)的發(fā)展歷程，如果說掃描探針技術(shù)為高分辨力位移測量領(lǐng)域帶來了革命性變革，那么近幾十年來激光技術(shù)的發(fā)展則將該領(lǐng)域帶入了一個(gè)嶄新的時(shí)代。由表1可見，目前電容傳感器和SPM的測量分辨力也很高，但它們的共同缺陷是當(dāng)溯源至國際標(biāo)準(zhǔn)長度單位時(shí)，必須借助激光干涉儀等方法進(jìn)行標(biāo)定和校準(zhǔn)。根據(jù)1983年第17次度量大會(huì)對(duì)“米”的新定義，激光干涉法對(duì)幾何量值溯源有著天然優(yōu)越性，同時(shí)

4、具有非接觸測量、分辨力高、測量速度快等優(yōu)勢。本文將對(duì)目前主要的光學(xué)微位移測量技術(shù)介紹和比較分析。表1 常用微位移測量技術(shù)儀器種類分辨力/nm測量范圍電容傳感器0.05-210nm-300m電感傳感器510mSPM0.051-10m激光三角測頭2.5100-500m光纖位移傳感器2.530-100m雙頻激光干涉儀0.110m光柵尺0.1-1070-200mmX射線干涉儀0.005200mF-P干涉儀0.0015nm-300m2 光學(xué)微位移測量技術(shù)概述2.1 激光三角法微位移測量技術(shù)隨著工業(yè)測量領(lǐng)域的不斷擴(kuò)展以及對(duì)測量精度和測量速度的不斷提高，傳統(tǒng)的接觸式測量已經(jīng)無法滿足工業(yè)界的需求。而非接觸測量

5、由于其良好的精確性和實(shí)時(shí)性，已經(jīng)成為測量領(lǐng)域的熱點(diǎn)。同時(shí)由于電子學(xué)和光學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，光電檢測已經(jīng)成為非接觸測量的一種主要方法。激光三角法是光電檢測技術(shù)的一種，由于該方法具有結(jié)構(gòu)簡單、測試速度快、實(shí)時(shí)處理能力強(qiáng)、使用靈活方便等優(yōu)點(diǎn)在工業(yè)中的長度、距離以及三維形貌等檢測中有著廣泛的應(yīng)用。2.1.1 激光三角法微位移測量原理在激光三角法中，由光源發(fā)出的一束激光照射在待測物體平面上，通過反射最后在檢測器上成像。當(dāng)物體表面的位置發(fā)生改變時(shí)，其所成的像在檢測器上也發(fā)生相應(yīng)的位移。通過像移和實(shí)際位移之間的關(guān)系式，真實(shí)的物體位移可以由對(duì)像移的檢測和計(jì)算得到。激光三角法的框圖如圖1所示。其中，是投影光軸與成

6、像物鏡光軸的夾角，是光電探測器受光面與成像物鏡光軸的夾角，而s和s分別是物距和像距，d是傳感器上的成像點(diǎn)的偏移，而為實(shí)際的物體表面的偏移，系統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)為偏置距離，D為從傳感器到被測表面參考點(diǎn)的距離；測量范圍為最大能檢測到的物體表面的偏移，即的最大值；測量精度為傳感器的最小測量單位；分辨率一般指測量的縱向分辨率，為測量精度和測量范圍之比；橫向分辨率為待測物體表面上所取測量點(diǎn)的最小間距。圖1 激光三角法原理圖為了實(shí)現(xiàn)完美聚焦，光路設(shè)計(jì)必須滿足斯凱普夫拉格條件；成像面、物面和透鏡主面必須相交于同一直線，如圖1中X點(diǎn)所示。系統(tǒng)的非線性的輸入輸出函數(shù)為： (1)又可以寫為： (2)激光三角法的另一項(xiàng)重

7、要的參數(shù)為線性度，就是三角測量法輸入和輸出關(guān)系的線性近似程度?？梢宰C明，在三角測量中，可以通過縮小測量范圍，增大接收透鏡的共軛矩，增大三角測量系統(tǒng)的角度，縮小接收透鏡的放大倍率，達(dá)到線性測量的結(jié)果7。此外，由(1)式對(duì)d求導(dǎo)，得到輸入輸出曲線的斜率，即激光三角法的放大倍率： (3)系統(tǒng)的放大倍率決定了系統(tǒng)的分辨率，而放大倍率不但取決于系統(tǒng)參數(shù)，還是像移d的函數(shù)。激光三角傳感器特性分析及研究現(xiàn)狀激光三角傳感器的主要優(yōu)點(diǎn)有：(1)與非接觸測量相比，它解決了接觸測量中接觸側(cè)頭與工件之間的接觸壓力；解決了接觸側(cè)頭半徑較大帶來的橫向分辨率問題；提高了檢測速度(kHz極，而接觸式測量為1Hz左右)8。(2

8、)與其它非接觸方法相比：具有大的偏置距離和大的測量范圍，對(duì)待測表面要求較低，而離焦檢測法和光干涉法等通常只能測量非常光滑的表面。此外，三角測量法還具有如下特點(diǎn)：采用半導(dǎo)體激光器，測量儀器體積較小9；激光方向性好，光功率高，從而使測量儀器分辨率高、穩(wěn)定性，測量精度高；與計(jì)算機(jī)結(jié)合，形成智能測試系統(tǒng)；在生產(chǎn)現(xiàn)場實(shí)現(xiàn)在線檢測；適用范圍廣10。2.1.2 激光三角測頭基本原理激光三角測頭主要包含半導(dǎo)體激光器、匯聚透鏡、接收透鏡、光電探測器件CCD及后續(xù)處理電路。 圖2 激光三角側(cè)頭光路圖如圖2所示，根據(jù)幾何光學(xué)原理： (4) (5) (6)消去X，Y： (7)即像點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡也為一條直線。同時(shí)也得到了

9、角與角之間的關(guān)系式： (8)當(dāng)像點(diǎn)下移至無限遠(yuǎn)時(shí)，物點(diǎn)產(chǎn)生的距離為D1： (9)物點(diǎn)下移至無限遠(yuǎn)時(shí)，像面上產(chǎn)生的距離為D2： (10)對(duì)公式（4）進(jìn)行微分求得測頭分辨率： (11)2.1.3 激光三角法微位移測量的發(fā)展趨勢入射光束的焦深限制：一般的高斯光束聚焦為入射光時(shí)，會(huì)出現(xiàn)光斑尺寸隨測量范圍變大而離焦變大的情況，使系統(tǒng)很難滿足高分辨率和大測量范圍的要求。當(dāng)采用CCD為檢測器時(shí)，相應(yīng)的改進(jìn)方法是采用重心法取CCD輸出矩形脈沖的中心位置；而采用PSD為檢測器時(shí)可以較好的避免光斑形狀的影響，但仍會(huì)影響系統(tǒng)的分辨率。在文獻(xiàn)11中提出采用無衍射光束作為光源解決這個(gè)問題。由于被測表面的階越，比如孔或者

10、縫，使得傳感器無法接受到反射或漫反射光。解決方法有采用旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性的光學(xué)三角傳感器10。被測面由于顏色、材料、粗糙度、光學(xué)性質(zhì)以及表面形狀等方面的差異導(dǎo)致同一光源入射時(shí)，物體表面對(duì)光的反射和吸收程度不同，特別是由于物體表面的粗糙度和折射率等因素引起的成像光斑或光條有像差。改進(jìn)的方法有，使測量工作平面(由傳感器的入射透鏡和接收透鏡的光軸決定的平面)平行于待測表面的紋理，可接受到足夠的光強(qiáng)，有利于提高測量分辨率。溫度，濕度和機(jī)械振動(dòng)等環(huán)境噪聲，會(huì)影響三角測量法中的系統(tǒng)參數(shù)。除了通過較好的標(biāo)定方法提高系統(tǒng)的精度，還可以采用雙無衍射光束作為光源提高系統(tǒng)的抗噪性12；采用完全對(duì)稱雙面雙光路系統(tǒng)設(shè)計(jì)。通過和

11、智能控制系統(tǒng)的聯(lián)合，同時(shí)開發(fā)更好更快的處理算法，以求最大程度的實(shí)現(xiàn)光電三角法的柔性測量，在德國的米銥測試技術(shù)公司所提出的采用激光三角位移傳感器optoNCDT2200中已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)被測物體表面特性差異補(bǔ)償。2.2 激光干涉法微位移測量技術(shù)激光干涉位移測量技術(shù)是以激光波長為基準(zhǔn)，通過干涉原理對(duì)位移進(jìn)行測量的技術(shù)。按照工作原理不同，主要有雙光束干涉和多光束干涉兩種類型。邁克爾遜干涉儀或類似結(jié)構(gòu)是雙光束激光干涉儀主要結(jié)構(gòu)形式，廣泛應(yīng)用于各種位移測量場合，它又分為零差干涉儀和外差干涉儀兩大類。而多光束干涉儀主要指法布里珀羅干涉儀（下文簡稱法珀干涉儀），它主要用于高分辨力微位移測量。此外還有其它一些結(jié)

12、構(gòu)類型及相應(yīng)的改進(jìn)型激光干涉儀。2.2.1 激光干涉儀分類及測量原理（1）零差激光干涉儀零差干涉儀是一種較簡單的位移測量干涉儀形式，圖3為基于邁克爾遜干涉儀結(jié)構(gòu)的零差干涉儀示意圖。圖3 零差干涉儀示意圖由穩(wěn)頻激光器發(fā)出的光被分光棱鏡分為測量光束和參考光束，測量鏡發(fā)生位移時(shí)會(huì)引起光程差的改變，通過觀測干涉條紋的移動(dòng)量或由干涉條紋強(qiáng)度分布得到的相位變化即得到被測位移，基本測長公式即： (12)其中N是光電接收器接收到的干涉場固定點(diǎn)明暗變化的次數(shù)。在信號(hào)處理時(shí)加入移相系統(tǒng)，還可以實(shí)現(xiàn)位移方向的判別。零差干涉儀結(jié)構(gòu)簡單，應(yīng)用較為廣泛。雖然光學(xué)倍程、電子倍頻、干涉條紋細(xì)分等技術(shù)發(fā)展的使零差干涉儀的測量精

13、度大為提高，但因受各種誤差因素限制，傳統(tǒng)干涉測量分辨力只能達(dá)到/10/20。零差干涉儀有個(gè)最大缺陷是光電接收器后的前置放大器只能用直流放大器，對(duì)激光器的頻率穩(wěn)定度和測量環(huán)境（溫度、振動(dòng)等）要求很高，測量時(shí)不允許干涉儀兩臂的光強(qiáng)有較大變化。（2）外差激光干涉儀外差干涉儀是采用具有一定頻差f的雙頻光束作為載波信號(hào)的干涉儀，其典型結(jié)構(gòu)如圖4所示，測量鏡位移產(chǎn)生的多普勒頻移使得參考光束和測量光束的拍頻信號(hào)改變，通過測量由f變化引起的條紋變化量或位相變化量，即得被測位移。 圖4 外差干涉儀示意圖 由于即使測量鏡不發(fā)生位移，干涉儀仍保留f的交流信號(hào)，因此光電接收器后的前置放大器可用交流放大器，可有效抑制外

14、界環(huán)境引起的直流漂移及大部分隨機(jī)噪聲，提高檢測準(zhǔn)確度和重復(fù)性。同時(shí)若選用高放大倍數(shù)的交流放大器還可大大降低對(duì)光強(qiáng)的要求。目前，外差干涉儀的位移測量分辨力已達(dá)到0。1nm。由于外差干涉儀的抗干擾能力較強(qiáng)，適用于現(xiàn)場作業(yè)，應(yīng)用非常廣泛。但傳統(tǒng)外差干涉儀不可避免地存在由偏振分光鏡分光性能不理想引起的偏振態(tài)和頻率混合現(xiàn)象，從而引起非線性測量誤差，針對(duì)這一缺點(diǎn)，Wu等人設(shè)計(jì)了如圖4所示的差動(dòng)式外差干涉儀，它利用聲光調(diào)制晶體實(shí)現(xiàn)了兩個(gè)不同偏振態(tài)和頻率的光束的完全分開，避免了上述非線性測量誤差13。2.2.2 激光干涉位移測量技術(shù)的發(fā)展趨勢激光干涉位移測量技術(shù)以其獨(dú)特優(yōu)勢已成為高分辨力位移測量的最實(shí)用工具之

15、一，但目前最先進(jìn)的納米加工和測量技術(shù)多來自工業(yè)發(fā)達(dá)國家，我國因起步較晚，與發(fā)達(dá)國家尚有差距。根據(jù)激光干涉位移測量技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀和微納米技術(shù)發(fā)展的需要，可以預(yù)想激光干涉位移測量技術(shù)近期主要有以下幾個(gè)發(fā)展方向： 向亞納米量級(jí)以上高分辨力方向發(fā)展?？萍嫉倪M(jìn)步以及精密制造業(yè)的迅速發(fā)展對(duì)位移測量的分辨力和準(zhǔn)確度提出了更高要求，而且，當(dāng)前激光干涉位移測量技術(shù)遇到的一個(gè)普遍問題是，作為溯源手段，掃描探針顯微鏡等測量手技術(shù)比現(xiàn)有最好干涉儀的準(zhǔn)確性至少高一個(gè)數(shù)量級(jí)，即現(xiàn)有的計(jì)量設(shè)備無法滿足實(shí)際的標(biāo)定和校準(zhǔn)需求，因此具有亞納米甚至更高分辨力新型位移測量技術(shù)的發(fā)展是大勢所趨。 改進(jìn)已有測量技術(shù)的同時(shí)，不斷開發(fā)和應(yīng)用

16、新的激光干涉測量技術(shù)。在光學(xué)測量領(lǐng)域，除激光器的出現(xiàn)將計(jì)量學(xué)帶入一個(gè)新紀(jì)元，尚沒有代表性的新原理出現(xiàn)，目前做得最多的是進(jìn)一步改進(jìn)和完善已有干涉儀的結(jié)構(gòu)和性能，同時(shí)，將干涉儀與其它方法結(jié)合成為納米測量發(fā)展的一大趨勢，如前面提到的將X射線干涉測量技術(shù)與激光干涉儀結(jié)合彌補(bǔ)各自缺點(diǎn)的方法14。 解決高分辨力與大測量范圍之間的矛盾。未來的位移測量要求在數(shù)十毫米以上的范圍內(nèi)達(dá)到亞納米級(jí)以上分辨力，依靠單一的測量方法難以實(shí)現(xiàn)。結(jié)合多種測量方法以彌補(bǔ)各自的不足是解決矛盾的突破口。同時(shí)，提高信號(hào)處理能力、提高測量系統(tǒng)中機(jī)械部分的裝配和運(yùn)動(dòng)精度、改善光源質(zhì)量、降低外界環(huán)境干擾等都是大范圍高分辨力位移測量努力的方向

17、。2.3 光柵尺微位移測量技術(shù)2.3.1 光柵尺微位移測量原理光柵尺測量的基本原理為：標(biāo)尺與掃描掩模之間的相對(duì)移動(dòng)，在光源照射下形成莫爾條紋，莫爾條紋經(jīng)過光電傳感器轉(zhuǎn)換為近似的正余弦電信號(hào)，就是原始的光柵掃描信號(hào)。然后采用不同的電子細(xì)分法，得到不同測量步距的計(jì)數(shù)脈沖信號(hào)，脈沖信號(hào)一般是兩路正交的信號(hào)，這兩路信號(hào)接入后續(xù)的可逆計(jì)數(shù)電路，計(jì)數(shù)器的計(jì)數(shù)值再乘以測量步距則為光柵尺的位移測量值。光柵尺測量的最大允許移動(dòng)速度是由光柵尺的輸出頻率及光柵掃描信號(hào)的信號(hào)周期決定的，它們有如下關(guān)系： (13)式中，Vmax為光柵尺最大允許移動(dòng)速度，單位：mm/s；fmax為光柵尺最大輸出頻率，單位：kHz；sp為

18、光柵信號(hào)的信號(hào)周期，單位：m。在光柵信號(hào)的信號(hào)周期不變的前提下，Vmax與光柵尺輸出頻率成正比。測量步距對(duì)應(yīng)著分辨率，若提高電子細(xì)分電路的細(xì)分倍頻數(shù)，則分辨率提高(測量步距減小)，由于受到電子細(xì)分電路的響應(yīng)頻率及后續(xù)計(jì)數(shù)電路的輸入頻率的限制，隨著細(xì)分倍數(shù)的提高，光柵尺的輸出頻率下降，則測量的最大允許速度下降，所以光柵尺的測量步距與測量的最大允許移動(dòng)速度Vmax成反比。因此，用于高速測量的光柵尺(最大允許移動(dòng)速度1 m/s)，其分辨率一般為微米級(jí)(0。12m)，而用于低速測量的光柵尺(速度500 mm/s)，分辨率可達(dá)到納米級(jí)(150 nm)。2.3.2 雙光柵尺位移測量儀結(jié)構(gòu)雙光柵尺位移測量儀

19、的構(gòu)成框圖如圖5所示，由直線運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、粗光柵尺、精光柵尺、雙光柵尺處理電路FPGA和ARM LPC2138組成。粗光柵尺采用英國RENISHAW公司的RGB25X型，測量步距0。5m(分辨率)；精光柵尺采用英國RENISHAW公司的RGB25X型，測量步距10nm(分辨率)。雙光柵尺處理電路采用Altera公司Cyclone III系列EP3C80F484型號(hào)的FPGA，并擴(kuò)展液晶顯示、RS-232接口、鍵盤等外圍設(shè)備15。圖5 光柵尺位移測量儀結(jié)構(gòu)2.4 光纖光柵微位移測量技術(shù)目前，國內(nèi)外對(duì)布拉格光纖光柵(in-fiber bragg grating，F(xiàn)BG)傳感系統(tǒng)研究多基于傳統(tǒng)應(yīng)變片式，

20、如一種同時(shí)測量溫度與壓力的FBG傳感器，但其FBG粘貼在應(yīng)變片上，屬于傳統(tǒng)的應(yīng)變式傳感器，且測量力較大(10N)16，不能滿足微器件、微尺寸測量的需要。因此，研究具有納米級(jí)精度的FBG微位移測量系統(tǒng)具有重要的理論意義和實(shí)用價(jià)值。2.4.1 光纖光柵微位移測量原理基于FBG可調(diào)諧微位移測量系統(tǒng)構(gòu)架如圖所示，系統(tǒng)主要包括ASE光源、測量FBG探針式測頭、FBG可調(diào)諧匹配法解調(diào)系統(tǒng)&系統(tǒng)信號(hào)處理等部分。當(dāng)測量FBG受到軸向應(yīng)變時(shí)，其中心波長發(fā)生漂移，通過可調(diào)諧匹配法解調(diào)波長，高靈敏度探測器將光強(qiáng)信號(hào)轉(zhuǎn)化為電壓信號(hào)，然后通過數(shù)據(jù)采集卡將電壓信號(hào)上傳到上位機(jī)。信號(hào)發(fā)生器和HPV型壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)電源提供高壓

21、鋸齒波，驅(qū)動(dòng)壓電陶瓷進(jìn)行伸縮運(yùn)動(dòng)，掃描測量FBG的信號(hào)。 圖6 光纖光柵微位移測量系統(tǒng)框圖在FBG光纖光柵傳感系統(tǒng)中，信號(hào)解調(diào)是傳感系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)之一，它將直接影響整個(gè)傳感系統(tǒng)的測量分辨率，因此解調(diào)方法是系統(tǒng)設(shè)計(jì)重點(diǎn)$該設(shè)計(jì)采用可調(diào)諧匹配光纖光柵法，這種解調(diào)方案的優(yōu)點(diǎn)是體積小、結(jié)構(gòu)簡單、精度高。其解調(diào)結(jié)構(gòu)如圖6所示，寬帶光源經(jīng)過22耦合器1進(jìn)入到測量FBG中，從測量FBG中反射回來的光經(jīng)過22耦合器2入射到匹配FBG中，用探測器檢測從匹配光柵反射的能量大小。因此，探測器接收到的能量是測量FBG和匹配FBG的反射譜重合的部分能量。當(dāng)測量FBG與匹配FBG中心波長重合時(shí)，探測器接受光能最大，當(dāng)測量

22、FBG受到應(yīng)變影響時(shí)，測量FBG的波長發(fā)生漂移，從而使匹配光柵反射的能量產(chǎn)生變化，探測器接收到的能量發(fā)生變化，利用壓電陶瓷拉伸匹配FBG掃描整個(gè)設(shè)計(jì)光譜范圍，搜尋最大的接收光能，從而找到測量FBG的新中心波長的位置，再經(jīng)過后繼信號(hào)處理，完成波長解調(diào)。2.5 X射線干涉法微位移測量技術(shù)2.5.1 X射線干涉法測量原理X射線的早期實(shí)驗(yàn)已經(jīng)證明，x射線的波長的數(shù)量級(jí)約為1人，又知道晶體中的原子間距也是這個(gè)數(shù)量級(jí)，于是Laue在1912年建議用晶體作為x射線的衍射光柵閉17。讓x射線柱通過硫酸銅(CuSO4)晶體，在它后面的感光膠片上就能拍攝到中心黑點(diǎn)(正片就是明點(diǎn))和圍繞中心對(duì)稱分布的一些明點(diǎn)圖樣，

23、叫作Laue圖。很明顯，中心明點(diǎn)與光柵對(duì)可見光的衍射一樣是零級(jí)最大值，而外圍明點(diǎn)則是由于晶體原子的外層電子在x射線的作用下，二次發(fā)射的散射光所迭加的效果。 圖7 晶體點(diǎn)陣示意圖晶體是由原子或原子團(tuán)的點(diǎn)陣組成的，即由晶胞(unit cell)的重復(fù)排列組成的。單色x射線柱沿與晶面成角的方向入射(這和可見光與晶面法線的夾角不同)。在結(jié)晶學(xué)里就規(guī)定是入射角，并稱之為掠射角(glancnig)。入射到晶體的x射線，部分被層形點(diǎn)陣的第一層所反射，部分進(jìn)入晶體內(nèi)部。進(jìn)入晶體內(nèi)部的x射線，會(huì)被層形點(diǎn)陣的2、3、等層所反射。設(shè)晶體的面間距(interplannar spacing)為d，則由圖7得： (14)

24、即： (15)于是1、2層的光程差為，因此，各層反射線滿足相助的條件為： (16)2.5.2 X射線干涉儀原理X射線干涉儀利用穩(wěn)定性為10-8的單晶硅晶格作為標(biāo)尺實(shí)現(xiàn)微位移測量，因而具有亞納微米測量精度。X射線干涉儀原理圖如圖8所示，包括三個(gè)平行且晶格方向完全一致的單晶硅晶片（分束器S、鏡子M和分析器A），當(dāng)X射線以布拉格角入射到分束器S時(shí)，根據(jù)X射線衍射動(dòng)力學(xué)理論，它被分成兩束相干光，這兩束相干光經(jīng)過鏡子M后又各自分成兩束光，其中的兩束光在分析器處相交形成空間駐波場，其周期等于所用晶格的晶面間距。圖8 X射線干涉儀原理圖再經(jīng)過分析器衍射，在分析器后形成宏觀的干涉條紋，當(dāng)分析器A沿垂直于衍射晶

25、面方向移動(dòng)時(shí)，每移動(dòng)一個(gè)晶格，干涉條紋就會(huì)變化一個(gè)周期。通過計(jì)算移動(dòng)的干涉條紋，乘以晶面間距，即可得到分析器移動(dòng)的位移。2.6 F-P微位移測量技術(shù)利用光纖干涉儀測量位移，是當(dāng)前世界各國科技界研究的熱點(diǎn)之一?；诠鈴?qiáng)的F-P位移傳感器，光源和光探測器分別位于F-P的兩端，由探測器探測F-P傳感器的透射光譜。其檢測原理是F-P的輸出光強(qiáng)隨F-P腔長而變化。通過探測光強(qiáng)的變化而探測F-P的腔長，從而探測出待測位移。F-P腔長與光強(qiáng)之間的關(guān)系是高階非線性的，因而處理比較困難。為了克服光強(qiáng)型F-P傳感器測量結(jié)果受光源波動(dòng)影響、難以識(shí)別位移方向等缺點(diǎn)18。利用F-P干涉光譜相鄰波峰之間的波長關(guān)系測量微位

26、移的傳感技術(shù)，經(jīng)實(shí)驗(yàn)其位移分辨力可達(dá)納米級(jí)。2.6.1 F-P微位移測量原理強(qiáng)度型光纖傳感器的突出優(yōu)點(diǎn)是簡單。這類傳感器包括M-Z干涉儀、邁克耳孫干涉儀、Sagnac干涉儀、F-P干涉儀、以及偏振光纖傳感器等。為了實(shí)現(xiàn)高精度測量，強(qiáng)度型光纖傳感器往往需要較為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。光強(qiáng)型F-P傳感器的測量精度雖比其他光強(qiáng)型位移傳感器高，但其測量是一種相對(duì)測量，僅能識(shí)別F-P腔長的相對(duì)變化，而難以辨別腔長是伸長或縮短，即難以辨別位移方向，且當(dāng)位移達(dá)到光強(qiáng)的極值點(diǎn)時(shí)，將難以探測其變化。F-P測量系統(tǒng)如圖9所示。寬帶光源(BBS)發(fā)出的光經(jīng)F-P干涉后，得到圖中的梳狀波，相鄰波峰中心波長1和2與F-P腔長L的關(guān)

27、系為： (17)圖9 F-P法測量系統(tǒng)原理圖由(17)式，根據(jù)相鄰波峰之間的距離變化就可測出F-P腔長的變化，從而也就測出了待測位移的變化。該方法消除了光強(qiáng)變化對(duì)測量結(jié)果的影響，可使測量系統(tǒng)具有更強(qiáng)的抗干擾能力。而且可通過F-P腔長與干涉光譜波峰之間距離的一一對(duì)應(yīng)關(guān)系，實(shí)現(xiàn)位移量的絕對(duì)測量。2.6.2 法布里-珀羅干涉儀原理法布里珀羅干涉儀是一種由兩塊平行的玻璃板組成的多光束干涉儀，其中兩塊玻璃板相對(duì)的內(nèi)表面都具有高反射率。法布里珀羅干涉儀也經(jīng)常稱作法布里珀羅諧振腔，其示意圖如圖10所示。 圖10 法布里珀羅光學(xué)諧振腔示意圖玻璃1與玻璃2相鄰兩平面鍍有光學(xué)高反膜，且兩平面平行，組成光學(xué)諧振腔，

28、該腔可以透過單一光譜的光。寬帶平行光經(jīng)過該光學(xué)諧振腔后，只有單色光透過，其他波長全部按原光路返回。當(dāng)諧振腔長度改變時(shí)，透過波長也隨之改變，因此可以通過波長與腔長的對(duì)應(yīng)關(guān)系，對(duì)透射和反射譜線分析進(jìn)行微位移的測量。由于透過波長為單一波長，因此F-P腔在分析和計(jì)算方面比較精確。3 結(jié)束語本文介紹了六種光學(xué)微位移測量技術(shù)，包括激光三角法、激光干涉法、光柵尺測量法、光纖光柵測量法、X射線干射法以及F-P測量法。對(duì)各方法測量原理進(jìn)行了分析，同時(shí)對(duì)每種方法所用到的儀器進(jìn)行了介紹和對(duì)比。雖然目前有許多種方法可實(shí)現(xiàn)高分辨力微位移測量，但從技術(shù)嫻熟度和可塑性方面，激光干涉發(fā)都是當(dāng)前和近期高準(zhǔn)確度微位移測量方法的主

29、流。高分辨力干涉微位移測量技術(shù)的發(fā)展以及新技術(shù)在微位移測量中的應(yīng)用正日益受到重視。參考文獻(xiàn)1 趙曦, 賈曦, 黃薦渠. 現(xiàn)代長度測量方法綜述J. 自動(dòng)化儀表, 2007, 28(11): 12.2 伍康, 葉雄英, 劉力濤, 等. 集成光柵干涉微位移測量方法J. 納米技術(shù)與精密工程, 2009, 7(1): 56-59.3 王英凱, 安曉東. 納米級(jí)位移測量技術(shù)研究J. 應(yīng)用基礎(chǔ)與工程科學(xué)學(xué)報(bào), 2008 (S1).4 楊力生, 楊士中, 曹海林, 等. 微位移測量技術(shù)的分析J. 重慶大學(xué)學(xué)報(bào): 自然科學(xué)版, 2007, 30(4): 76-78.5 劉波, 牛文成, 楊亦飛, 等. 基于光纖

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