第3節(jié) 干擾的類(lèi)型及抑制

1、第四章第四章 原子吸收分光光度分析法原子吸收分光光度分析法第三節(jié)第三節(jié) 干擾及其抑制干擾及其抑制atomic absorption spectrometry,AAS一、物理干擾及抑制一、物理干擾及抑制非選擇性的非選擇性的 試樣在轉(zhuǎn)移、蒸發(fā)過(guò)程中由于試樣在轉(zhuǎn)移、蒸發(fā)過(guò)程中由于物理因素變化引起的干擾效應(yīng)，如物理因素變化引起的干擾效應(yīng)，如粘度、表面張力、蒸汽壓等，主要粘度、表面張力、蒸汽壓等，主要影響試樣噴入火焰的速度、霧化效影響試樣噴入火焰的速度、霧化效率、霧滴大小等。率、霧滴大小等。 可通過(guò)控制試液與標(biāo)準(zhǔn)溶液的組成盡量一致的方可通過(guò)控制試液與標(biāo)準(zhǔn)溶液的組成盡量一致的方法來(lái)抑制。法來(lái)抑制。 稀釋?zhuān)?/p>

2、減小粘度的影響；稀釋?zhuān)簻p小粘度的影響； 標(biāo)準(zhǔn)加入法；標(biāo)準(zhǔn)加入法； 加入有機(jī)溶劑，減小表面張力加入有機(jī)溶劑，減小表面張力二、化學(xué)干擾及抑制二、化學(xué)干擾及抑制有選擇性的有選擇性的 指待測(cè)元素與其它組分之間的化學(xué)作用所引起的干擾效應(yīng),主要影響到待測(cè)元素的原子化效率，是主要干擾源。 待測(cè)元素與其共存物質(zhì)作用待測(cè)元素與其共存物質(zhì)作用，致，致使參與吸收的基態(tài)原子減少。使參與吸收的基態(tài)原子減少。 例：例：a、鈷、硅、硼、鈦、鈹在火焰中易生成難熔化合物鈷、硅、硼、鈦、鈹在火焰中易生成難熔化合物 b、硫酸鹽、硅酸鹽與鋁生成難揮發(fā)物。硫酸鹽、硅酸鹽與鋁生成難揮發(fā)物。 化學(xué)干擾的抑制化學(xué)干擾的抑制 通過(guò)改變實(shí)驗(yàn)條件

3、或在標(biāo)準(zhǔn)溶液和試液中加入某種光譜化學(xué)緩沖劑來(lái)抑制或減少化學(xué)干擾：（1）改變火焰類(lèi)型：）改變火焰類(lèi)型：使用高溫火焰使在較低溫度火焰中穩(wěn)定的化合物在較高的溫度下解離。（2）改變火焰特性：）改變火焰特性：-改變?nèi)細(xì)夂椭細(xì)獾谋壤?例：強(qiáng)還原性氣氛火焰更有利于難熔、難揮發(fā)氧化物的元素?；瘜W(xué)干擾的抑制化學(xué)干擾的抑制（3）釋放劑）釋放劑與干擾元素生成更穩(wěn)定化合物使待測(cè)元素釋放出來(lái)。 例：鍶和鑭可有效消除磷酸根對(duì)鈣的干擾。（4）保護(hù)劑）保護(hù)劑與待測(cè)元素形成穩(wěn)定的絡(luò)合物，防止干擾物質(zhì)與其作用。 例：加入EDTA生成EDTA-Ca，避免磷酸根與鈣作用。（5）飽和劑（緩沖劑）飽和劑（緩沖劑）加入足夠的干擾元素，

4、使干擾趨于穩(wěn)定。 例：用N2OC2H2火焰測(cè)鈦時(shí)，在試樣和標(biāo)準(zhǔn)溶液中加入300mgL-1以上的鋁鹽，使鋁對(duì)鈦的干擾趨于穩(wěn)定。 (6)采用標(biāo)準(zhǔn)加入法采用標(biāo)準(zhǔn)加入法三、電離干擾三、電離干擾生成離子，不產(chǎn)生生成離子，不產(chǎn)生吸收，總吸收強(qiáng)度減弱，電離電位吸收，總吸收強(qiáng)度減弱，電離電位6eV的元素易發(fā)生電的元素易發(fā)生電離，火焰溫度越高，干擾越嚴(yán)重，（如堿及堿土元素）離，火焰溫度越高，干擾越嚴(yán)重，（如堿及堿土元素）。 v 消電離劑消電離劑加入大量易電離的一種緩沖劑以抑制待測(cè)元素的電離。 例：加入足量的銫鹽，抑制K、Na的電離。 ScSc e K+ + e K v 利用強(qiáng)還原性富燃火焰利用強(qiáng)還原性富燃火焰v

5、 標(biāo)準(zhǔn)加入法標(biāo)準(zhǔn)加入法v 提高金屬元素的總濃度也是減少或消除電離干擾的基本提高金屬元素的總濃度也是減少或消除電離干擾的基本方法。方法。四、光譜干擾及校正方法四、光譜干擾及校正方法 待測(cè)元素的共振線與干擾物質(zhì)譜線分離不完全，這類(lèi)干擾待測(cè)元素的共振線與干擾物質(zhì)譜線分離不完全，這類(lèi)干擾主要來(lái)自光源，主要有以下幾種：主要來(lái)自光源，主要有以下幾種： 1.吸收線重疊干擾吸收線重疊干擾兩種以上元素的吸收線重疊。兩種以上元素的吸收線重疊。 可以通過(guò)調(diào)小狹縫、選用被測(cè)元素的其他分析線或者預(yù)先可以通過(guò)調(diào)小狹縫、選用被測(cè)元素的其他分析線或者預(yù)先分離干擾物質(zhì)來(lái)抑制這種干擾。分離干擾物質(zhì)來(lái)抑制這種干擾。 2.非吸收線光

6、譜干擾非吸收線光譜干擾可能是待測(cè)元素的其他共振線或非可能是待測(cè)元素的其他共振線或非共振線，也可能是光源中電極材料或雜質(zhì)產(chǎn)生的干擾。共振線，也可能是光源中電極材料或雜質(zhì)產(chǎn)生的干擾。 選用較小的光普通帶；選用較小的燈電流或者更換燈。選用較小的光普通帶；選用較小的燈電流或者更換燈。 3.直流發(fā)射干擾直流發(fā)射干擾消除干擾的措施：消除干擾的措施： 將發(fā)射的光調(diào)制成一定頻率；檢測(cè)器只接受該頻率的光信號(hào)； 原子化過(guò)程發(fā)射的非調(diào)頻干擾信號(hào)不被檢測(cè)；在原子化過(guò)程中，原子受到輻射躍遷到激發(fā)態(tài)后，處于不穩(wěn)定狀態(tài)，將再躍遷至基態(tài)，故既存在原子吸收，也有原子發(fā)射。但返回釋放出的能量可能有多種形式，產(chǎn)生的輻射也不在一個(gè)方

7、向上，但對(duì)測(cè)量仍將產(chǎn)生一定干擾。五、背景干擾五、背景干擾 背景干擾主要是指原子化過(guò)程中所產(chǎn)生的光譜干擾，主要有分子吸收干擾和散射干擾，干擾嚴(yán)重時(shí)，不能進(jìn)行測(cè)定。 1. 分子吸收與光散射 原子化過(guò)程中，存在或生成的分子對(duì)特征輻射產(chǎn)生的吸收。分子光譜是帶狀光譜，勢(shì)必在一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)產(chǎn)生干擾。 原子化過(guò)程中，存在或生成的微粒使光產(chǎn)生的散射現(xiàn)象。 產(chǎn)生正偏差，石墨爐原子化法比火焰法產(chǎn)生的干擾嚴(yán)重 2.背景干擾校正方法背景干擾校正方法(2) 氘燈連續(xù)光譜背景校正氘燈連續(xù)光譜背景校正所有的原子化方法都適用所有的原子化方法都適用旋轉(zhuǎn)斬光器交替使氘燈提供的連續(xù)光譜和空心陰極燈提供的共振線通過(guò)火焰；連續(xù)光譜通過(guò)時(shí)：測(cè)定的為背景吸收(此時(shí)的共振線吸收相對(duì)于總吸收可忽略)；AD=Ab(D)+Aa（D)=Ab(D)共振線通過(guò)時(shí)，測(cè)定總吸收；AH=Ab(H)+Aa（H)差值為有效吸收；AHAD=Ab(H)+Aa（H) Ab(D)Aa(1) 雙線校正法雙線校正法A共振線A原子A分子； A非吸收線A分子A原子=A共振線A非吸收線（3）塞曼）塞曼(Zeeman)效應(yīng)背景校正法效應(yīng)背景校正法適用于石墨爐原子化適用于石墨爐原子化Zeeman效應(yīng)效應(yīng)：在磁場(chǎng)作用下簡(jiǎn)并的譜線發(fā)生裂分的現(xiàn)象；校正原理校正原理：原子化器加磁場(chǎng)后，隨旋轉(zhuǎn)偏振器的轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)平行磁場(chǎng)的偏振光通過(guò)火焰時(shí)，產(chǎn)生