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1、烤箱的溫度控制分析摘要:本文以烤箱的溫度為研究對(duì)象,對(duì)其溫度變化進(jìn)行建模并控制分析。闡述了基本的建模原理,并利用Matlab /Simulink仿真工具,依據(jù)狀態(tài)空間方程理論對(duì)該系統(tǒng)進(jìn)行仿真分析與控制。關(guān)鍵詞:Matlab /Simulink仿真;狀態(tài)空間;反饋控制1、背景介紹溫度控制技術(shù)廣泛的應(yīng)用于社會(huì)生活的各個(gè)方面,傳統(tǒng)的溫度控制技術(shù)中最常用的就是繼電器調(diào)溫,但是繼電器調(diào)溫操作頻繁,溫度的控制范圍小,精度也不高。由于烤箱溫度控制具有多種特點(diǎn),例如單方向升溫、時(shí)間滯后性強(qiáng)、隨時(shí)間變化等。因此,傳統(tǒng)的控制方法不能達(dá)到預(yù)期的控制效果。根據(jù)烤箱工作時(shí)實(shí)際溫度的變化情況,本文對(duì)烤箱先進(jìn)行建模,分析其
2、溫度的變化情況,繼而采用負(fù)反饋控制對(duì)其進(jìn)行溫度的調(diào)節(jié)控制。2、烤箱模型介紹及建模2.1 烤箱的結(jié)構(gòu)組成電烤箱一般是由箱體、電熱元件、調(diào)溫器、定時(shí)器、功率調(diào)節(jié)開(kāi)關(guān)等結(jié)構(gòu)組成。電烤箱的熱量由熱電阻產(chǎn)生,由功率放大器產(chǎn)生的電壓Vc控制。溫度由放在測(cè)量洞中的熱電偶測(cè)量,儀表放大器產(chǎn)生的電壓Vm,來(lái)顯示溫度m?,F(xiàn)假設(shè),在烤箱的溫度范圍內(nèi),傳感器和儀表放大器裝置是線性的??鞠浜?jiǎn)化模型如圖1所示:圖1. 烤箱結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖此結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖中所包括的參數(shù)如下:Q=k1Vc 產(chǎn)生的熱量;Ra 導(dǎo)熱管向機(jī)殼傳播的熱電阻;Ca 機(jī)殼的熱熔;Rm 降低測(cè)量動(dòng)中的烤箱熱循環(huán)熱電阻;Cm 測(cè)量洞中的熱熔;Rf 向烤箱外散熱的泄漏電阻
3、;Ce 烤箱外空氣的熱熔,假定很大;a、m、e 分別表示烤箱機(jī)殼、測(cè)量洞、烤箱外的溫度;2.2 烤箱模型的等效電路圖烤箱的等效電路圖如圖2所示:圖2. 烤箱模型的等效電路圖2.3 烤箱的熱力學(xué)系統(tǒng)方程由以上的等效電路圖,構(gòu)建如下熱力學(xué)系統(tǒng)方程:Q=Cadadt+Cmdmdt+a-eRfm=a-RmCmdmdt對(duì)上述方程進(jìn)行拉普拉斯變換,得到根據(jù)Q、e和系統(tǒng)參數(shù)的a的表達(dá)式:a=(Q+eRf)Rf(1+RmCms)1+RmCm+RfCm+RfCas+RfRmCmCas2由此,得到測(cè)量溫度和烤箱機(jī)殼溫度的關(guān)系如下:ma=11+RmCms綜合這些方程,采用函數(shù)方框圖來(lái)表示這一完整的過(guò)程,過(guò)程框圖如圖
4、3所示:圖3. 完整的過(guò)程框圖其中:T1s=Rf(1+RmCms)1+RmCm+RfCm+RfCas+RmCmRfCas2T2s=11+RmCms現(xiàn)對(duì)烤箱模型的各個(gè)參數(shù)進(jìn)行賦值,如下:Ra=0.01/W;Rm=3/W;Rf=0.1/W;Qmax=1000W;Ca=5000J/;Cm=10J/;Ce=;e=18;k1=100W/V;k2=0.1V/;代入上述傳遞函數(shù)T1s、T2s中,經(jīng)計(jì)算得:T1s=0.1+3s15000s2+531s+1T2s=11+30s2.4 烤箱系統(tǒng)的Simulink仿真在Simulink中進(jìn)行系統(tǒng)的模型模擬,如圖4所示:圖4. 烤箱系統(tǒng)模擬模型經(jīng)過(guò)Simulink仿真
5、得到測(cè)量電壓Vm和控制電壓Vc的變化曲線,如圖5所示:圖5. 測(cè)量電壓Vm和控制電壓Vc變化曲線圖由上圖可知,當(dāng)過(guò)一段時(shí)間后,測(cè)量電壓Vm逐漸趨于恒定值,但是與控制電壓Vc總有一段穩(wěn)態(tài)誤差,無(wú)法達(dá)到理想的溫度狀態(tài),因此,需要對(duì)烤箱溫度系統(tǒng)進(jìn)行負(fù)反饋控制進(jìn)行調(diào)節(jié)??鞠涞臏囟茸兓€,如圖6所示:圖6. 烤箱溫度變化曲線圖由圖6分析可知,在1000W功率的烤箱中,瞬間測(cè)量溫度m很接近烤箱溫度a,當(dāng)時(shí)間充分,穩(wěn)定狀態(tài)下,兩者幾乎是相等的。3、烤箱的PID控制調(diào)節(jié)3.1 PID介紹所謂PID控制規(guī)律,就是一種對(duì)偏差(t)進(jìn)行比例、積分和微分變換的控制規(guī)律。即:mt=Kpt+1Ti0td+Tdd(t)d
6、t其中,Kp t是比例控制項(xiàng);Kp是比例系數(shù);1Ti0td為積分控制項(xiàng);Ti是積分時(shí)間常數(shù);Tdd(t)dt為微分控制項(xiàng);Td是微分時(shí)間常數(shù)。比例控制項(xiàng)與微分、積分控制項(xiàng)的不同組合可分別構(gòu)成PD(比例微分)、PI(比例積分)、PID(比例積分微分)等三種調(diào)節(jié)器。PID調(diào)節(jié)器通常用作串聯(lián)校正環(huán)節(jié)。PID調(diào)節(jié)器的控制作用有以下幾點(diǎn):1、比例系數(shù)Kp直接決定控制作用的強(qiáng)弱,加大可使系統(tǒng)的穩(wěn)態(tài)誤差減小,提高系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)響應(yīng)速度,但過(guò)大會(huì)使控制量振蕩甚至導(dǎo)致閉環(huán)系統(tǒng)不穩(wěn)定;2、在比例調(diào)節(jié)的基礎(chǔ)上加上積分控制可以消除系統(tǒng)的穩(wěn)態(tài)誤差,但是這將使系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)過(guò)程變慢,而且過(guò)強(qiáng)的積分環(huán)節(jié)會(huì)使系統(tǒng)的超調(diào)量增大,穩(wěn)定性
7、變壞;3、微分控制作用是減少超調(diào),克服振蕩,使系統(tǒng)趨于穩(wěn)定,加快系統(tǒng)的響應(yīng)速度,減少調(diào)整時(shí)間,改善系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)性能。不足之處是放大噪聲信號(hào)。3.2 烤箱的PID控制在Simulink中進(jìn)行建模,如圖7所示:圖7. 烤箱的PID控制模型運(yùn)行結(jié)果如圖8所示:圖8. PID控制Vc與Vm關(guān)系圖由圖8可以得知,測(cè)量電壓Vc與控制電壓Vm在穩(wěn)定狀態(tài)下是相等的,但是不足之處是超調(diào)量略顯高,還有待進(jìn)一步的改善。4、烤箱模型的離散狀態(tài)控制烤箱的離散狀態(tài)控制模型是建立在反饋控制系統(tǒng)之上的,而反饋控制系統(tǒng)是基于反饋原理建立的自動(dòng)控制系統(tǒng)。所謂為反饋原理,即是根據(jù)系統(tǒng)輸出變化的信息來(lái)進(jìn)行控制,通過(guò)比較系統(tǒng)輸出的行為與
8、期望的輸出行為之間的偏差,并消除偏差以此獲得期望的系統(tǒng)性能。在反饋控制系統(tǒng)之中,存在由輸入到輸出的信號(hào)前向通道,和從輸出端到輸入端的信號(hào)反饋通道,二者組成了閉環(huán)回路。4.1 烤箱的離散狀態(tài)表示將烤箱函數(shù)的過(guò)程框圖進(jìn)行修改,以此來(lái)得到傳遞函數(shù)Ts=Vm(s)Va(s)的狀態(tài)表達(dá)式,其中Vm(s)表示測(cè)量的烤箱溫度,Va(s)反映烤箱機(jī)殼的溫度。如圖9所示:圖9. 修改后的烤箱函數(shù)框圖其中,傳遞函數(shù)T(s):Ts=k1k2Rf1+RmCm+RfCm+RfCas+RmCmRfCas2由傳遞函數(shù)可知,T(s)是二階函數(shù),所以狀態(tài)表達(dá)式需要2個(gè)狀態(tài)變量,令:x1t=Vm(t)x2t=x1(t)不妨取常數(shù)
9、b0、a1、a0,則可將表達(dá)式修改為:Ts=b0s2+a1s+a0因此,得到對(duì)應(yīng)于傳遞函數(shù)Ts的空間狀態(tài)表達(dá)式(矢量形式):(x1x2)=01-a0-a1(x1x2)+(0b0)Vcy=Vm=(10)(x1x2)4.2 離散系統(tǒng)狀態(tài)空間現(xiàn)在考慮傳遞過(guò)程中的時(shí)間常數(shù),其被采樣周期1s離散化,通過(guò)測(cè)量Vm來(lái)控制烤箱溫度,因此,設(shè)置:固有頻率n=0.005rad/s;阻尼系數(shù)=0.707。則通過(guò)以下程序,來(lái)求出離散系統(tǒng)的狀態(tài)空間表達(dá)式。Rm=3; Rf=0.1; Ca=5000; Cm=10; k2=0.1; k1=100; Te=1; a0=1/(Rf*Rm*Cm*Ca); a1=1/(Rm*Cm
10、);b0=k1*k2*Rf/( Rf*Rm*Cm*Ca);A=0 1; -a0 -a1;B=0; b0;C=1 0;D=0;sys=ss(A, B, C, D);sysd=c2d(sys, Te, zoh);Ad, Bd, Cd, Dd, Ts, Td=ssdata(sysd)運(yùn)行結(jié)果,如下圖所示:狀態(tài)反饋量K通過(guò)以下程序求出:m=sqrt(2)/2;wn=1/200;p1=-2*exp(-m*wn*Te)*cos(wn*Te*sqrt(1-m2);p2=exp(-2*m*wn*Te);p=1 p1 p2;pr=roots(p);K=acker(Ad, Bd, pr)運(yùn)行結(jié)果,如下圖所示:具有狀態(tài)反饋的離散空間,在Simulink中仿真后,如圖10所示:圖10. 烤箱離散狀態(tài)控制圖運(yùn)行結(jié)果如圖11所示:圖11. 烤箱離散狀態(tài)Vc與Vm關(guān)系圖由圖10可看出,適當(dāng)增大前向通道的增益來(lái)減小兩者位置的差異,但是也勢(shì)必會(huì)帶來(lái)超調(diào)和振蕩,因此在前向通道中加入的增益不宜過(guò)大。在圖11中,可以看出雖然產(chǎn)生一定的振蕩,但是位置差已經(jīng)被大大的減小,而且超調(diào)量也大幅度的降低了,控制的效果也基本令人滿意。5、總結(jié)對(duì)于控制系統(tǒng),采用添加前向負(fù)反饋增益的方法可以改善系統(tǒng)的特性,但是也會(huì)帶來(lái)超調(diào)和振蕩等不良影響,例如PID控制調(diào)節(jié),比例環(huán)節(jié)、積分環(huán)節(jié)和微分環(huán)節(jié)的系數(shù)共同作用于系統(tǒng)的
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