巧用霍爾槽維護電鍍液

1、巧用霍爾槽維護電鍍液1光亮酸性鍍銅221 使用相同的小整流電源(應是低紋波的)和電鍍溶液的性能總會隨著使用而不斷變化，其相同截面與長度的直流輸出線(保證電壓降基本一影響因素甚多。要想使鍍液性能指標保持在最佳或致)，若電壓高于正常值03V以上，則可能硫酸偏良好狀態(tài)，就應及時進行調整。調整依據可來自三少，補加3mLL一5mLL濃硫酸再試。個方面：其一，憑經驗，依據鍍層狀況得出結論；其222 若銅含量正常，生產中陽極面積足夠(sA：SK二，憑化驗結果；其三，憑試驗結果。2：1)，卻出現(xiàn)電壓升高，電流減小現(xiàn)象，先檢查陽經驗往往具有局限性，經驗的積累要有相當?shù)臉O板導電是否良好(清洗接觸處)，若仍有此現(xiàn)象

2、，則實踐經歷和總結能力；而對一項新工藝，剛開始使陽極已鈍化，可能硫酸過少，補加8mLL一10mLL用，則談不上經驗。濃硫酸。分析化驗結果的準確性受多方面因素影響，如223 若加足光亮劑，高中DK區(qū)光亮性仍不足，低分析人員的素質、水平與熟練程度、分析手段、分析DK區(qū)光亮范圍窄，而試驗時電壓又低于正常值方法等。而現(xiàn)代電鍍廣泛采用的多種復配的有機添05V以上，則可能硫酸過多(正常生產時因帶出損加劑、光亮劑等幾乎無法分析。分析化驗有時是必耗，硫酸應呈減少趨勢。硫酸過多，或是鍍前采用硫不可少的，如合金電鍍時鍍液及鍍層中合金組分的酸活化時清洗不良帶人或不慎一次加入過多)，應試比例，難以用其它方法判定。但若

3、憑一個不準確化驗稀釋鍍液，補加硫酸銅及光亮劑。驗結果來調整鍍液，有時也會搞得一塌糊涂。23 氯離子判定及處理鍍液性能變化后必然要從鍍層上反映出來，要231 若鍍層亮度很差，補加混合光亮劑或分別補想從一張試驗試片上反映出寬電流密度范圍內的鍍加光亮劑組分試驗，均改善不大，高DK區(qū)鍍層有發(fā)層狀況，最簡單的辦法還是赫爾槽試驗。利用花現(xiàn)象，磷銅陽極上不易生成黑膜，則可能氯離子含250mL赫爾槽試驗，是筆者幾十年搞新工藝、添加劑量低于20mgL(正常為40mgL一80mgL)，可按開發(fā)及日常維護鍍液的最主要手段。008mLL一01mLL量加入鹽酸(沖稀20倍便于計本文就最常用鍍種如何利用赫爾槽試驗來調整算

4、)后再試。若補加后光亮整平性明顯提高，則可確鍍液加以小結，供同行參考。認Cl一過少，再仔細試驗最佳加入量。該鍍種鍍液成分簡單，但卻是很難維護好的鍍232 若高中DK區(qū)光亮整平性良好，低DK區(qū)很種。筆者考慮生產成本，一直采用國產心型光亮差，硫酸含量又正常，調整光亮劑及加人PN劑，并不斷對其配比、光亮劑組分加以完善改進。采002mIA,一004mL 或AESS 004mL 一用“中酸、中銅”工藝裝飾性電鍍，調整得當時，赫爾008mLL果均不明顯，則可能Cl一過多，此時應作槽試片1A攪拌鍍5min，試片能達到全光亮且具有除氯，再試。較好整平性，生產中允許DK可達5Adin2。電源應233 懷疑cl一

5、過多時，實踐證明用氰化亞銅除氯是低紋波的。效果比較好。21 銅含量判定方法為：按01gL一02gL量稱取氰化亞銅，光亮酸性鍍銅，應有足夠的陰極濃差極化，才能認真研成細粉狀，用少量水調成糊狀，在不斷強烈攪有好的分散能力和寬的光亮范圍，硫酸銅的含量以拌下慢慢加入鍍液，攪拌、靜置、過濾(理論上去除150gL一170gL為宜。1g Cl一需25g氰化亞銅)。若除Cl一后低DK區(qū)光亮211 2A靜鍍3min，高端應有1cm左右燒焦。用性明顯提高，則可確診為Cr過多。若氰化亞銅加細玻棒在試片表面大約1s來回攪拌一次，則無燒入過量，則Cl一會過少，整個試片亮度均差。焦，銅含量基本正常。冬季氣溫低時，攪拌情況

6、下允生產中難以定量時，寧可加入稍過量的氰化亞許約3mm左右燒焦。銅，將cl一幾乎全部除去，再按01 LL量加入濃鹽212 若2A靜鍍無燒焦，則銅含量過高，應稀釋鍍酸，重新提供所需cl一。液，補加硫酸和開缸劑。液溫低于10C時，鍍液中用氰化亞銅除氯比用硫酸銀省得多，比用鋅粉銅含量過高，陽極溶解不良，陽極極化過大，銅陽極效果好得多。用氰化亞銅除cl一后應認真過濾鍍還易鈍化。液。213 若靜鍍燒焦大于15cm，則銅含量不足，應試24 光亮劑調整驗補加硫酸銅至燒焦約1cm。241 試驗加入光亮劑后，光亮整平性提高，半光22 硫酸含量判定亮與全光亮區(qū)無明顯分界，則光亮劑過少，根據實驗新配鍍液時，硫酸以5

7、o L一6o L為宜。過結果補加光亮劑。多，光亮整平性差；過少，電導率低，低DK區(qū)光亮范242 若高中DK區(qū)光亮整平性異常好，而光亮與圍變窄，陽極易鈍化，在正常鍍液作赫爾槽試驗時，半光亮區(qū)可見明顯分界，則光亮劑過多。此時若加應對所用電源及直流導線，記錄不同液溫時電流與入約004mLL AESS或PN類低區(qū)走位劑，則無明電壓的對應數(shù)據，以便作為日后的判斷依據。顯分界，可補充這類組分；但若加入后鍍層發(fā)霧，則不能加入，可按011LL一02mLL量將雙氧水沖但PN、AESS之類均不能加人過量，否則鍍層會稀l0倍以上在不斷攪拌下慢慢加入，破壞部分光亮產生灰霧。GISS有可能降低鍍層整平性。劑。注意雙氧水

8、不宜一次加入過多，否則殘存物有264 用H1(四氫噻唑硫酮)代替M、N，組成簡單，害。但H1的溫度特性差，必須同時加人PN、AESS之類243 光亮范圍窄才行。染料型光亮劑光亮范圍較寬，但溫度范圍較窄，熟悉了赫爾槽試驗，可用它改進光亮劑組分及因染料“鹽析”或分解易造成鍍層麻砂，筆者寧可采配比，再結合生產實踐考核，可對光亮劑不斷加以改用非染料型，加以及時精細調整，也可有較寬的光亮進、提高。范圍。3 光亮鍍鎳(1)若高中DK區(qū)光亮整平性正常，低DK區(qū)亮影響光亮鍍鎳效果的因素太多，而不僅僅取決度不足，補加光亮劑及低區(qū)走位類組分后仍改善不于光亮劑。利用赫爾槽試驗可以調整出良好的效大，則可確定為光亮劑質

9、量不良或cl一含量不正常；果。(2)懷疑Cl一過多時，按233方法試驗；31 硼酸含量的判定(3)調整Cl一含量效果不明顯，則為光亮劑問硼酸被廣泛用作微酸性電鍍液作pH緩沖劑。題，此時：在光亮鍍鎳中，硼酸還有細化結晶，提高光亮整平性a)若低DK區(qū)鍍層側看泛紅，可試加M或N，看及擴展低D 區(qū)光亮范圍的作用，應予充分重視有無改善(液溫高時，M消耗較快)；其含量以控制在使用液溫下無結晶析出為限。b)加入約004mL PN、AESS，看有無改善。311 從低溫結晶狀況判定(4)加入M、N、AESS、PN均無明顯改善，則試驗低溫鍍亮鎳至今尚未開發(fā)成功，液溫一般在是否硫酸過多，硫酸銅過少。55C一60，不

10、能低于45。用燒杯取熱的鍍液，冷25 有機雜質判定及處理卻至室溫，應有較多結晶；若結晶太少甚至無結晶，光亮劑分解產物積累過多后，應予處理。肯定硼酸少(可與含量45gL一5OgL的正常鍍液作251 若試片表面有一層發(fā)灰的疏松膜層，用手可比較)。不連續(xù)使用的亮鎳液，重新加溫后，應先將擦去，擦除后鍍層仍光亮，則有機雜質過多。槽底結晶的硼酸充分攪溶后再生產，否則鍍液中實252 處理有機雜質可按下述辦法進行：際含量不足，會影響電鍍效果。(I)按8mLL一10mLL量加入雙氧水(不可用312 赫爾槽試片上的反映高錳酸鉀，因引入Mn2 有害)，認真攪拌半小時以55C左右攪拌鍍3min(2A)，若試片高中DK

11、區(qū)上：有灰白現(xiàn)象(潤濕劑又足夠時)，$t,；01I 5gL左右硼酸(2)加溫到6o左右，保溫4h以上。保溫期間則有明顯好轉，為硼酸不足。每隔20min攪拌3min一5min，以充分氧化有機雜質55C左右1A攪拌鍍5min，若低區(qū)光亮性不足，及去除殘存雙氧水；而pH值又不低，光亮劑足夠，可試加5gL左右硼(3)加入5gL一8gL化學純活性碳(不可用工酸，若有明顯好轉，則硼酸不足。業(yè)級，否則會引入過多Cl一)，攪拌20min以上。靜32 鎳鹽判定置后認真過濾；新配亮鎳液，55C左右3A靜鍍3min，試片高端(4)冷卻至室溫后用赫爾槽試驗，確認鍍層已成應無燒焦。若生產槽液，赫爾槽2A靜鍍都有燒焦，暗

12、銅后，按新配量加入開缸劑，補加少量硫酸后再而pH值正常，不差硼酸，則主鹽不足。此時可視情試。若因加入活性碳后cl一過量，應進行除氯處理。況$t,；01I鎳鹽。當氯化鎳正常時，鍍液應帶墨綠色；若26 lVlN型光亮劑的改進鍍液只是淡的綠色，可能氯離子不足，應補加10gL261 書本上經典lVlN型酸銅配方中，光亮劑組分左右氯化鎳；若鍍液帶墨綠色，可補加20gL左右硫含量范圍太寬，其最佳組合應該根據所購材料性質，酸鎳。通過赫爾槽試驗確定出最佳比例。聚乙二醇含量提主鹽濃度不足，不僅燒焦區(qū)寬(允許DK小)，光高至15倍一25倍。P原用分子量6000的，現(xiàn)主亮整平性也變差。張用800012000的，夏天

13、P含量應比冬天高，否則33 氯離子判定及調整整平性差，甚至鍍層起麻點。氯離子在亮鎳液中通常用于陽極活化劑，防止262 近年不少人認為，采用BSP(苯基聚二硫二鎳陽極鈍化。實際上，由于氯化鎳的擴散系數(shù)遠比丙烷磺酸鈉)代替sP，效果好得多；加入部分TPS(三硫酸鎳大，因此，足量的氯離子有助于提高鍍鎳液分甲基甲酰胺磺酸鈉)，光亮劑組分變化會慢些，有利散能力和擴展低DK區(qū)光亮范圍，其作用有時還非于減少故障，但鍍層鈍化更快。常明顯，因而新配液的氯化鎳含量不宜低于45gLo263 加人PN(聚乙烯亞胺烷基鹽)既有低區(qū)走位331 從鍍液顏色判定作用，又能提高鍍液允許液溫(有人稱PN為“高溫當氯離子少時，雜質

14、少的鍍液呈淺綠色；而當氯載體”)。加入AESS或GISS之類低區(qū)走位劑有利于離子足量時，應帶墨綠色，但當鍍液中Fe2 、Cu2 及擴展低DK區(qū)光亮范圍。有機雜質過多時，色澤也深，因此，從顏色判定，應有足夠經驗。353 低DK區(qū)光亮性差332 赫爾槽判定提高低DK區(qū)光亮性，一直是追求的目標，這對當鍍液pH在465O(用原上海試劑三廠38滾鍍亮鎳特別重要。性能良好的光亮劑在正常的鍍 54試紙測量)時，1A攪拌鍍5min，低區(qū)光亮性液中，1A攪拌鍍5min，試片應達全光亮。差，補加光亮劑后效果仍不理想，若補加8gL一2A攪拌鍍5min，若高中DK區(qū)亮度不足，補加光10 L氯化鎳，改善明顯，則肯定氯離

15、子不足。亮劑后，試片均光亮，則系光亮劑過少，光亮劑質量34 潤濕劑的判定可以。對于分為主光劑與柔軟劑兩種的添加劑，當潤濕劑不僅能降低鍍液表面張力，防止氣體針比例失調后，低DK區(qū)亮度也不足。多數(shù)柔軟劑中孔麻點，它們也是表面活性物質，能起到陰極極化作除初級光亮劑外還加有低區(qū)走位及雜質掩敝類中間用。試驗過多次，新配亮鎳液不加潤濕劑時，很難得體，多加一點柔軟劑，也可能改善低DK區(qū)光亮性。到光亮細致鍍層，甚至赫爾槽試片高中DK區(qū)鍍層但柔軟劑加入過多?？赡苠儗雍蜻^重，鎳層易鈍發(fā)花。某些潤濕劑還可擴展低DK區(qū)光亮范圍?；?，套鉻時可能發(fā)花、易起黃膜。341 從表面張力判定補加光亮劑或柔軟劑后，高中DK區(qū)光亮

16、性很用十二烷基硫酸鈉(K12)時，取一段細鐵絲或銅好，低DK區(qū)仍差，則可能是：絲，繞一個奪10o,I,12o圓圈，從鍍液中輕輕提起，若(1)光亮劑本身光亮范圍不寬，應換用性能良好其上一層液膜在10余秒鐘不破，則潤濕劑足；若無的光亮劑或加入適量性能良好的低區(qū)走位劑，再試；液膜或不能維持5秒，則潤濕劑不足。也有人認為，(2)pH值過低。若因鍍液主鹽濃度過低鍍層易若用咖圓圈，液膜30秒都不破，則潤濕劑過多。燒焦時，不及時補加鎳鹽而靠調低pH值來應付生空氣攪拌時采用低泡潤濕劑，其對表面張力的下降產，則只會加大光亮劑用量及消耗量，低【)K更難鍍作用差些。圓圈直徑可依潤濕劑種類不同，摸索出經亮。應補加鎳鹽

17、，調高pH值再試；驗。(3)硼酸過少也影響低DK區(qū)光亮性及整平性，342 赫爾槽試驗時的反映試加入10 L硼酸再試；要從赫爾槽試驗判斷潤濕劑是否足量，只能在(4)氯離子過少，光亮范圍也窄，試加10 一靜鍍時仔細觀察電鍍時試片表面氣泡滯留情況及鍍20gL氯化鎳再試；約10min。鍍層較厚時看鍍層有無麻點。若試片在(5)雜質過多。特別是是采用銅 鎳一鉻工藝攪拌鍍時，高DK區(qū)有發(fā)花現(xiàn)象，加入潤濕劑后則不時，亮鎳液中很易引入銅雜質，銅不太多時，低DK發(fā)花了，說明潤濕劑太少。采用十二烷基硫酸鈉作區(qū)亮度差，過多時，低DK區(qū)鍍層發(fā)黃、發(fā)灰甚至發(fā)潤濕劑，攪拌鍍時鍍液表面應有較多氣泡；若氣泡太黑，加光亮劑起亮效

18、果也差，應除銅后再試。加入低少甚至無氣泡，則K12過少。區(qū)走位劑有時也有效。35 光亮整平性試驗36 雜質判定光亮劑無法分析，常用赫槽試驗來作調整。361 銅雜質及其處理判斷是否因光亮劑不足或質量不良引起光亮性赫爾槽1A攪拌鍍3min，若鍍層低DK嚴重發(fā)差或光亮范圍窄，應首先確認硼酸、潤濕劑、主鹽、灰，甚至發(fā)黑，試片上方也有一線發(fā)黑，最大可能是a一、pH值等正常，因為這些條件不好，也會嚴重影銅雜質過多。此時可試加黃血鹽稀溶液，攪拌、過濾響光亮效果。若要比較不同光亮劑的效果，應采用后再試。若明顯好轉，則肯定銅雜質過多。再精確同樣的基礎液。若只在舊溶液中補加新選擇的光亮試驗黃血鹽最佳加入量。加黃白

19、鹽或QT除銅劑的劑，則受舊液中原光亮劑的影響，可能造成比例失調最大麻煩是生成的沉淀多，過濾麻煩。市面上有多或協(xié)同效應不一樣而影響試驗結果。種除雜水，當銅雜質不多時，加入后絡合共沉積，將351 整平性判定的簡易方法銅雜質鍍出來。但應隨時、經常使用，一旦銅過多，無粗糙度測試儀器的企業(yè)，只能用簡易辦法判效果也就不太明顯。這類物質加多了也有害處。會定整平性。其方法如下：用銅試片，磨光拋光成鏡影響鍍層光亮性。因此，仔細操作，盡量減少銅雜質面。手工除油后，用640號以上的水砂紙，在試片中的引入，才是至關重要的。部沿長度方向用手工細心均勻地拉出寬約5mm的362 硝酸根一條細砂路子，鍍后比較砂路的填平程度及

20、范圍。銅件鍍鎳前多數(shù)仍離不開用含硝酸或硝酸鹽的整平性良好時，2A攪拌鍍5rain，從高端算起，應有酸洗液進行酸洗，清洗不凈，易向亮鎳液引入硝酸6cm一7cm長度的細砂路被填平。根，加入劣質硫酸鎳，也易引入NO 一。352 高中DK區(qū)光亮性不良赫爾槽3A靜鍍3min，若高端燒焦，起皮且發(fā)試片直接用細砂紙砂平，均勻而不拋光，2A攪黑，可能NO3一污染。再用無鎳層的銅試片lA攪拌拌鍍3rain，若高中DK區(qū)亮度不足，按配方量的13鍍3min，若低區(qū)鎳層漏鍍，則肯定無疑。補加光亮劑，應得到很光亮鍍層。若光亮劑加后光確認NO3一污染鍍液后，可在強烈攪拌下試加稀亮性仍差，再按13量補加，還不行，則為光亮劑

21、本的亞硫酸氫鈉溶液(約001 rnL)，250mL鍍液中加身質量不良或主鹽、硼酸太少，鍍液太稀。lmL，攪拌數(shù)分鐘，再加熱后用銅試片lA攪拌鍍3min，若漏鍍明顯減少，再試驗確定加入量。注意，熱到高于試驗溫度4cc一5cc。赫爾槽中放入一支過量的還原劑又反而使漏鍍區(qū)加寬，且亮鎳層易泛玻璃溫度計，倒人鍍液，觀察溫度計，當板吸熱，液溫黃。若不慎將亞硫酸氫鈉加入過量，可再試加下降到欲試驗溫度時，放入試片，立即開電，迅速調02mLL一05mLL雙氧水，加溫攪拌15min以上，電流至5A或10A開鍍。取出試片后沖洗干凈，觀再試。察并記錄光亮鉻層范圍。363 鉻酸根42 硫酸根含量調整亮鎳槽離鉻槽太近，因

22、鉻霧可能引入CrO4 ，若試片光亮范圍窄(例如赫爾槽10A lmin小于少數(shù)情況下掛具可引入，筆者也經歷過向亮鎳液中5cm)，低區(qū)又無黃膜，可能so4 一過多。(一般采用加入鍍鉻液的惡性事故。鍍液回收措施時，so4 一含量有增加趨勢)。此時試赫爾槽2A靜鍍3min，若采用十二烷基硫酸鈉加碳酸鋇沉淀過多的so4 ，至低區(qū)剛無黃膜。若作潤濕劑，可見產生氣泡異常增多(鉻酸根使陰極電光亮范圍明顯加寬，則證明so4 過多。按試驗量流效率大大下降)，鍍層發(fā)灰(硝酸根不會使鍍層發(fā)的23加入大槽。注意不可一次加碳酸鋇到位，因灰)。銅試片lA攪拌鍍3min，低區(qū)嚴重漏鍍，則很當時生成部分鉻酸鋇沉淀，過一夜，鉻酸

23、鋇會轉化為可能為鉻酸根污染。溶度積更小的硫酸鋇，so 一又會偏少(最佳分散能此時可試加保險粉(連二亞硫酸鈉)溶液，加熱、力的硫鉻比并非100：1而是155：1)攪拌、過濾后再按上法試驗。若T7l(上升，低區(qū)漏鍍43 鉻酐含量判定減少，則C 一污染無疑。徹底去除C ，要加簡單方法測鍍液波美度，查表，大致判定鉻酐含過量保險粉，而其過量后，鍍層低D 區(qū)又可能發(fā)量。赫爾槽試驗時若高端燒灰而光亮范圍又窄，槽灰、發(fā)霧。此時可試加較大量雙氧水，加溫到55電壓高，則鉻酐過少，可補加213。gL再在同樣溫度下一65 ，攪拌20min以上，氧化保險粉，再試，直到鍍試，至高端不燒灰，光亮范圍足夠寬。層正常(同時要調

24、整光亮劑)。在鍍鉻時，鉻酐的絕對含量允許范圍很寬，可從4 鍍鉻50 L一600gL，更重要的是硫鉻比、雜質含量、液溫鍍鉻用添加劑林林總總，不好一概而論。此處與陰極電流密度的交互影響。僅就普通鍍鉻如何用赫爾槽試驗將光亮范圍調至最44 三價鉻的判定寬(可達75era一80era)，以滿足復雜件裝飾性套鉻在含鉻酐220gL一250gL又無添加劑的普通談一些體會。鍍鉻液中，三價鉻以3gL一4gL為宜。過多，光亮41 鍍鉻赫爾槽試驗的特殊要求范圍窄；過少，低D 區(qū)易起彩膜。對鍍鉻液作赫爾槽試驗，比一般鍍種要求高。當試片低區(qū)隔無鉻層幾毫米外有帶彩的黃膜411 試驗電源(硫酸少時產生的黃膜是緊靠鉻層的)時，

25、則可能三必須采用低紋波輸出的5A或10A小電源。單價鉻過少，此時可滴加雙氧水再試，使剛無彩膜。生相全波整流加電容濾波尚達不到波形要求?？捎卯a中最好加草酸還原六價鉻，但草酸反應速度慢。VMOS管作控制的恒流電源或具有穩(wěn)流功能的小型當采用含錫量達20左右的鉛錫陽極時，若陽極總高頻開關電源。若為普通單相橋式或全波整流小電表面又足夠大，三價鉻有減少的趨勢。三價鉻過少，源，應另串接電感量和電容量足夠大的兀型濾波器，鍍液色澤為透明度好的棕紅色；含量適當時，應略帶將直流紋波系數(shù)降至5以上。否則試驗結果對生黑色。有經驗時，根據鍍液顏色，大致判定c 的產無指導意義。多寡。412 試片低濃度鍍鉻、稀土鍍鉻時，應視

26、三價鉻為有害雜試片上應是保證處于活化狀態(tài)的亮鎳層。最好質，其含量越低越好。是新鍍亮鎳層的試片并存放在稀硫酸中，試驗前清生產中控制CI3 可采用含錫20 和7 一8洗，再用很細的水砂紙輕輕打磨后，洗凈表面，立即兩種組分的鉛錫陽極，調整其比例，以基本穩(wěn)定鍍鉻。CI3 。CI3 少了好辦，而過多時要減少，則較麻煩。原因是鈍化了的鎳層上鍍鉻時光亮范圍窄，易45 效果起黃膜。而現(xiàn)代鍍鎳光亮劑中含硫組分多，鎳層易在含鉻酐220gL一250gL而不含氟化物、添加鈍化。鈍化程度不同，鉻層光亮范圍也不一樣，試驗劑的普通鍍鉻中，若經過赫爾槽試驗對鍍液進行精結果誤差大，重現(xiàn)性不好。心調整，在36cI=左右鍍裝飾鉻時

27、，光亮范圍可達最佳辦法是鍍亮鎳后在含氯化鎳和鹽酸的閃鍍70ram 一85mm。鎳中閃鍍20余秒，再鍍鉻。在鍍亮鎳后再閃鍍鎳2O余秒，在極薄的純鎳層413 試驗方法上套鉻能對復雜件實現(xiàn)低溫鍍鉻(現(xiàn)代亮鎳添加劑5A電源取鍍鉻液125mL，10A電源取250mL，陽中含硫中間體組分多，亮鎳層易鈍化，而在鈍化的鎳極最好為含錫18 一20的薄鉛錫板，開5A或10A層上套鉻，一是易起黃膜，二是光亮范圍窄)。電流鍍lmin。低溫套鉻，節(jié)電近二分之一，且基本不產生鉻接好電源，夾好試片和陽極，鍍鉻液先用燒杯加霧，有利于清潔生產。此法已在大生產中應用了幾年。于1cm，則可能氯化鉀少，逐次補加氯化鉀，使無鍍5 氯化

28、鉀型微酸性鍍鋅層區(qū)達最小。深鍍能力良好的鍍液，可以做到低區(qū)5I 鋅含量判定全有彩色鈍化層。由于氯化鉀鍍鋅液中無強絡合劑，鍍液先天不54 光亮劑足之一是分散能力與深度能力均不良好，液溫高時光亮劑過少，鍍層亮度差；光亮劑過多，燒焦區(qū)更差，不如鋅酸鹽鍍鋅，更不如氰化物鍍鋅。有人在寬，鍍層發(fā)脆，耐蝕性更差，蘭白鈍化層易泛黃、泛鍍液中加入氯化銨來加以改進，筆者認為是不可取彩，低鉻彩鈍易脫膜，色彩變淡更快，故應少加勤加。的，其原因主要有二：將鍍液pH值調至約4。0，若鍍液發(fā)渾、發(fā)白，甚至有(1)由于NH4 會絡合溶解鋅，促進鋅陽極溶解，油狀物析出，肯定光亮劑過多或質量不良。過多的特別在液溫高時，鋅含量增加

29、很快。鋅高了，濃差極光亮劑是難以用活性碳吸附去除的?；瘻p小，分散能力與深鍍能力又會下降，而靠減少鋅市售氯化鉀鍍鋅光亮劑林林總總，但質量相差陽極來對付，電源分布更不均勻。以前在搞銨鹽鍍甚大，有的冬天好用夏天則不好用，有的易起條紋，鋅時，就為此而很頭痛；有的鍍層易發(fā)黃，這與載體質量、芐叉丙酮質量、輔(2)廢水中氨氮難以處理，其排放標準為助光亮劑的選擇與配比等諸多因素有關。采用鄰氯15mgL，很易超標。苯甲醛作主光亮劑，起光速度快，用于鍍白鋅尚可，實踐證明，在氯化鉀鍍鋅時，必須保持足夠的濃而彩鈍膜的附著力非常差。故應通過認真比較、篩差極化，故主鹽濃度不能高，特別是滾鍍。選來確定。赫爾槽2A靜鍍3mi

30、n，在pH值正常時，掛鍍以赫爾槽15A靜鍍5min，若高中DK區(qū)亮度不燒焦lcm一15cm為宜，滾鍍則應有2cm一3cm。燒足，補加補充劑(B劑或光亮劑)3mLL一5mLL，若焦區(qū)過窄，則鋅含量過高。此時應檢查造成鋅高的光亮性明顯提高，則B劑過少，試驗確定補加量。原因，針對問題加以解決(如鋅陽極質量不良，平時若高中DK區(qū)亮度正常，低DK區(qū)亮度差甚至灰霧，pH值控制過低，鍍前酸洗后清洗不良而帶人過多適當調高pH值，再補加硼酸及氯化鉀后均不理想，酸，一次誤加氯化鋅過多，長期停用未出取鋅板等)。試加開缸劑(A劑或柔軟劑)4mET,一5rnLL再試，若鋅過多時，一是稀釋鍍液補加其它材料，二是可明顯改善

31、，則確定最佳加入量，生產中A劑與B劑試驗在強烈攪拌下慢慢加入適量硫化鈉稀溶液，沉應按摸索出的補加比例同時添加。淀部分鋅離子。燒焦區(qū)過寬，先查pH值是否過高55 深度能力的改進(最佳為50 52)。若pH調正常后還不行，可適任何光亮劑都做不到按配方比例同步消耗，總當補加氯化鋅，平時應及時檢查鋅陽極是否已過短、會有比例失調的現(xiàn)象。生產量較大的廠點應備有常過小，并應保持足夠大的陽極面積。用的組分材料供自行調整用。52 硼酸判定氯化物鍍鋅光亮劑分為載體光亮劑、主光亮劑、硼酸在鍍液中不僅起pH緩沖作用，對細化鍍輔助光亮劑三大類組分。載體光亮劑既要求對芐叉層結晶、提高鍍層光亮性和光亮范圍也有很大作用。丙酮

32、的增溶性好(即同樣體積載體中允許溶人的芐實際使用時應根據液溫，維持在接近飽和的狀態(tài)。叉丙酮多而冷卻后不易結晶析出)，又要求高溫特性521 冷凍法好，本身在陰極上的吸附特性好。主光劑對高中D取鍍液放在冰箱中冷卻至5cI=一8cI=，應有較多區(qū)亮度影響大，輔助光亮劑主要能擴展低D 區(qū)光結晶析出，否則在室溫下硼酸過少，至少應補加5gL亮范圍、提高分散能力。一10gLo實踐證明，主光亮劑用芐叉丙酮(特別是質量不522 赫爾槽試片上的反映良時)，鍍層易產生灰霧狀；鄰氯苯甲醛亮度好，但彩1A靜鍍5min，逐漸分次補加硼酸，若光亮性明鈍層附著力差。擴散劑NNO能提高分散能力，但降顯提高，光亮范圍明顯加寬，則

33、硼酸過少，再精細試低陰極電流效率(鍍時析氫加劇)。驗應補加的硼酸量。苯甲酸鈉和煙酸可提高電流效率，細化結晶，但53 氯化鉀的判定降低分散能力(用赫爾槽試片三點法進行過多次測主要作為導電鹽的氯化鉀，其加入量應適當。試)。適量的煙酸對提高深度能力有好處，但過多，含量恰當時，鍍液電導率最佳；過多或過少，都會降反而對低DK不利。低電導率，從而使分散能力、深鍍能力下降；太多時，赫爾槽小電流試驗，分別補加不同組分，可將深添加劑還可能因鹽析現(xiàn)象而呈油狀物析出。度能力調至最佳狀態(tài)。赫爾槽05A靜鍍5min，若低區(qū)鍍層光亮性差，試驗及大生產應用證明，少量味精能提高深鍍補加4mLL一5mLL開缸劑(A劑)或柔軟劑

34、，改善能力，但長期加入后效果不再明顯。加入0。05gL不大，試加氯化鉀1OgL一20gL，若光亮性提高，則1，4一丁炔二醇，則能明顯提高深鍍能力和低DK區(qū)氯化鉀少。鍍層光亮性，比加味精好。赫爾槽03A靜鍍3min，在pH值為152。0的5。6 鐵雜質的判斷低鉻彩鈍液中鈍化2O秒，吹干，若低區(qū)無鍍層區(qū)寬赫爾槽1。5A鍍5rnin，清洗后用2左右硝酸出光，高中DK區(qū)鍍層發(fā)暗、發(fā)烏甚至發(fā)黑，則鍍層中此時應減少鋅陽極，增加鐵陽極。若苛性鈉含量低鐵雜質夾附過多。時，可補加苛性鈉，增大鋅堿比a。除鐵時用雙氧水氧化二價鐵易生成膠態(tài)氫氧化622 苛性鈉調整鐵，不易沉淀過濾。加高錳酸鉀氧化幾分鐘后再加苛性鈉因帶

35、出及與空氣中的二氧化碳反應會部鋅粉，則易生成絮狀氫氧化鐵沉淀。分轉化為碳酸鈉，減少趨勢比較明顯，應及時調整補過量的高錳酸鉀有害，鍍液靜置過濾后應通過充。赫爾槽05A靜鍍5min，試片清洗后在不大于認真試驗，再補加少量雙氧水以還原殘存的KMn04。2的稀硝酸中出光中和3s一5s，清洗后于pH值約但雙氧水亦不可多加，因為任何氧化性雜質對鍍液15的低鉻彩鈍液中鈍化約20s，清洗后吹干，應不都有害。露底。若露底寬于5mm，則逐漸補加苛性鈉，至露底6 鋅酸鹽鍍鋅最少。氯化鉀鍍鋅使用2O余年，也暴露出不少問題。63 深鍍能力的提高基于對氰化物電鍍的嚴格控制，鋅酸鹽鍍鋅的長足試用過一些“二合一”光亮劑，發(fā)現(xiàn)深鍍能力不進步，對鋅鍍層防蝕力、鈍化層抗變色力(特別是彩理想。一是光亮劑問題，估計分子量不夠大；二是多鈍)及鹽霧試驗要求嚴的鍍鋅產品(如出口件、汽摩數(shù)電鍍廠點不能保證良好的水質。按622試驗方零件)，近年來用戶指明不要氯化鉀鍍鋅的越來越法，發(fā)現(xiàn)：多，鋅酸鹽鍍鋅又有較