類質(zhì)譜儀結(jié)構(gòu)與原理簡介

1、Thermo FisherS C I E N T I F I CThe World Leader in Serving ScienceLTQ Orbitrap質(zhì)譜儀結(jié)構(gòu)與原理簡介 主要內(nèi)容一質(zhì)譜理論簡介1.常規(guī)生物質(zhì)譜理論簡介2.LTQ Orbitrap硬件簡介二日常優(yōu)化維護(hù)內(nèi)容1.日周月的維護(hù)2.常規(guī)維護(hù)操作3.調(diào)諧校正三問題一、質(zhì)譜理論簡介1.常規(guī)生物質(zhì)譜理論簡介HPLCSourceIon OpticsDetectorData Processing分離樣品產(chǎn)生離子離子傳輸離子檢測數(shù)據(jù)處理LTQ Orbitrap質(zhì)譜和硬件簡介LTQ Obitrap Elite ETDLTQ Obitrap

2、Elite ETD硬件構(gòu)造圖Source霧化氣是N2Ion opticsIon Trap碰撞氣是He2ETD Source載氣是N2Orbirap C Trap HCD 碰撞氣是N2Ion Max SourceAPI 包含 Interchangeable probesIon Sweep technology for greater robustness ESIAPCI(現(xiàn)有新版)HESI II ProbeIon Max HousingNano Flex Ion SourceIon Optics之 API Stack 組成Heated ion transfer tube in-place加熱的離

3、子傳輸管加RF的S Lens（18片）Exit LensAPI Stack 實(shí)物Capillary/Ion Transfer TubeMetal BallS-LensExit-LensAPI Stack結(jié)構(gòu)圖？Inject Flatpole(front view)固定Inject Flatpole和interflatpole lens的架子interflatpole lens位于Inject Flatpole后面Orbitrap的原理 D30 OB, OB XL, OB Velos, OB Velos Pro Q E D20 OB Elitez/mkK是儀器常數(shù)，測得頻率，就可以知道m(xù)/zLT

4、Q Obitrap Elite ETD硬件構(gòu)造圖Ion opticsIon Optics for LTQ Velos ProLTQ Obitrap Elite ETD硬件構(gòu)造圖Ion Trap碰撞氣是He2Liner Ion Trap for LTQ XLLTQ Obitrap Elite ETD硬件構(gòu)造圖 C TrapC-Trap for LTQ OB XLC-TrapHCDC-Trap for LTQ OB XL主要內(nèi)容一質(zhì)譜理論簡介1.常規(guī)生物質(zhì)譜理論簡介2.Orbi類質(zhì)譜和硬件簡介二日常優(yōu)化維護(hù)內(nèi)容1.日周月的維護(hù)2.常規(guī)維護(hù)操作3.調(diào)諧校正三問題每天要做的檢查和維護(hù)1. 檢查實(shí)驗(yàn)室的

5、溫度 (18-22) 和相對(duì) 濕度 (40 60 %).、2. 檢查真空度 離子傳輸管沒有堵時(shí)， Fore Vacuum的值為1-2mbar* 3. 檢查氮?dú)獾膲毫?.每天實(shí)驗(yàn)完成后，沖洗HPLC和離子源（對(duì)于大源而言）每周要做的維護(hù)1.檢查機(jī)械泵的油量.必要時(shí)添加或者更換機(jī)械泵油（換油需放空儀器）.2.對(duì)機(jī)械泵做震氣：將Ballast旋鈕旋至open位置，然后在機(jī)械泵保持運(yùn)行狀態(tài)下15分鐘(此操作稱之為“震氣氣”) ，15分鐘后擰緊ballast旋鈕至close位置3.清洗清洗離子傳輸管4.對(duì)質(zhì)譜校正對(duì)質(zhì)譜校正Mass Calibration（pos & neg)；check不不過則

6、校正之。過則校正之。 每個(gè)月到季度要做的維護(hù)檢查氣體的余量氣體的余量，必要時(shí)更換. 更換時(shí)注意要擦干凈接頭，同時(shí)用氣體吹干凈接頭。檢查風(fēng)扇空氣濾網(wǎng)，必要時(shí)清洗，臟的過濾網(wǎng)會(huì)引起冷卻效果不佳而造成儀器損壞。 關(guān)機(jī)更換機(jī)械泵油機(jī)械泵油：視情況而定，一般半年換一次油。用如果樣品量很大且溶劑流速很大，比如一天24小時(shí)運(yùn)行樣品，特別是APCI使用高流速頻率很高時(shí)可能每1-2月需要更換關(guān)機(jī)清關(guān)機(jī)清洗洗Tube Lens和和skimmer，視情況而定，一般1-2個(gè)月清洗一次。常規(guī)維護(hù)操作 開關(guān)機(jī) 機(jī)械泵震氣 更換清洗Capillary（Ion Transfer Tube）（不用停機(jī)） 清洗Tube Lens

7、/skimmer（要停機(jī)）關(guān)機(jī)流程 關(guān)機(jī)順序： 停HPLC（Nano的可以不停液相泵） 在軟件Tune中將儀器設(shè)置為Standby，并關(guān)閉軟件 關(guān)掉電子開關(guān)（Electronic Switch） 關(guān)掉電源開關(guān)，機(jī)械泵會(huì)停轉(zhuǎn) 至少過15min后，關(guān)掉N2的減壓閥（否則會(huì)漏掉N2），關(guān)機(jī)完成開機(jī)流程 開機(jī)順序 檢查氣體、機(jī)械泵油和電源連接；電子開關(guān)（ Electronics Switch）處在關(guān)閉狀態(tài) 打開電源開關(guān)，機(jī)械泵啟動(dòng)，用墊片或電暈針堵Capillary 抽真空2h后，開電子開關(guān)（Electronic Switch） 打開電腦，打開Tune軟件，儀器和軟件建立連接 *1 設(shè)置Bake ou

8、t時(shí)間，一般10-12h，開始Bake out 烘烤完后自動(dòng)切換到待機(jī)狀態(tài) Bake Out后cooling 3h，F(xiàn)T Pening Guage讀數(shù)接近或小于5E-10mbar Check或者Calibrate儀器 通過Check或者Calibration后，儀器可以使用*1如果無法建立連接，參見通訊故障排查可拆除的離子傳輸管常規(guī)維護(hù)操作-不停真空更換離子傳輸管取離子傳輸管的工具離子傳輸管加熱的離子傳輸管在原地位置，小球在離子傳輸管上方 加熱的傳輸管移動(dòng)金屬球落下堵住真空鎖定裝置的結(jié)構(gòu)圖儀器維護(hù)：更換并清洗Capillary（離子傳輸管）1、在Tune里，將Source中的Capillary

9、 Temp設(shè)置為100，等待降溫 取離子傳輸管之前，其溫度至少要降到150度以下，否則有可能會(huì)損壞離子傳輸管2、拆下離子源；拆下Sweep Cone（如果有裝的話）3、用專用的工具將Capillary逆時(shí)針擰松，水平拔出來。4、用專用的通針，通一下離子傳輸管內(nèi)部5、把Capillary放在干凈的燒杯里，分別用50%甲醇水、甲醇各超聲15min6、用鑷子取出Capillary，用干凈N2吹干備用。一、拆洗Capillary（帶無粉橡膠手套來操作）二、裝Capillary（帶無粉橡膠手套來操作）1、水平方向頂著Capillary并稍微轉(zhuǎn)動(dòng)，會(huì)頂起Metal Ball2、Capillary頂進(jìn)去后，

10、用專用工具順時(shí)間旋轉(zhuǎn)緊即可*拆Capillary時(shí)，注意石墨密封圈不要掉了。如果石墨密封圈容易掉，可以先放在一旁，將Capillary裝回去之前向?qū)⑹芊馊Ψ呕氐讲壑小?建議兩根Capillary輪流用，可以節(jié)省維護(hù)時(shí)間。儀器維護(hù)：API Stack的清洗 對(duì)于Q-Exactive，建議每2個(gè)月或根據(jù)需要清洗API Stack中的S Lens和Exit Lens 清洗清洗S-Lens/Exit Lens1.整個(gè)操作務(wù)必戴無粉手套。整個(gè)操作務(wù)必戴無粉手套。2.用蘸潤色譜純甲醇的無塵紙盡量地將用蘸潤色譜純甲醇的無塵紙盡量地將S-Lens和和Exit Lens擦干凈。因?yàn)椴粮蓛?。因?yàn)镾-Lens呈

11、呈疊片結(jié)構(gòu)，可用無塵紙包在一個(gè)扁平狀的工具上（比方削平的棉花棒）然后疊片結(jié)構(gòu)，可用無塵紙包在一個(gè)扁平狀的工具上（比方削平的棉花棒）然后蘸潤色譜純甲醇對(duì)蘸潤色譜純甲醇對(duì)S-Lens逐片擦蹭干凈。逐片擦蹭干凈。3.同時(shí)要注意對(duì)同時(shí)要注意對(duì)S-Lens和和Exit Lens的孔的內(nèi)部的清洗。的孔的內(nèi)部的清洗。4. 擦拭完畢后，將擦拭完畢后，將S-Lens和和Exit Lens放入干凈燒杯中用依次放入干凈燒杯中用依次50%甲醇和甲醇各超甲醇和甲醇各超聲清洗聲清洗15分鐘。之后換純甲醇再超聲分鐘。之后換純甲醇再超聲15分鐘。分鐘。5.將將S-Lens和和Exit Lens取出并用氮?dú)獯蹈?。取出并用氮?dú)獯?/p>

12、干。調(diào)諧 和 校正(Tune vs Calibration)的區(qū)別 Tune（調(diào)諧）和Calibration（校正）的區(qū)別 Tune主要是通過優(yōu)化Source和部分ion optic的參數(shù)，讓（待測）離子的響應(yīng)更高。 Tune file(.mstune) 里保存了Source和靠前的部分Ion Optics的參數(shù)，不同類型的離子源的參數(shù)是會(huì)不同的。 不同實(shí)驗(yàn)、不同類型的源，需要調(diào)用不同的Tune file。 Calibration是校正Orbitrap的質(zhì)量軸，以及調(diào)節(jié)部分ion optic元件的離子傳輸?shù)膮?shù)，以及四極桿的校正等。 校正文件C:XcalibursystemExactivein

13、strumentmsx_instrument_filesmater_cal.mscal Calibration文件保存了大多數(shù)ion optic元件的參數(shù)，是不依賴于離子源和實(shí)驗(yàn)類型的。不同實(shí)驗(yàn)、不同類型的源，采用相同的master文件的參數(shù)。 Calibration通過的項(xiàng)目參數(shù)自動(dòng)保存在master文件里，不通過的不保存。 開電子開關(guān)或reset質(zhì)譜后，質(zhì)譜自檢過程中會(huì)讀取master文件正離子校正液的特征峰信號(hào)不穩(wěn)時(shí)，需要通過調(diào)節(jié)修改離子源參數(shù)使其穩(wěn)定：Spray VoltageSheath GasAux GasSyringe Pump Flow Rate離子源的上下位置離子源的左右位置

14、（是否居中）其他因素：噴霧針是否堵塞;離子傳輸管臟了負(fù)離子校正液的特征峰Spray VoltageSheath GasAux GasSyringe Pump Flow Rate離子源的上下位置離子源的左右位置（是否居中）其他因素：噴霧針是否堵塞;離子傳輸管臟了信號(hào)不穩(wěn)時(shí)，需要通過調(diào)節(jié)修改離子源參數(shù)使其穩(wěn)定：主要內(nèi)容一質(zhì)譜理論簡介1.常規(guī)生物質(zhì)譜理論簡介2.Orbi類質(zhì)譜和硬件簡介二日常優(yōu)化維護(hù)內(nèi)容1.日周月的維護(hù)2.常規(guī)維護(hù)操作3.調(diào)諧校正三問題常見問題排查和服務(wù)流程 常見問題 通訊問題 校正不通過 信號(hào)下降通訊問題 儀器通訊鏈接圖 LTQ Orbitrap的數(shù)據(jù)精度高，掃描快，相同時(shí)間內(nèi)傳輸

15、的數(shù)據(jù)量很大，在長時(shí)間不間斷運(yùn)行的情況下，數(shù)據(jù)電腦或者路由器或者是儀器內(nèi)置電腦都有可能會(huì)出現(xiàn)通訊問題。 通訊問題常表現(xiàn)在為：儀器不受控、LED狀態(tài)指示不正確、數(shù)據(jù)電腦上的軟件不運(yùn)行或者運(yùn)行中出錯(cuò)、數(shù)據(jù)電腦死機(jī)等現(xiàn)象。路由器HPLCMSData system 如果出現(xiàn)通訊問題，一般可以通過以下步驟排除重啟軟件正常解決關(guān)掉軟件，重新配置正常重啟電腦，重新配置正常拔插網(wǎng)線正常Reset儀器正常重啟電子開關(guān)正常是是是是是是否否否否否報(bào)修是否 若電腦中病毒或者在電腦上安裝了殺毒軟件、更改電腦網(wǎng)卡IP地址等，也會(huì)出現(xiàn)通訊問題，所以不能在電腦上安裝殺毒軟件，不能改IP地址，不要隨意用不確定是否安全的移動(dòng)存儲(chǔ)設(shè)備校正不通過校正不通過，以以下三種情況最為常見。 噴霧不穩(wěn)定：TIC Variation10%。 解決方案：調(diào)節(jié)Source等參數(shù)，調(diào)節(jié)HESI Probe位置使之小于10% 校正液污染：校正液在正常情況下，應(yīng)該出現(xiàn)前述的分布，如果在特征峰附近出現(xiàn)一些比特征峰高的離子，校正液