場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電鏡能譜儀電子束背散射衍射儀配置及技術(shù)規(guī)格表_第1頁(yè)
場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電鏡能譜儀電子束背散射衍射儀配置及技術(shù)規(guī)格表_第2頁(yè)
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1、場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電鏡配置及技術(shù)規(guī)格表附件1 :貨物需求一覽表項(xiàng)目序號(hào)設(shè)備名稱數(shù)量交貨地點(diǎn)交貨期1場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電鏡1臺(tái)河南理工大學(xué) 指定地點(diǎn)按合同要求附件2:設(shè)備配置及技術(shù)規(guī)格表序 號(hào)設(shè)備名稱技術(shù)參數(shù)功能 要求數(shù) 量1場(chǎng)發(fā)射環(huán) 境掃描電鏡儀器設(shè)備的主要技術(shù)參數(shù)1主機(jī)1.1分辨率1) 高真空-30 kV 下不低于 1.0 nm (SE)30 kV 下不低于 2.5 nm (BSE)*-1 kV 下不低于 3.0 nm (SE)2) 低真空-30 kV 下不低于 1.4 nm (SE)30 kV 下不低于 2.5 nm (BSE)-3 kV 下不低于 3.0 nm (SE)3) 環(huán)境真空(ESEM)

2、 *-30 kV 下不低于 1.4 nm (SE)1.2放大倍數(shù)-高真空模式下:14-1,000,000,連續(xù)可調(diào) 放大倍數(shù)誤差:w 3%1.3電子光學(xué)占分辨肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,具有自動(dòng)對(duì)中和啟動(dòng)電 子槍功能;在顯示器中顯示全部發(fā)射器參數(shù)的狀態(tài)信息; 燈絲壽命優(yōu)于兩年。-加速電壓:200 V - 30 kV,連續(xù)可調(diào)-束流:最大200 nA并連續(xù)可調(diào)-成像模式:二次電子像與背散射電子像,兩者可以任 意比率混合,自動(dòng)調(diào)節(jié)和手動(dòng)調(diào)節(jié)亮度、對(duì)比度。1.4物鏡光闌-砌鏡光欄能自加熱自清潔;無(wú)需拆卸鏡筒即可更換物 鏡光闌;-光闌壽命優(yōu)于兩年。1.5樣品室可觀察和 檢測(cè)非均 相有機(jī)和 無(wú)機(jī)材料 樣品的表

3、面微觀形 貌觀察及 成分分析。它可以進(jìn) 行二次電 子形貌分 析和背散 射電子襯 度成像分 析。能譜分 析能夠?qū)?現(xiàn)點(diǎn)分析、 面分析、線 掃描和面 掃描,背散 射電子衍 射分析可 以進(jìn)行晶 體取向成 像、顯微織 構(gòu)、晶界等 分析。1臺(tái)-樣品臺(tái):4軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng),移動(dòng)范圍:X > 50mm;Y > 50mm; Z>50mm; T:-5+70 ° R=360 連續(xù)旋轉(zhuǎn)-樣品臺(tái)移動(dòng)重復(fù)精度:2um (X/Y方向)-樣品室尺寸:>250mm;兼容性高,預(yù)留EDS、EBSD、 波譜儀以及其他標(biāo)準(zhǔn)擴(kuò)展接口。1.6檢測(cè)器-高真空模式,E-T二次電子探頭;-氐真空模式,大視場(chǎng)低真空

4、氣體二次電子探頭 (LFD)-環(huán)境真空下模式,氣體二次電子探頭(GSED)-高靈敏度,低電壓固體背散射電子檢測(cè)器-樣品室紅外CCD相機(jī)1.7圖像處理器-圖像處理:最大4096 X 3536像素-圖像文件格式:TIFF(8位或16位),BMP或JPEG-單窗口或四窗口圖像顯示,四活動(dòng)窗口,實(shí)時(shí)或靜態(tài) 按彩色或按灰度等級(jí)信號(hào)混合。-56幀平均或積分,數(shù)字動(dòng)畫記錄-基于以太網(wǎng)架構(gòu)的數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng);-十ntel雙核控制和操作計(jì)算機(jī)系統(tǒng), Windows 7操作系 統(tǒng);中央處理器:CPU: Intel酷睿i7 4.0GHz。內(nèi)存:4G; 獨(dú)立顯卡,2G顯存;界接口 :串行、并行、SCSI、USB 3.0

5、接口、網(wǎng)絡(luò);硬盤1 TB; DVD刻錄;瑕件平臺(tái)適用于Windows7操作系統(tǒng)-顯示器:24寸LCD顯示器1.8真空系統(tǒng)渦輪分子泵2501/sec和2個(gè)離子泵,兩個(gè)無(wú)油機(jī)械泵;-“穿過(guò)透鏡”的壓差真空系統(tǒng),低真空模式下抽氣區(qū) 域不少于3個(gè);-樣品室真空度:?jiǎn)J真空模式下v 6X 104Pa,低真空模 式下v 10130Pa,環(huán)境真空模式下v 104000Pa1.9冷卻系統(tǒng)-配有循環(huán)水冷卻器1.10其他配件或易損件-沼己置相關(guān)配件或易損件(備用燈絲+光闌3套)。2附件2.1 X射線能譜儀(EDS)1)探測(cè)器-探頭類型:電制冷硅漂移(SDD)探測(cè)器,采用場(chǎng)效 應(yīng)管(FET)集成設(shè)計(jì)的高速SDD芯片,

6、有效探測(cè)器面積2> 30mm-能量分辨率:在100,000CPS條件下Mn Ka保證優(yōu)于 129eV,輕元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV- 單一處理單元能同時(shí)支持兩個(gè)及多個(gè)探測(cè)器-測(cè)定元素范圍:4號(hào)元素硼B(yǎng)e到95號(hào)元素镅Am-峰背比優(yōu)于20000:1,譜峰穩(wěn)定性:1,000cps到 100,000cps Mn Ka峰譜峰漂移小于1eV, 48小時(shí)內(nèi)峰位漂 移小于1.5eV2)能譜儀及圖像系統(tǒng)-能譜儀處理單元與計(jì)算機(jī)采用分立式設(shè)計(jì),完整的能 譜定性定量系統(tǒng),帶圖像系統(tǒng),能進(jìn)行線面掃描;-電子數(shù)字圖像最大清晰度:8192X 6400;-全譜智能面分布圖清晰度4096*409

7、6,單探測(cè)器輸出最 大計(jì)數(shù)率大于600,000CPS,可處理最大計(jì)數(shù)率大于 1,500,000CPS3)智能化能譜分析平臺(tái)- 一體化集成用戶界面,所有應(yīng)用軟件在同一個(gè)平臺(tái)上 打開(kāi),支持用戶自定義模式及賬戶管理,支持中、英文等 多種操作界面。-處性分析:可自動(dòng)標(biāo)識(shí)譜峰,可設(shè)定自動(dòng)標(biāo)定的元素 范圍,可進(jìn)行譜重構(gòu),對(duì)重疊峰進(jìn)行可視化譜峰剝離。疋量分析:可對(duì)拋光表面或粗糙表面疋量分析。采用 定量修正技術(shù),可對(duì)傾斜樣品進(jìn)行修正,并增強(qiáng)對(duì)輕元素 的修正;具備有標(biāo)樣疋量分析及無(wú)標(biāo)樣疋量分析方法。4)計(jì)算機(jī)及其附件部分-計(jì)算機(jī)工作站,EDS與EBSD共用高級(jí)工作站系統(tǒng), In tel Xeo n E5-260

8、9 (3.10 GH z, 6 MB cache, 4 cores 處理器, Windows 7 64-bit 操作系統(tǒng),16 GB 內(nèi)存,1 TB 硬盤,SATA SuperMulti DVD 讀寫光驅(qū),24” T FT-LCD Monitor , Microsoft Office 2010辦公軟件(最低配置);-H網(wǎng)絡(luò)打印機(jī):最大打印幅面:A4;打印速度:A4 : 達(dá)到14ppm;最高分辨率:600x 600dpi;耗材類型:鼓粉 一體;硒鼓壽命:2000頁(yè);首頁(yè)打印時(shí)間:小于10秒;月 打印負(fù)荷:達(dá)到5000頁(yè);進(jìn)紙盒容量:150頁(yè)手動(dòng)進(jìn)紙器; 內(nèi)存:2MB。2.2電子束背散射衍射儀(E

9、BSD)系統(tǒng)(可與 EDS實(shí)現(xiàn) 一體化)1) EBSD探測(cè)器-BSD探頭,適用于場(chǎng)發(fā)射電鏡的高速EBSD探測(cè)器, 能與EDS硬件同時(shí)使用,高端的高靈敏度 CCD相機(jī),加 速電壓大于3 kV,及束流大于500 pA時(shí),可以米集到明顯 的衍射花樣。30X25mm矩形熒光屏;花樣像素分辨率: 640X480X2位;花樣采集速度:920花樣/秒 8X8binning, 630 花樣/秒 4X 4binning;-BSD與EDS形成一體化系統(tǒng),使用單一軟件界面, 以便于材料的成分和晶體結(jié)構(gòu)分析;化樣米集速度930 patterns點(diǎn)/秒(8X8 binning);定成功率,任何掃描速度下,用以多晶鎳(N

10、i )為 標(biāo)樣,測(cè)量99%的標(biāo)定成功率;-諏向精準(zhǔn)度,任何掃描速度下,獲得優(yōu)于 0.3度的取 向精準(zhǔn)度,并可同時(shí)給出數(shù)據(jù)可用性的量化指標(biāo)。2)軟件、數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng)-數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng):配備足夠?qū)I(yè)的 EBSD數(shù)據(jù)庫(kù),包括 Bruker自有數(shù)據(jù)庫(kù)、ICSD數(shù)據(jù)庫(kù)(集成),并兼容所有主 要的第三方數(shù)據(jù)庫(kù)(ICDD、ICSD、AMCS、NIST等),支 持用戶自定義相數(shù)據(jù)庫(kù)等功能;-瑕件功能全面,用戶界面直觀易用、操作方便,至少 應(yīng)包含但不限于以下一些功能:無(wú)標(biāo)樣自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)、花 樣質(zhì)量分布圖、極圖和反極圖、取向分布圖、相圖與相鑒 定、數(shù)據(jù)的再處理;-與能譜聯(lián)合使用,具備圖像采集系統(tǒng):具有SEM成像功能,可支持

11、多種SEM圖像類型,圖片尺寸不低于4096 X 4096;具備EBSD花樣自由采集,無(wú)標(biāo)樣自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn) 功能,擁有極圖與反極圖,取向分布,相區(qū)分與鑒定,能 夠分析晶界織構(gòu),以及EDS和EBSD的同步分析,離線數(shù) 據(jù)再處理等軟件包;標(biāo)書需詳細(xì)提供產(chǎn)品功能的軟件特點(diǎn)。2.3場(chǎng)發(fā)射專用離子濺射儀(英國(guó),用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡樣 品制備,要求鍍層均勻,鍍層顆粒小,可進(jìn)行鍍金和鍍碳。) 大樣品直徑60mm,最大樣品高度20mm;-鍍金速率:35nm/Min ;-電壓0.4kV,最大濺射電流40mA,工作真空度7Pa;-項(xiàng)空泵抽率135L /Min。2.4 UPS電源(與電鏡配套使用的原裝進(jìn)口美國(guó)山特 UPS 電源,保證不

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