rena設(shè)備維護(hù)中文版

1、 RENA設(shè)備一般操作及個(gè)別配件保養(yǎng) 操作1.1.1設(shè)備指示燈及所代表的狀態(tài)顏色狀態(tài)信號(hào)聲音 表示紅色持續(xù)亮關(guān)提示有報(bào)警信息閃爍開(kāi)提示有不能刪除的報(bào)警（級(jí)別最高 ）黃色持續(xù)亮關(guān)手動(dòng)操作閃爍開(kāi)提示有報(bào)警信息綠色持續(xù)亮關(guān)自動(dòng)操作，生產(chǎn)中閃爍關(guān)初始化階段藍(lán)色持續(xù)亮關(guān)待機(jī)，上料臺(tái)沒(méi)片閃爍1.1.2 PC中顯示狀態(tài)及燈塔顏色初判報(bào)警級(jí)別燈塔報(bào)警顏色表示報(bào)警級(jí)別1.1.3 設(shè)備內(nèi)自設(shè)的權(quán)限這是設(shè)備內(nèi)部的所有的用戶名及密碼，級(jí)別由低到高1.1.4 用戶登錄點(diǎn)擊 login登陸界面出現(xiàn)輸入用戶名和密碼，點(diǎn)擊OK維修1.1更換及清洗濾芯更換清洗濾芯用于 刻蝕槽，酸槽，堿槽。1.1.1 準(zhǔn)備登入界面：輸入用戶名和

2、密碼將設(shè)備狀態(tài)打到manual模式1.1將界面切換到 manual functions點(diǎn)擊 drain先將TANK的藥液排空1.1同理 如果想更換哪個(gè)部分濾芯只要將該部分的補(bǔ)液灌也排空排空后用水槍多次沖洗，然后再點(diǎn)擊drain.排空沖洗槽子的水。1.1去設(shè)備后部 ，打開(kāi)防濺門水槍準(zhǔn)備好，有漏液要及時(shí)沖洗1.1帶好防護(hù)用具，按照?qǐng)D示將濾芯拆下 ，切記注意酸的濺漏。拆下濾芯清洗，或者更換新的濾芯，然后再裝回去1.2 更換風(fēng)刀的濾芯風(fēng)刀的濾芯是過(guò)濾車間的空氣，使得利用進(jìn)入風(fēng)刀的空氣潔凈，不影響硅片質(zhì)量，長(zhǎng)時(shí)間使用后要及時(shí)的清理或者更換濾芯。紅色標(biāo)注部分為空氣濾芯的位置將支撐桿拆下就可以將兩個(gè)濾芯拆下

3、清洗或者更換1.2同時(shí)，將藍(lán)色的海綿濾芯也要進(jìn)行清洗和更換1.3維修更換傳動(dòng)鏈有時(shí)候隨著設(shè)備的長(zhǎng)時(shí)間使用，傳動(dòng)鏈會(huì)有些松動(dòng)，這個(gè)時(shí)候就需要維護(hù)的時(shí)候查看，是否需要將它調(diào)節(jié)。1先將設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)必須切換到service模式，只有在此模式下，才能單獨(dú)讓滾輪轉(zhuǎn)起來(lái)同事要將上下料臺(tái)的齒輪保護(hù)蓋板拆下，將前面門板的上下料臺(tái)部分打開(kāi)，以便檢查上下料臺(tái)處2個(gè)電機(jī)的工作狀態(tài)。1.31。點(diǎn)擊transport2，點(diǎn)擊sequence show 點(diǎn)擊 start transport 讓滾輪轉(zhuǎn)3.當(dāng)鏈條的卡扣轉(zhuǎn)至上面時(shí)，點(diǎn)擊stop transport 讓滾輪停 1.35.拔掉電源6.松掉圖上所示的所有螺絲，這樣子就

4、可以使鏈條放松，然后可以通過(guò)調(diào)節(jié)卡扣的位置來(lái)調(diào)節(jié)鏈條的松緊度1.3.1 移除鏈條1.用螺絲刀把卡扣松掉2. 剔除鏈接片3.拔出多余鏈條1.3.14. 將多余的鏈接條去掉5.按照?qǐng)D示方法將調(diào)節(jié)好長(zhǎng)度的鏈條裝回去6.再將電機(jī)用螺絲調(diào)節(jié)好高度，和水平位置。固定，OK1.4 滾輪水平調(diào)整滾輪水平一般情況下，在初次調(diào)試后就不需要再次調(diào)試，但是根據(jù)實(shí)際情況需要調(diào)整時(shí)，必須先將要調(diào)試的槽體內(nèi)部用水沖洗干凈，然后才可調(diào)整。按如下位置調(diào)試，這樣可保證水平以相同的趨勢(shì)在變化，步驟如下：上料臺(tái) 工藝槽清洗1堿槽清洗2酸槽清洗3風(fēng)刀下料臺(tái)1.4上料臺(tái)滾輪離地面的高度為95厘米，特殊情況下為了匹配上下料臺(tái)可以適當(dāng)?shù)纳险{(diào)

5、2cm-4cm95cm1.4標(biāo)注過(guò)的螺母是調(diào)節(jié)滾輪水平的關(guān)鍵，調(diào)節(jié)時(shí)首先要適當(dāng)?shù)乃砷_(kāi)1.4用水平尺首先從上料臺(tái)開(kāi)始調(diào)起，首先單個(gè)滾輪開(kāi)始調(diào)1.4區(qū)域調(diào)節(jié)滾輪水平，要參考橫向和縱向的兩個(gè)位置1.4兩個(gè)部分的交界處可以用2片硅片比較著調(diào)節(jié)滾輪的高度，只要在不通區(qū)域內(nèi)的硅片能在同一水平面，就默認(rèn)為這兩部分的水平在一條水平面上。有時(shí)，胳臂地方需要用橡膠錘敲實(shí)，才能使得調(diào)好的水平之后沒(méi)有多大變化。主主標(biāo)標(biāo)導(dǎo)導(dǎo)航航欄欄工作界面工作界面任任務(wù)鍵務(wù)鍵主標(biāo)登入/登出最近報(bào)警信息/主菜單欄導(dǎo)航欄 子菜單的目錄進(jìn)入顯示，點(diǎn)擊show“任務(wù)鍵最近10個(gè)任務(wù)顯示快速顯示切換工作界面操作按鈕工作界面大體的界面信息REVI

6、S Training客客戶戶端端登登陸陸如果沒(méi)有用戶登陸點(diǎn)擊login按鍵輸入用戶名和密碼 登出登出點(diǎn)擊login，就會(huì)自動(dòng)登出所有的界面顯示將會(huì)關(guān)閉REVIS 軟軟件培件培訓(xùn)訓(xùn)Headline Login / Logout進(jìn)進(jìn)入常入常規(guī)顯規(guī)顯示示 報(bào)報(bào)警分警分類類當(dāng)前報(bào)警顯示歷史報(bào)警顯示文件文件種類種類歷史數(shù)據(jù)顯示登錄文件顯示報(bào)報(bào)告告種類種類報(bào)警報(bào)告顯示REVIS 系系統(tǒng)種類統(tǒng)種類用戶管理顯示REVIS TrainingHeadline Menu.“ buttonREVIS Training導(dǎo)導(dǎo)航航欄欄被被選選菜菜單單被被選選菜菜單單的子菜的子菜單單點(diǎn)點(diǎn)擊擊Show 鍵鍵打打開(kāi)屏顯開(kāi)屏顯示示

7、子菜子菜單內(nèi)單內(nèi)容容REVIS Training顯顯示示 舉舉例。例。設(shè)備顯示界面全貌:包括所有獨(dú)立的設(shè)備模塊顯示所有模塊的狀態(tài)和重要的參數(shù)顯示主要模塊的設(shè)置參數(shù)生產(chǎn)功能鍵(例如. 開(kāi)始生產(chǎn)，手動(dòng)模式，服務(wù)模式，開(kāi)門 關(guān)門等.)REVIS Training顯顯示示舉舉例例模模塊狀態(tài)塊狀態(tài): 顯示設(shè)備狀態(tài)顯示模塊狀態(tài) 每個(gè)單獨(dú)的模塊:生產(chǎn)模式(生產(chǎn),待機(jī) ，服務(wù)，手動(dòng)等）錯(cuò)誤狀態(tài)(已準(zhǔn)備, 未準(zhǔn)備好, .)生產(chǎn)狀態(tài)(空, 正在添加, 滿, .)很重要的生產(chǎn)實(shí)際值目前所用配方名稱REVIS Training顯顯示示舉舉例例手動(dòng)功能模塊:顯示動(dòng)態(tài)的流量圖顯示有效的手動(dòng)功能REVIS Training

8、顯顯示示舉舉例例模塊數(shù)字輸出:顯示通過(guò)遠(yuǎn)見(jiàn)設(shè)定的輸出值雙擊可設(shè)定輸出值REVIS Training任任務(wù)務(wù)管理菜管理菜單單工作框架按工作框架按鈕鈕任任務(wù)務(wù)按按鈕鈕REVIS Training任任務(wù)務(wù)管理菜管理菜單單關(guān)閉關(guān)閉所有任所有任務(wù)欄務(wù)欄全全屏屏狀態(tài)欄狀態(tài)欄置平置平狀態(tài)欄狀態(tài)欄垂直垂直REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù)歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)描述據(jù)描述:歷史數(shù)據(jù)顯示(按時(shí)間)曲線圖(器件的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)曲線)報(bào)告 (此刻的有效報(bào)警信息)分析 (實(shí)時(shí)記錄 計(jì)劃)歷史報(bào)警顯示操作操作:一些過(guò)濾后的選項(xiàng)(時(shí)間范圍, 值得設(shè)定, .)1. 以文件格式導(dǎo)出數(shù)據(jù)REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)

9、據(jù)顯顯示示怎樣怎樣操作操作:選擇你所感興趣的事件選擇有效的數(shù)據(jù)設(shè)定時(shí)間范圍點(diǎn)擊Refresh鍵刷新數(shù)據(jù)點(diǎn)擊Export“ 導(dǎo)出數(shù)據(jù)REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù)-曲曲線圖顯線圖顯示示怎樣怎樣操作操作:打開(kāi)相關(guān)元件的曲線標(biāo)簽設(shè)定時(shí)間范圍點(diǎn)擊Refresh“ 刷新能或者不能獲得曲線用坐標(biāo)尺查看實(shí)際數(shù)值點(diǎn)擊Export“ 導(dǎo)出數(shù)據(jù)點(diǎn)擊Screenshot“ 將數(shù)據(jù)存儲(chǔ)成為bmp文件 。REVIS Training歷歷史史數(shù)數(shù)據(jù)據(jù) 報(bào)警報(bào)告怎樣怎樣操作操作:從彈出菜單Menu.選擇顯示報(bào)警信息.設(shè)定時(shí)間范圍點(diǎn)擊Refresh“ 刷新數(shù)據(jù)，然后顯示選擇Alarm counts total“

10、 或者 Alarm counts per module“ 標(biāo)簽REVIS Training手手動(dòng)動(dòng)功能功能手手動(dòng)動(dòng)功能功能:只在手動(dòng)模式下有效在相關(guān)模塊的模塊下選擇manual functions子菜單。3. 所有功能鍵顯示在右方4. 如果一個(gè)功能正在操作，他的背景顏色為綠色流程圖查看功能的工作狀態(tài)5. 功能需要有效的PLC文件，而用戶則需要有效的權(quán)限REVIS Training手動(dòng)功能手動(dòng)功能工藝槽“Drain”Drain acid工藝槽正在排藥液REVIS Trainingservice 功能功能ATTENTION: low level functions with limited sec

11、urity validation machine can be damaged Service 功能功能: 只在service模式下有效 設(shè)定輸出值(從流程圖, 從IO顯示) 培訓(xùn)操作(具體的培訓(xùn)對(duì)話框) 校準(zhǔn) (各個(gè)元件的校準(zhǔn)按鈕)REVIS TrainingService 模式 設(shè)定輸出值IO 顯顯示示:點(diǎn)擊show 進(jìn)入模塊顯示從標(biāo)簽欄中選中IO output 進(jìn)入從菜單中雙擊輸出值在彈出對(duì)話框中設(shè)定新值1. 點(diǎn)擊OK“ 將新的值寫入PLC中REVIS TrainingService 模塊 校準(zhǔn)校準(zhǔn)校準(zhǔn):打開(kāi)元件菜單再點(diǎn)擊show1. 在右上角將會(huì)顯示有效的校準(zhǔn)功能鍵REVIS Trai

12、ning參數(shù)參數(shù)參數(shù)類參數(shù)類型型:設(shè)定參數(shù)(指定的 硬件參數(shù)設(shè)置)配方參數(shù)(指定的工藝參數(shù)設(shè)置)Knowhow 中被保護(hù)的參數(shù)(指定 RENA knowhow 設(shè)置)參數(shù)顯參數(shù)顯示示:每個(gè)模塊的每個(gè)類型顯示在一起參數(shù)是和配置文件profile 儲(chǔ)存在一起Profile 儲(chǔ)存REVIS Training參數(shù)參數(shù)屬屬性操作性操作:新建 刪除從數(shù)據(jù)庫(kù)加載Save to database寫入PLC從PLC加載Profilestore參數(shù)顯示加載保存PLC寫入加載.工藝階段1.1工藝校準(zhǔn)及裝機(jī)注意事項(xiàng) A.Niak上酸前注意事項(xiàng)；B.Niak第一次配液后注意事項(xiàng)；C.Niak培訓(xùn)；A.Niak上酸前注意

13、事項(xiàng)檢查滾輪安裝狀況（水平，位置，數(shù)量等）；檢查前后擋板的高度（主要影響刻蝕槽循環(huán)流量及刻蝕線的好壞）；檢查DI的噴淋狀況（Rinse1，Rinse2,及Rinse3）；排風(fēng)的調(diào)整，尤其是刻蝕的刻蝕槽排風(fēng)（對(duì)穩(wěn)定性要求較高）；水測(cè)即在機(jī)臺(tái)加水的前提下跑片看硅片在個(gè)槽體運(yùn)行狀況；配方設(shè)定；7. 檢查各槽的濾芯是否安裝；8. 初次配液校準(zhǔn)以及補(bǔ)液量的校準(zhǔn)（DI，HF，HNO3，HCL，KOH）；檢查滾輪水平（刻蝕的刻蝕槽水平尤其重要）刻蝕槽擋板的高度，保證藥液溢流；檢查滾輪安裝是否到位（下圖兩紅圈所示為調(diào)整水平螺絲，順時(shí)針調(diào)高）Niak刻蝕的刻蝕槽的相關(guān)參數(shù)設(shè)定（初次配液體積的設(shè)定）第一次給機(jī)臺(tái)加

14、液時(shí)確保各管路中的化學(xué)品正確；Niak 校準(zhǔn)方法：校準(zhǔn)方法：52Step1-排空上槽及下槽藥液2022-2-253Step2-將機(jī)臺(tái)切換至安全模式即service模式2022-2-254Step3-選擇一化學(xué)槽的某種化學(xué)品點(diǎn)擊Prepare get ref. volume 按鈕55Step4-拆開(kāi)補(bǔ)液閥的管路并連接另一根管路，用其他容器接住56Step5-點(diǎn)擊Get ref. volume button and measure the ref. volume57Step6-稱量容器中所接水的重量反復(fù)做3次，將最后所得平均值寫入配方58Step7-校正玩將機(jī)臺(tái)切換至手動(dòng)模式59Step8-繼續(xù)做

15、化學(xué)品校準(zhǔn)，點(diǎn)擊 Start calibration 按鈕60B.Niak第一次配液后注意事項(xiàng)；檢查補(bǔ)液量；試跑假片，檢查wafer在各槽體運(yùn)行狀況；生產(chǎn)經(jīng)擴(kuò)散后的片子，看刻蝕邊狀況；Niak 刻蝕槽各化學(xué)品補(bǔ)液量2.試跑假片，檢查wafer在各槽體運(yùn)行狀況3.生產(chǎn)經(jīng)擴(kuò)散后的片子，看刻蝕邊狀況1.各槽體作用basin制制絨絨 commentsremarks制絨槽&水洗1損傷層去除;使其呈金字塔結(jié)構(gòu)，增大Isc;HFHNO3堿槽&水洗 2去除多孔硅；酸堿中和;KOH酸槽&水洗 3去除表面SIO2; 斥水性;去除金屬離子;酸堿中和;HFHCl風(fēng)刀烘干NIAK產(chǎn)量計(jì)算a.Niak機(jī)臺(tái)簡(jiǎn)介； 以下為制

16、絨工藝流程及各槽主要參數(shù)范圍：制絨工藝介紹制絨工藝介紹b.Niak 各槽介紹及制絨原理； Process Bath（浸泡式）： 制絨槽主要有HF,HNO3及DI按一定比例混合而成，根據(jù)客戶需求，可雙面制絨（HF：HNO3=1:3/4）或單面制絨(HF:HNO3=1:7/9)； 制絨主要是去除硅片在切割過(guò)程中產(chǎn)生的損傷層以及其他雜質(zhì)（比如油污），在硅片表面形成高低不平的面即絨面，增加電池片的受光面積，減少反射，提高Isc，提高電池片的轉(zhuǎn)換效率，以下為制絨的反應(yīng)原理： HNO3 + SI = SIO2 + NOx + H2O；（NOx + H2O = HNO2）該反應(yīng)為中間反應(yīng)較快 HF + HF

17、 = SIF4 + H2O ； SIF4 + HF = H2SIF6；制絨工藝介紹制絨工藝介紹制絨槽主要工藝參數(shù): 配比 HF:HNO3 1:9 (55g/l:505g/l); 溫度 8-10 C； 腐蝕深度 3.6-4.8um (3.8-4.0um/side較好，各客戶根據(jù)自己需求有不同的腐蝕深度)； 流量 120-150l/min; 滾輪速度 1.8-2.2m/min;制絨工藝介紹制絨工藝介紹Rinse1（浸泡式）： 主要為DI water，Rinse3溢流，清洗出制絨槽硅片表面的殘酸及殘留雜質(zhì)； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Alkline Bath(噴淋式): KOH與水按一

18、定比例混合而成，中和制絨后表面殘留的殘酸； 工藝參數(shù)： KOH濃度 3%-8%； 溫度 10-25C； 流量 15-25l/min;Rinse2(噴淋式): 主要為DI water，清洗硅片表面殘堿或一些酸堿反應(yīng)產(chǎn)物； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min; 制絨工藝介紹制絨工藝介紹Acid Bath(浸泡式): 主要為HF，HCL及DI，HF和HCL按各自質(zhì)量百分比配液，其各自作用如下： HCL：中和殘留硅片表面殘留的堿液； 去除硅片在切割過(guò)程中引入的金屬雜質(zhì)；（HCL具有酸和絡(luò)合劑的雙重作 用，氯離子與金屬離子能生成溶于水的絡(luò)合物） HF：去除在清洗過(guò)程中形成的SIO2層，以便于脫水，因

19、SI的疏水性比SIO2強(qiáng)； 工藝參數(shù)： HF濃度 6%-10%； HCL濃度 8%-12%； 溫度 10-30 C； 流量 80-120l/min;Rinse3 （浸泡+噴淋）: DI water，清洗殘酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Dryer: 熱風(fēng)， 對(duì)硅片烘干，保證上風(fēng)刀的風(fēng)量比下風(fēng)道高10以上，防止硅片翹起導(dǎo)致破片； 工藝參數(shù)：溫度控制在45-60 C ，保證硅片能吹干； 制絨工藝介紹制絨工藝介紹 制絨工藝介紹制絨工藝介紹 c.常見(jiàn)異常問(wèn)題及處理：1.制絨后黑絲偏多或反射率偏低； 針對(duì)制絨后的黑絲或反射率問(wèn)題主要通過(guò)調(diào)整溶液的配比，根據(jù)HF和HNO3與硅的反應(yīng)特性（HF

20、縱向腐蝕，HNO3橫向腐蝕）調(diào)整；另外根據(jù)客戶對(duì)制絨后外觀的要求，在初始配液時(shí)需使用不同的配方如下： 2.制絨后斑點(diǎn)； 制絨后斑點(diǎn)主要有兩類黃色斑點(diǎn)或藍(lán)斑（化學(xué)液或水污染）和黑點(diǎn)（機(jī)臺(tái)本身的臟物所導(dǎo)致或水中雜質(zhì)）如下圖：黃斑或藍(lán)斑黃斑黑點(diǎn)黃斑或藍(lán)斑：a.確認(rèn)腐蝕量，確保wafer表面的臟污清洗干凈； b.調(diào)整堿槽與酸槽的濃度； c.更換Rinse的水； d.槽體清洗；（注：該類斑點(diǎn)在PE后易形成白點(diǎn)）黑點(diǎn)：a.確認(rèn)客戶DI是否干凈； b.槽體清洗；（注：該類斑點(diǎn)刻蝕能清洗掉，對(duì)外觀無(wú)影響） 制絨工藝介紹制絨工藝介紹d.注意事項(xiàng)： 1.機(jī)臺(tái)停機(jī)時(shí)間過(guò)久或剛換液后會(huì)出現(xiàn)減重偏低，需先跑假片或降低速

21、度生產(chǎn)，待藥液激活后可正常生產(chǎn)； 2.注意對(duì)堿槽的清洗，因其容易結(jié)晶； 3.若機(jī)臺(tái)出現(xiàn)疊片，需對(duì)下貨端滾輪擦拭，防止有化學(xué)液殘留導(dǎo)致硅片被污染； 4.若機(jī)臺(tái)需停機(jī)超2小時(shí)，請(qǐng)將藥液Drain到下槽； 制制絨絨工工藝藝介介紹紹刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹a.機(jī)臺(tái)簡(jiǎn)介： 以下為刻蝕機(jī)臺(tái)工藝流程及主要工藝參數(shù)控制范圍；b.Niak各槽介紹及刻蝕原理：Process Bath（水上漂）； 刻蝕槽主要有HF，HNO3，H2SO4及DI組成，刻蝕主要去除在擴(kuò)散過(guò)程中，硅片四周生成的一層PN結(jié)，若不去除邊緣PN結(jié)，電池片會(huì)因邊緣漏電而導(dǎo)致低效或報(bào)廢，以下為刻蝕槽的反應(yīng)原理（化學(xué)反應(yīng)較為復(fù)雜）： 刻蝕工藝介紹刻蝕

22、工藝介紹Si+2HNO3+6HF = H2SiF6+2HNO2+2H2O；3Si+4HNO3+18HF = 3H2SiF6+4NO+8H2O；3Si+2HNO3+18HF = 3H2SiF6+2NO+4H2O+3H2；5Si+6HNO3+30HF = 5H2SiF6+2NO2+4NO+10H2O+3H2；該反應(yīng)主要分以下兩步：1.硝酸/亞硝酸（HNO2）將硅氧化成二氧化硅（主要是亞硝酸將硅氧化）；2.二氧化硅和氫氟酸反應(yīng)（快反應(yīng)），生成四氟化硅和水（快反應(yīng)），四氟化硅又和水化合成氟硅酸進(jìn)入溶液；3.硫酸不參與反應(yīng)，僅僅是增加氫離子濃度，加快反應(yīng)，增加溶液黏度（增大溶液與PSG薄層間的界面張力）

23、和溶液密度；工藝參數(shù)： 配比 HF：HNO3 1:12 （30g/l:350g/l）; H2SO4 55L-70L; 溫度 6-10 C; 腐蝕深度 0.8-1.6um;（1.2um較佳，不同客戶腐蝕深度不同） 流量 20-35l/min; 滾輪速度 1.7-2.3m/min; 刻蝕槽補(bǔ)液量 HF與HNO3的補(bǔ)液量一般為1:3到1:5； 刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹Rinse1(浸泡式): DI water，為Rinse3溢流，清洗硅片上殘留的酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Alkline Bath(噴淋式): KOH按一定配比配液，一般在3%-8%，中和硅片殘留的酸及去除多孔硅；

24、工藝參數(shù)： KOH 濃度 3%-8%； 溫度 15-30 C； 流量 15-25l/min;Rinse2（浸泡式）： DI water，清洗硅片表面殘堿及其他雜質(zhì)（鹽）； 工藝參數(shù) ： 流量 40-60l/min；刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹Acid Bath（浸泡式）： 主要為HF按一定配比（8%-10%）配液，去除擴(kuò)散形成的PSG，增加硅片表面斥水性，便于脫水； 工藝參數(shù)： HF濃度 8%-10%； 溫度 15-35 C； 流量 80-120l/min;Rinse3 （浸泡+噴淋）: DI water，清洗殘酸； 工藝參數(shù)： 流量 40-60l/min;Dryer: 熱風(fēng)， 對(duì)硅片烘干，保證上風(fēng)刀的風(fēng)量比下風(fēng)道高10以上，防止硅片翹起導(dǎo)致破片； 工藝參數(shù)：溫度控制在45-60 C ，保證硅片能吹干； 刻蝕工藝介紹刻蝕工藝介紹c.刻蝕常見(jiàn)異常及處理：1.刻蝕線過(guò)寬；類一：各道之間如圖-檢查排擋板或滾輪水平是否有差異另：若H2SO4偏多，刻蝕線會(huì)很黑刻刻蝕蝕工工藝藝介介紹紹類二：類三：在wafer尾部出現(xiàn)四個(gè)點(diǎn)，該四個(gè)位置與蝕刻槽滾輪的o-ring吻合檢查滾輪水平和O-ring有無(wú)損壞在wafer尾部出現(xiàn)月牙狀如圖將出刻蝕槽口滾輪調(diào)高（浙江尚源）或調(diào)低后擋板刻刻蝕蝕工工藝藝介介紹紹類四：Wafer尾部發(fā)黑，但刻蝕線正?；瘜W(xué)液濃度偏高，可加水或減小排風(fēng)（