光電業(yè)空污管制法規(guī)

1、光電製造業(yè)空氣污染管制及排放標(biāo)準(zhǔn)草案 第一條本標(biāo)準(zhǔn)依空氣污染防制法第二十條第二項、第二十一條第二項、第三項及第二十三條第二項規(guī)定之。 第二條 本標(biāo)準(zhǔn)專有名詞及符號定義如下：一、光電製造業(yè)：指從事液晶顯示器製造，發(fā)光二極體（LED）之製造及封裝業(yè)者。二、液晶顯示器製造業(yè)：指從事液晶顯示器面板製造、彩色濾光片製造、液晶顯示器組裝、光罩製造等作業(yè)者。三、發(fā)光二極體製造作業(yè)：指將各種規(guī)格以鍺或鎵為主之晶圓生產(chǎn)各種用途之發(fā)光二極體之作業(yè)，包括經(jīng)由物理氣相沈積（Physical Vapor Deposition）、化學(xué)氣相沈積（Chemical Vapor Deposition）、光阻、微影（P

2、hotolithography）、蝕刻（Etching）、擴散、清洗等製程。四、發(fā)光二極體封裝作業(yè)：指將製造完成之各種用途之晶圓生產(chǎn)成為發(fā)光二極體產(chǎn)品之作業(yè)，包括經(jīng)由切割成片狀的晶粒（Dice），再經(jīng)焊接、電鍍、有機溶劑清洗和酸洗等製程。五、液晶顯示器面板製造作業(yè)：指將各種規(guī)格玻璃生產(chǎn)各種用途之液晶顯示器之作業(yè)，包括經(jīng)由物理氣相沈積（Physical Vapor Deposition）、化學(xué)氣相沈積（Chemical Vapor Deposition）、光阻、微影（Photolithography）、蝕刻（Etching）、擴散、清洗、配向（Rubbing）與點銀膠（Ag dispense）等

3、製程。六、彩色濾光片製造（color filter）作業(yè)：指將各種規(guī)格之玻璃生產(chǎn)各種用途之彩色濾光片之作業(yè)，包括經(jīng)由清洗（cleaning）、染料塗佈（spin coating）、烘烤（baking）、光阻、微影（Photolithography）、蝕刻（Etching）、氧化、配向（rubbing）與熱處理等製程。七、液晶顯示器組裝作業(yè)：指將各種用途之玻璃和彩色濾光片生產(chǎn)成為液晶顯示器產(chǎn)品之作業(yè)，包括經(jīng)由面板組立、液晶注入、偏光片貼附、實裝工程（cog）、有機溶劑清洗和酸洗等製程。八、光阻劑：指實施液晶顯示器製造之選擇蝕刻時，所需耐酸性之感光劑。九、光阻製程：指玻璃經(jīng)過光阻劑的塗佈、曝光、顯

4、像，使玻璃上形成各類型電路的製程。十、揮發(fā)性有機物（Volatile Organic Compounds, VOCS）：係指導(dǎo)致空氣污染之有機化合物成份之總稱。但不包括甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等。十一、密閉排氣系統(tǒng)（Closed Vent System）：係指可將設(shè)備或製程設(shè)備元件排出或逸散出之空氣污染物，捕集並輸送至污染防制設(shè)備，使傳送之氣體不直接與大氣接觸之系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括管線及連接裝置。十二、污染防制設(shè)備：係指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、鍋爐或加熱爐等密閉式焚化設(shè)施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、廢氣燃燒塔、生物處理設(shè)施或其它經(jīng)中央主管機關(guān)認(rèn)定者。十三、工廠

5、總排放量：係指同一廠場周界內(nèi)所有排放管道排放某單一空氣污染物之總和；單位為kg/hr。十四、污染防制設(shè)備削減量及排放削減率：計算公式如下。1. 污染防制設(shè)備削減量=E-Eo；單位為kg/hr。2. 排放削減率=（E-Eo）/E×100%；單位為%。E：經(jīng)密閉排氣系統(tǒng)進入污染防制設(shè)備前之氣狀污染物質(zhì)量流率，單位為kg/hr。Eo（排放量）：經(jīng)污染防制設(shè)備後逕排大氣之氣狀污染物質(zhì)量流率，單位為kg/hr。十五、潤濕因子：洗滌循環(huán)水量/（填充物比表面積×洗滌塔填充段水平截面積），單位為m2/hr。十六、洗滌循環(huán)水量：濕式洗滌設(shè)備內(nèi)部流過填充物之洗滌水體積流量，單位為m3/hr。十

6、七、填充物比表面積：濕式洗滌設(shè)備之填充物單位體積內(nèi)所能提供之氣液接觸面積，單位為m2/m3。十八、洗滌塔填充段水平截面積：濕式洗滌設(shè)備內(nèi)部裝載填充物部份之水平橫截面積，單位為m2。十九、流量計：任何可直接或間接測得廢氣排放體積流量之設(shè)施。二十、每季有效監(jiān)測率=（每季污染源操作日數(shù) - 每季污染源操作期間連續(xù)自動監(jiān)測器失效日數(shù)）/每季污染源操作日數(shù)。自動監(jiān)測器失效日係指當(dāng)日有效監(jiān)測時數(shù)不足16小時者，有效監(jiān)測時數(shù)內(nèi)，每15分鐘至少一筆監(jiān)測數(shù)據(jù)。第三條本標(biāo)準(zhǔn)適用於光電製造業(yè)。但原物料年用量小於下表所列者，不適用本標(biāo)準(zhǔn)對該物質(zhì)之相關(guān)規(guī)定。原物料年用量揮發(fā)性有機物 一、七公斤/年 硝酸三公斤/年硫酸三

7、公斤/年鹽酸三公斤/年磷酸三公斤/年氫氟酸三公斤/年第四條光電製造業(yè)產(chǎn)生之空氣污染物應(yīng)由密閉排氣系統(tǒng)導(dǎo)入污染防制設(shè)備，並處理至符合下表規(guī)定後始得排放?？諝馕廴疚锱欧艠?biāo)準(zhǔn)施行日期揮發(fā)性有機物各污染物排放削減率應(yīng)大於百分之七十或工廠總排放量應(yīng)小於六 kg/hr（以甲烷為計算基準(zhǔn)）。九十一年七月  排放削減率應(yīng)大於百分之九十或工廠總排放量應(yīng)小於六 kg/hr（以甲烷為計算基準(zhǔn)）。九十四年七月磷酸及氫氟酸各污染物排放削減率應(yīng)大於百分之八十或各污染物工廠總排放量應(yīng)小於一kg/hr。九十一年七月  各污染物排放削減率應(yīng)大於百分之九十或各污染物工廠總排放量應(yīng)小於一kg/hr。九十四年七月

8、硝酸、硫酸、鹽酸各污染物排放削減率應(yīng)大於百分之九十或各污染物工廠總排放量應(yīng)小於一kg/hr。九十一年七月  各污染物排放削減率應(yīng)大於百分之九十五或各污染物工廠總排放量應(yīng)小於一kg/hr。九十四年七月硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等之廢氣若以濕式洗滌設(shè)備處理，無法證明符合前項標(biāo)準(zhǔn)時，其控制條件應(yīng)符合下列之規(guī)定：一、設(shè)備洗滌循環(huán)水槽之pH值應(yīng)大於七、潤濕因子應(yīng)大於一 m2/hr、填充段空塔滯留時間應(yīng)大於五秒及填充物比表面積應(yīng)大於九 m2/m3。二、其他可證明同等處理效果或較優(yōu)之控制條件向中央主管機關(guān)申請認(rèn)可者。第五條依前條規(guī)定收集至污染防制設(shè)備處理之廢氣，其流量計及空氣污染物濃度連續(xù)自動

9、監(jiān)測器設(shè)置規(guī)定如下：一、揮發(fā)性有機物及無機無機酸之污染防制設(shè)備之廢氣導(dǎo)入處或排放口應(yīng)設(shè)置流量計。二、其為觸媒焚化爐者，應(yīng)於觸媒床前、後各設(shè)置具有連續(xù)記錄功能之溫度監(jiān)測設(shè)施。1. 揮發(fā)性有機物工廠總排放量大於等於六 kg/hr，該污染防制設(shè)備之廢氣導(dǎo)入處及排放口應(yīng)設(shè)置濃度監(jiān)測器。2. 揮發(fā)性有機物工廠總排放量小於六 kg/hr者，該污染防制設(shè)備之廢氣排放口應(yīng)設(shè)置濃度偵測器。三、流量計及濃度監(jiān)測器之每季有效監(jiān)測率應(yīng)大於百分之八，每年至少以標(biāo)準(zhǔn)檢測方法比測一次，比測時間每次至少二小時，所設(shè)置之流量計及濃度監(jiān)測器所得之結(jié)果應(yīng)以上次比測結(jié)果修正之。四、未依前項規(guī)定設(shè)置流量計及污染物濃度監(jiān)測器者，得提出其

10、他可證明其排放污染物符合前條規(guī)定之替代監(jiān)測方案，報請中央主管機關(guān)認(rèn)可。第六條揮發(fā)性有機物、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等之紀(jì)錄、保存、檢測與申報規(guī)定如下：一、空氣污染物輸入量（以溶劑或其他型式輸入製程之量）、輸出量（隨廢溶劑、廢棄物、廢水或其他型式輸出製程之量）、污染防制設(shè)備削減量等資料應(yīng)每月記錄。二、污染防制設(shè)備為酸鹼洗滌吸收設(shè)施者，應(yīng)記錄保養(yǎng)維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設(shè)施規(guī)範(fàn)，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環(huán)水量及pH值。三、污染防制設(shè)備為清水洗滌吸收設(shè)施者，應(yīng)記錄保養(yǎng)維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設(shè)施規(guī)範(fàn)，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環(huán)水量及廢水排放流量。

11、四、污染防制設(shè)備為冷凝器者，應(yīng)每月記錄冷凝液量及每日記錄冷凝器出口溫度。五、污染防制設(shè)備為生物處理設(shè)施者，應(yīng)記錄保養(yǎng)維護事項，以確保該設(shè)施之狀態(tài)適合生物生長代謝，並每日記錄處理氣體風(fēng)量、進口溫度及出口相對濕度。六、污染防制設(shè)備為熱焚化爐者，應(yīng)每日記錄燃燒溫度。七、污染防制設(shè)備為觸媒焚化爐者，應(yīng)記錄觸媒種類、觸媒床更換日期，並每日記錄觸媒床進、出口氣體溫度。八、以其他污染防制設(shè)備處理者，應(yīng)記錄保養(yǎng)維護事項，並每日記錄主要操作參數(shù)。九、揮發(fā)性有機物之污染防制設(shè)備設(shè)有濃度監(jiān)測器者，其去除率或排放量應(yīng)根據(jù)自動監(jiān)測結(jié)果之日平均值以上次比測結(jié)果修正後計算，並每日記錄。十、 揮發(fā)性有機物之污染防制設(shè)備未設(shè)有濃度監(jiān)測器者，其處理前後之濃度及排放量每年至少需檢測一次，檢測時需記錄當(dāng)時製程及處理設(shè)備之操作條件。每次檢測至少八小時，檢測報告應(yīng)含所測得濃度之各測值、小時平均值及總平均值。計算防制設(shè)備去除率及排放量時，應(yīng)採用所測得濃度之總平均值。十一、第一款至第十款之使用、操作及檢測紀(jì)錄需保存至少二年，並依中央主管機關(guān)規(guī)定之格式於每年一、四、七、