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文檔簡介
1、晶體生長方法1. 底部籽晶法22. 冷坩堝法33. 高溫高壓法44. 弧熔法85. 提拉法96. 焰熔法127. 熔劑法148. 水平區(qū)熔169. 升華法1710. 水熱法生長晶體1911. 水溶液法生長晶體2112. 導(dǎo)向溫梯法(TGT)生長藍(lán)寶石簡介221.底部籽晶法 圖1 底部籽晶水冷實驗裝置示意圖與提拉法相反,這種生長方法中坩堝上部溫度高,下部溫度低。將一管子處在坩堝底部,通入水或液氮使下面冷卻,晶體圍繞著籽晶從坩堝底部生長2.冷坩堝法圖2 冷坩堝生長示意圖人工合成氧化鋯即采用冷坩堝法,因為氧化鋯的熔點高(2700),找不到合適的坩堝材料。此時,用原料本身作為"坩堝
2、"進(jìn)行生長,裝置如圖2所示。原料中加有引燃劑(如生長氧化鋯時用的鋯片),在感應(yīng)線圈加熱下熔融。氧化鋯在低溫時不導(dǎo)電,到達(dá)一定溫度后開始導(dǎo)熱,因此鋯片附近的原料逐漸被熔化。同時最外層的原料不斷被水冷套冷卻保持較低溫度,而處于凝固狀態(tài)形成一層硬殼,起到坩堝的作用,硬殼內(nèi)部的原料被熔化后隨著裝置往下降入低溫區(qū)而冷卻結(jié)晶。3.高溫高壓法圖3 四面頂高壓機(左)及六面頂高壓機(右)的示意圖圖4 兩面頂高溫高壓設(shè)備結(jié)構(gòu)圖圖5 兩面頂高溫高壓設(shè)備結(jié)構(gòu)圖圖6 人工晶體研究院研制的6000噸壓機圖7 人造金剛石車間圖8 六面頂高壓腔及其試驗件圖9 鋼絲纏繞高壓模具圖10 CVD生長金剛石薄膜的不同設(shè)計
3、圖11 南非德·拜爾公司合成的金剛石薄膜窗口圖12 德·拜爾公司在1991年合成的14克拉單晶鉆石溫高壓法可以得到幾萬大氣壓,1500左右的壓力和溫度,是生長金剛石,立方氮化硼的方法。目前,高溫高壓法不但可以生長磨料級的金剛石,還可以生長克拉級的裝飾性寶石金剛石。金剛石底膜可用化學(xué)氣相沉積方法在常壓下生長。4.弧熔法圖13 弧熔法示意圖料堆中插入電極,在一定的電壓下點火,發(fā)出電弧。電弧放出的熱量將周圍的原料熔化,熔融的原料在燒結(jié)的料殼中冷卻結(jié)晶,如云母就是用這種方法生長的。5.提拉法圖14 提拉爐圖15 爐內(nèi)保溫系統(tǒng)的剖面圖圖16 觀察生長情況圖17 提拉法生長晶體裝置示意
4、圖圖18 提拉法生長YAG晶體提拉法,是被普遍采用的晶體生長方法。它是將原料放在鉑或銥坩堝中加熱熔化,在適當(dāng)?shù)臏囟认拢瑢⒆丫Ы胍好?,讓熔體先在籽晶的末端生長,然后邊旋轉(zhuǎn)邊慢慢向上提拉籽晶,晶體即從籽晶末端開始逐漸長大。目前,使用最多的激光晶體Nd:YAG就是采用此法生長的。6.焰熔法圖19 焰熔法生長寶石示意圖圖20 焰融法生長金紅石圖21 金紅石晶體焰熔法,又稱Verneuil法,是在1890年由法國科學(xué)家Verneuil發(fā)明的,用于生長人工寶石。下圖是焰熔法生長寶石裝置示意圖。料錘周期性地敲打裝在料斗里的粉末原料,粉料從料斗中逐漸地往下掉,落到位置6處,由入口4和入口5進(jìn)入的氫氣氧氣形成
5、氫氧焰,將粉料熔融。熔體掉到籽晶7上,發(fā)生晶體生長,籽晶慢慢往下降,晶體就慢慢增長。使用此方法生長的晶體可長達(dá)1m。由于生長速度較快,利用該法生長的紅寶石晶體應(yīng)力較大, 只適合做手表軸承等機械性能方面。7.熔劑法圖22 熔鹽法生長KTP晶體裝置圖23 鈮酸鉀晶體圖24 BBO晶體圖25 CLBO 晶體對于熔點太高,或未到熔點即分解的晶體,采用加助熔劑的方法將其熔點降下來生長,改為熔劑法。很多非線性光學(xué)晶體。例如KN、KTP、BO、LBO等,都是用這種方法生長的。8.水平區(qū)熔圖26 水平區(qū)熔法示意圖水平區(qū)熔法實驗裝置示意圖如圖26所示。熔區(qū)被限制在加熱器加熱的狹小范圍內(nèi),絕大部分的原料處于固態(tài)。
6、加熱器從一端向另一端緩慢移動,熔區(qū)也緩慢移動,晶體逐漸生長。水平區(qū)熔法的主要用途在于材料的物理提純。加熱器不斷地重復(fù)移動,雜質(zhì)被逐漸趕到一邊,原料從而得到提純。該法的創(chuàng)始人是美國人Pfann,硅單晶生長初期的提純即采用此法。9.升華法圖27 升華法晶體生長示意圖圖28 升華法生長碳化硅圖29 碳化硅芯片升華法是氣相法生長晶體的一種,其裝置示意圖如圖所示。氬氣為輸運介質(zhì),熱端原料與摻雜劑加熱后揮發(fā),在氬氣的輸運下到達(dá)冷端重新結(jié)晶。升華法生長的晶體質(zhì)量不高,為薄片狀。10.水熱法生長晶體圖30 水熱法生長晶體主要裝置圖31 杜邦公司用來生長KTP晶體的裝置圖32 杜邦公司用水熱法生長的晶體樣品水熱
7、法是一種在高溫高壓下從過飽和水溶液中進(jìn)行結(jié)晶的方法。工業(yè)化批量生長水晶即采用這種方法。晶體生長在特制的高壓釜內(nèi)進(jìn)行,晶體原料放在高壓釜底部,釜內(nèi)添加溶劑。加熱后上下部溶液間有一定的溫度差,使之產(chǎn)生對流,將底部的高溫飽和溶液帶至低溫的籽晶區(qū)形成過飽和而結(jié)晶。 美國人最初生長的KTP晶體線度約10mm,是在3000大氣壓、800下于內(nèi)徑僅38mm的高壓釜內(nèi)生長的。KTP晶體非線性系數(shù)大,透光波段寬,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,機械性能優(yōu)良,是一種綜合性能非常優(yōu)良的非線性光學(xué)晶體。美國曾在較長時間內(nèi),將KTP晶體列為該國會控制下的軍需物質(zhì),對我國實行禁運。在我國科技工作者不懈的努力下,成功的利用高溫溶液
8、法生長出高光學(xué)質(zhì)量、大尺寸的KTP晶體,打破了美國的壟斷并返銷到美國,為國家爭得了榮譽11.水溶液法生長晶體圖33 水浴育晶裝置圖34 日本大阪大學(xué)生長的KDP晶水溶液法的基本原理是將原料(溶質(zhì))溶解在水中,采取適當(dāng)?shù)拇胧┰斐扇芤旱倪^飽和狀態(tài),使晶體在其中生長。圖3-1為水溶液法中利用降溫法生長晶體的裝置,前面提及的磷酸二氫鉀(KDP)、磷酸二氘鉀(DKDP)晶體就是使用這種裝置生長的。12.導(dǎo)向溫梯法(TGT)生長藍(lán)寶石簡介導(dǎo)向溫梯法(TGT)生長藍(lán)寶石導(dǎo)向溫梯法是以定向籽晶誘導(dǎo)的熔體單結(jié)晶方法。他包括放置在簡單鐘罩式真空電阻爐內(nèi)的坩堝、發(fā)熱體和屏蔽裝置。本裝置采用鉬坩堝,石墨發(fā)熱體,坩堝底部中心有一籽晶,避免籽晶在化料時被熔體化掉,為了增加坩堝的穩(wěn)定性,籽晶槽固定在定位棒的圓形凹槽內(nèi),溫場由石墨發(fā)熱體和冷卻裝置共同提供,發(fā)熱體為被上下槽割
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