電子行業(yè)廢水研究

1、注：電子行業(yè)包含很多行業(yè)，半導(dǎo)體行業(yè)、電子元件行業(yè)(其中包括電容器、電阻器、電感器、電位器、電路板、電子變壓器、磁性材料和電子敏感元件等)、平板顯示器行業(yè)(其中包括TFT-LCD和PDP等)。半導(dǎo)體行業(yè)廢水研究一、廢水來(lái)源在制備晶圓時(shí)，需要使用超純水沖洗，無(wú)機(jī)藥劑需要用到鹽酸、氨水、硫酸和氫氟酸，有機(jī)藥劑需要用到光阻劑：乙酸丙二醇單甲基醍酯PGMEA(C6H12。3)和乳酸乙酯EL(C5H10O3);顯影劑：氫氧化四甲基俊TMAH(C4H13NO);去光阻劑：一甲基-2-比喀NMP(C5H9NO);光阻制程用藥：酚(C6H6O);晶片干燥過(guò)程用藥：異丙醇IPA(C3H80)。在使用藥劑的過(guò)程中

2、就會(huì)產(chǎn)生廢水。二、廢水水質(zhì)1、含氟廢水常見(jiàn)水質(zhì)：分析里白渡度頻平均值碼F-(mg/L)1.0-3.0500-30002.51750SS(mg/L)50300175SO產(chǎn)(mg/L)1000-22001600P0產(chǎn)(mg/L)<532、酸堿廢水酸堿廢水中，常含有SS,所以在處理時(shí)需要注意是否另行添加去除顆粒度的設(shè)備，或是和研磨廢水合流處理。3、有機(jī)廢水4、研磨廢水5、氨氮廢水6、含銅廢水具體水質(zhì)可參看上海華立項(xiàng)目和大連英特爾項(xiàng)目三、出水水質(zhì)1、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)2、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)PH6-t企業(yè)度次母揖放口At浮能70企業(yè)或水總推放口生it軍機(jī)-BOD，21企業(yè)覆水總措.放口牝?qū)W-穗里COD

3、Cr)90企業(yè)境術(shù)自棒放口總氤化勘0.1S企業(yè)現(xiàn)支總州.放口snttw小曲堂K總拜放口被氯企非快表忠擅.里口eft15上帝域表總抻放口0_5企業(yè)梗家總值成口樂(lè)怩物9企業(yè)懂表總關(guān)放n總策0.2企W貨表總排我口EM0.1或步產(chǎn)裝置用雌口曲05-'-0.1串間"望產(chǎn)裝W儲(chǔ)放口總砰02隼聞或生產(chǎn)較量便故口0.5辛閭成一產(chǎn)裝置用/口總保05亭間城生產(chǎn)第置用股口苴艙0.1，.同或13、企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)有些企業(yè)考慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流排放，或是響應(yīng)國(guó)家號(hào)召，會(huì)出現(xiàn)與國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)不相同的標(biāo)準(zhǔn)。四、工藝流程參考上海華立項(xiàng)目和大連英特爾項(xiàng)目。電子元件行業(yè)廢水研究一、廢水來(lái)源電子元件，以印

4、制電路板行業(yè)為主要介紹對(duì)象。底片d技鋁困世底片制作工段底片基板f內(nèi)層縷路制乍工段電工段（化學(xué).銅和一次撞銅）外層線路制作工段表面加工成型工段展柒處理丁轅圖2,考層印制%珞板制作流程在上述印制電路板的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生有機(jī)廢水、酸性廢水、堿性廢水、含氧廢水、絡(luò)合廢水、含銅廢水和研磨廢水。二、廢水水質(zhì)廢水水質(zhì)：表1印制電路板廢水水質(zhì)水量分類(lèi)表（單位：mg/L,pH除外）序號(hào)廢水種類(lèi)比例（%）PHCODCuNiCNNH3-N說(shuō)明1磨板廢水153057<30<32絡(luò)合廢水3810200300<50化學(xué)鍍銅等清洗水，含EDTA等絡(luò)合物3高濃度有機(jī)廢水36>10500015000210

5、顯影、剝膜、除膠廢液和顯影首級(jí)清洗水4一般有機(jī)廢水1015<10200600脫膜、顯影工序的二級(jí)后清洗水；貼膜、氧化后、鍍錫后以及保養(yǎng)清洗水5電鍍廢水15-2035<6010-506綜合廢水203035803002035一般清洗水7含氧廢水0.11.08103050<200撓性板含氧廢水較多8含銀廢水0.11.025<80<100鍍饃清洗水9含氨廢水1581060200堿性蝕刻清洗水廢液成分序號(hào)廢液種類(lèi)PHCOD總Cu廢液成分1油墨廢液>12500020000沖板機(jī)顯影阻焊油墨渣2褪膜廢液>12500020000（38）%NaOH,溶解性干膜或濕膜3化

6、學(xué)鍍銅廢液>12300020000200010000CaSO4,NaOH,EDTA,甲醛4掛架褪鍍廢液5M酸5010080000硝酸銅，濃硝酸5堿性蝕刻廢液950100130000150000Cu(NH3)2Cl26酸性蝕刻廢液2M酸50100150000CuCl2,HCl表2印制電路板廢液分類(lèi)及成份表（單位：mg/L,pH除外）7褪錫鉛廢液5M酸501001001000Sn(NO3)2,HNO3(或者氫氟酸/氟化氫胺)8微蝕廢液<150100<30000過(guò)硫酸鏤APS(過(guò)硫酸鈉NPS)+(23)%硫酸；或硫酸+雙氧水9高鎰酸鉀廢液>020003000100300高鎰酸

7、鉀，膠渣10棕化廢液046)%H2SO4,有機(jī)添加劑11預(yù)浸廢液酸性501008001500SnCb,HCl,NaCl,尿素12助焊劑廢液34100002000010002000松香，焊劑載體，活性劑，稀釋劑(熱風(fēng)整平前使用)13抗氧化劑廢液(OSP)341500010002000烷基苯駢咪座，有機(jī)酸，乙酸鉛，CaCl2,苯駢三氮唾，咪唾14膨脹廢液方10000020000010100有機(jī)溶劑丁基卡必醇等15堿性除油廢液>D200080001020堿性，有機(jī)化合物，表面活性劑(乳化劑，磷酸三鈉，碳酸鈉)16酸性除油廢液<12000500050300硫酸，磷

8、酸，有機(jī)酸，表面活性劑17顯影類(lèi)廢液>124000300500Na2CO3（褪膜液為NaOH）18廢酸3%酸5010030100H2SO4,HCl,檸檬酸19廢耙液(活化液)<1501004080PdCl2,HCl,SnCb,Na2SnO3三、出水水質(zhì)1、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)2、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)4、企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)有些企業(yè)考慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流排放，或是響應(yīng)國(guó)家號(hào)召，會(huì)出現(xiàn)與國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)不相同的標(biāo)準(zhǔn)。四、工藝流程1、廢水處理1)、分流原則：(1)含一類(lèi)污染物、氧化物等廢水應(yīng)單獨(dú)分流；(2)離子態(tài)銅與絡(luò)合態(tài)銅應(yīng)分流后分別處理；(3)顯影脫膜(退膜、去膜)廢液含高濃度有機(jī)物，應(yīng)單

9、獨(dú)分流；一般有機(jī)物廢水根據(jù)實(shí)際需要核算排放濃度后確定分流去向；(4)含氧化物廢水須避免鐵、饃離子混入；(5)廢液應(yīng)單獨(dú)分流收集；(6)具體分流應(yīng)根據(jù)處理需要和當(dāng)?shù)丨h(huán)保部門(mén)要求，確定工程的實(shí)際分流種類(lèi)。2)、分步流程(1)銅的去除印制電路板行業(yè)廢水中銅有多種存在形式：離子態(tài)銅、絡(luò)合態(tài)銅或螯合態(tài)銅，應(yīng)按不同方法分別進(jìn)行去除。離子態(tài)銅經(jīng)混凝沉淀去除。絡(luò)合態(tài)或螯合態(tài)銅經(jīng)過(guò)破絡(luò)以后混凝沉淀去除。1.1 離子態(tài)銅去除基本流程：含銅廢水含銅污泥圖1離子態(tài)銅的化學(xué)法處理流程中和混凝時(shí)設(shè)定控制pH值應(yīng)根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)調(diào)試確定，設(shè)計(jì)可按pH8-9進(jìn)行藥劑消耗計(jì)算。1.2 絡(luò)合態(tài)或螯合態(tài)銅的去除常用破絡(luò)方法有：Fe3+可掩

10、蔽EDTA,從而釋放Cu2+;其處理成本廉價(jià)，應(yīng)優(yōu)先采用。硫化物法可有效去除EDTA-Cu,過(guò)量的S可采用Fe鹽去除；Fenton氧化可破壞絡(luò)合劑的部分結(jié)構(gòu)而改變絡(luò)合性能；重金屬捕集劑是螯合劑，能形成更穩(wěn)定的銅螯合物并且是難溶物；離子交換法可交換離子態(tài)的螯合銅，并將其去除。生化處理可改變絡(luò)合劑或螯合劑性能，釋放Cu2+,具有廣泛的適用性。具體設(shè)計(jì)應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)結(jié)果確定破絡(luò)工藝。1.3 破絡(luò)反應(yīng)基本流程絡(luò)合銅廢水含銅污泥生化處理或排放圖2絡(luò)合銅的基本處理流程三價(jià)鹽可掩蔽主要的絡(luò)合物EDTA;輔助破絡(luò)反應(yīng)可采用硫化鈉，按沉淀出水Cu<2.0mg/L投加量控制；生化處理應(yīng)便于排泥，以排出生化處理破

11、絡(luò)后形成的銅沉淀物。如絡(luò)合銅廢水在常規(guī)破絡(luò)后可達(dá)到排放要求，則不需進(jìn)入生化系統(tǒng)處理。如果沒(méi)有破壞或者掩蔽絡(luò)合劑，絡(luò)合銅廢水處理后宜單獨(dú)排至出水計(jì)量槽，以免形成新的絡(luò)合銅。(2)氧化物的去除1 氧化物廢水的處理宜采用二級(jí)氯堿法工藝。破鼠后的廢水應(yīng)再進(jìn)行重金屬的去除。1 破鼠基本流程氧化劑*破級(jí)一后續(xù)處理圖3含氧廢水基本處理流程1 處理含氧廢水的氧化劑可采用次氯酸鈉、漂白粉、漂粉精、二氧化氯、雙氧水或液氯。理論有效氯投加量：CN:NaClO=1:7.16。實(shí)際由于廢水中還有其它還原物或有機(jī)物會(huì)消耗有效氯，投藥量宜通過(guò)試驗(yàn)確定。1 反應(yīng)pH值條件：一級(jí)破鼠控制pH值1011,反應(yīng)時(shí)間宜為(1015)

12、分鐘；二級(jí)破鼠控制pH值6.57,反應(yīng)時(shí)間宜為(1015)分鐘。1 自動(dòng)控制ORP參考值：一級(jí)破鼠約(+200+300)mV,二級(jí)破鼠約(+400+600)mV。由于廢水中所有還原性物質(zhì)都可能與氧化劑發(fā)生反應(yīng)，因此對(duì)于實(shí)際ORP控制值，應(yīng)根據(jù)CN的剩余濃度現(xiàn)場(chǎng)試驗(yàn)確定。設(shè)定ORP值的原則是既保證殘余CN濃度小于排放要求，又不浪費(fèi)氧化劑。(3)有機(jī)物的去除有機(jī)物的主要來(lái)源是膜材料(干膜或濕膜卜顯影廢液、油墨中的有機(jī)物和還原性無(wú)機(jī)物。高濃度有機(jī)物廢水主要來(lái)自褪膜廢液、顯影廢液和首次沖洗水。因其COD濃度高也稱(chēng)為有機(jī)廢液、油墨廢水。脫膜、顯影廢液應(yīng)首先采用酸析處理。酸析反應(yīng)控制pH值35,具體數(shù)值可

13、現(xiàn)場(chǎng)調(diào)整確定。設(shè)定的原則是去除率提高平緩時(shí)，不再下調(diào)pH值。酸性條件使得膜的水溶液形成膠體狀不溶物，通過(guò)固液分離去除。酸析后的高濃度有機(jī)廢水可采用生化處理，也可根據(jù)情況采用化學(xué)氧化處理。高濃度有機(jī)廢水生化工藝基本流程好氧處理須注意控制進(jìn)水濃度Cu<5.0mg/L,可以將破絡(luò)后的絡(luò)合廢水進(jìn)入好氧池一同處理，通過(guò)排泥量控制混合液中的Cu<20mg/L。油墨廢液酸析污泥物化污泥剩余污泥排放或再處理圖4高濃度有機(jī)廢水基本處理流程高濃度有機(jī)廢水厭氧處理水力停留時(shí)間(HRT)宜24h以上，投配負(fù)荷：(2.03.0)kgCOD/(m3?。以下。局濃度有機(jī)廢水好氧處理HRT宜16h以上，投配負(fù)荷：

14、(0.30.6)kgCOD/(m?c)。除高濃度有機(jī)廢水以外的其它含有機(jī)物廢水，可直接采用好氧生物處理，HRT宜12h以上。(4)饃的去除宜采用堿沉淀法去除。當(dāng)要求含饃廢水單獨(dú)處理并且單獨(dú)達(dá)標(biāo)時(shí)，中和pH值應(yīng)控制在9.5以上。(5)NH3-N的去除好氧生化處理能將NH3轉(zhuǎn)化為亞硝酸鹽氮或硝酸鹽氮，去除氨氮；缺氧反硝化處理可以脫氮。在硝化反應(yīng)中碳源不足時(shí)可人工添加碳源。(6)廢液的處理與處置廢液含高濃度銅、絡(luò)合劑、COD和可能的氨、CN、Ni等。Au等貴重金屬?gòu)S家應(yīng)自行回收。廢酸、廢堿應(yīng)優(yōu)先作為資源再利用。蝕刻液應(yīng)優(yōu)先回收再生并重復(fù)使用。高濃度重金屬?gòu)U液應(yīng)優(yōu)先進(jìn)行資源回收再生。廢液宜按不同種類(lèi)分

15、別收集儲(chǔ)存，有利于回收和處理。無(wú)回收價(jià)值的廢液宜采用單獨(dú)預(yù)處理后小流量進(jìn)入廢水處理系統(tǒng)。(7)污泥處理與處置普通清洗廢水處理后的污泥可采用廂式壓濾或帶式壓濾等方式脫水，濾出液返回普通清洗廢水池。絡(luò)合銅廢水采用簡(jiǎn)單硫化物沉淀處理的污泥，宜單獨(dú)脫水，濾出液返回絡(luò)合廢水池。酸析后的污泥宜采用重力砂濾脫水或帶式壓濾機(jī)脫水。污泥的處置，須按危險(xiǎn)廢物并根據(jù)危險(xiǎn)廢物的相關(guān)規(guī)定進(jìn)行處置。生化處理的剩余污泥中含有重金屬，禁止農(nóng)用。污泥轉(zhuǎn)移應(yīng)遵循國(guó)家危險(xiǎn)廢物管理有關(guān)規(guī)定。3)總流程一一一一!一*I圖1S印割電路版償水處理典型I光治程圖2、回用水處理1)回用原則：(1)磨板廢水成份較簡(jiǎn)單，可采用銅粉過(guò)濾后回用至磨板

16、工序。(2)應(yīng)采用優(yōu)質(zhì)清潔廢水作為回用水水源，宜按順序優(yōu)先采用電鍍清洗水、低濃度清洗水、一般清洗水。含高有機(jī)物、絡(luò)合物清洗水不宜作為回用水源。(3)應(yīng)根據(jù)回用水水質(zhì)要求制訂回用處理工藝。一般宜采用預(yù)處理+反滲透工藝；(4)應(yīng)當(dāng)核算廢水回用后反滲透的濃水對(duì)排放水質(zhì)的影響，并依此調(diào)整廢水分流方式和整體處理工藝。(5)印制電路板企業(yè)應(yīng)優(yōu)先考慮采用在線回用處理工藝，在線回用處理工藝包括膜法、離子交換法等。一般可將處理達(dá)標(biāo)后的綜合廢水作為回用水處理系統(tǒng)的水源。(7)回用水處理系統(tǒng)的主要工藝過(guò)程包括多介質(zhì)過(guò)濾、超濾、反滲透等，應(yīng)綜合考慮進(jìn)水水質(zhì)、回用水水質(zhì)要求、回用率以及經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)等因素確定合理的工藝組

17、合。(8)回用水處理系統(tǒng)的產(chǎn)水需回用于生產(chǎn)線，水質(zhì)要求視企業(yè)情況而定，通常達(dá)到自來(lái)水水質(zhì)要求時(shí)即可回用至一般清洗工序；濃水可經(jīng)獨(dú)立處理系統(tǒng)處理后達(dá)標(biāo)排放，也可將濃水排入生化處理系統(tǒng)作進(jìn)一步處理。2)回用流程磨板廢水回用：用殖械的將板度小一收集而過(guò)他村*±括：仁|二美匕大，電旗M止山荻的甘板喳水.吐注器圖”的枚映水同用鉞吧鞫M工豈流程由電鍍廢水回用:.包H機(jī)格的廢水地水推案庫(kù)合廢水處理事統(tǒng)曰4川帆愧腰水回川州KP枝PJT光液程陽(yáng)綜合廢水回用:濱水社一步處恚附4II或里的回布公七理I之流程平板顯示器行業(yè)廢水研究一、廢水來(lái)源TFT-LCD（薄膜晶體管液晶顯示器件）行業(yè)完整的TFT-LCD的

18、生產(chǎn)工藝路程主要包括：陣列工程（Array）、彩膜工程（CF）、成盒工程（Cell）和模塊工程（Module）三大部分。PDP（等離子顯示器件）行業(yè)PDP的生產(chǎn)工藝路線主要包括：前板制程、后板制程以及組裝二、廢水水質(zhì)TFT-LCD行業(yè)1、Array工程所產(chǎn)廢水:序號(hào)村H戈琳使用的優(yōu)學(xué)餐3目卓附而染物麻水牲度再殺因干廢氣性不污染因千回收1堂.再基被度霜制離俄mso(二甲不翼1.cajjSO).己u芭iMEA；珥¥CH£Hq為由W電市、伊刁COD.30D高沸由"機(jī)*氣6）VOCi白氏,受澄閱*"喧3良,浦四甲尾氨氣地建（TMAHiCHjHNOHi梯整時(shí)QK門(mén)

19、7r力PCMEi,早田區(qū)型后_MCH,OCHCH：OHCH乙支PGStEAl內(nèi)二甲青機(jī)上水的5:COD.BODfHXH.-K«ti*H(05S)田a.M)H療.療4充鼾校玲；1般孑修牛聚細(xì)聆.舌：罵象弗察牌照3代打加*七？0紀(jì)£，：羊甲邕里再二岬ch1oce7ch；oh；ch.k-ao*,£rPGMEAl西酉等更4酸?CH3aoeH73,：H0CH：.,HM2S出機(jī)窟水8D.bod有亂境氣V0C15幡精也甲乙基聞內(nèi)二砰.兩二科皿國(guó)學(xué)元和羋白帆亶氣VOCs1處i同我AIM忡我仁額月明)Z-iCHOOHj詡酸iHNOJ由同戔水pH=歌it.m朝a.人84BODi5.7

20、h)黑性國(guó)氣«幅(HEQ.乙酸CH.COO出.R*理口,:F")a呀«,不料同收、7ITOM他橫3.45*-0(703幅忤強(qiáng)水pHi翼i鴕性央氣(CJtO.二H.o.m)HND5由卜笠FCODBOD也網(wǎng)世氣VOCsNFNF,.VF1帆pH.F蟲(chóng)雪燃?xì)釳ftftF六技化黨西巴LI科策SiH.網(wǎng)S5善氮翼求NH.-N中曾廢氣14K15中二，PH男氣區(qū)rj-i.h：君醫(yī)用加1td也魯廢氣困一Cli俄忖現(xiàn)水'R殿聚性國(guó)HC1)7r.HMoALAL三峪一_2、CF工程所產(chǎn)廢水序號(hào)財(cái)利名好士化學(xué)物質(zhì)格成的哼臭物度水他L喊密咽于亶氣在質(zhì)沔期及7回性I域篇荃A2PCriE

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22、I節(jié)嚏現(xiàn)U掩掩AJBwhceton£專(zhuān)機(jī)古小COD、BOD£出外招2(捧黑地_»皿，百禮后卡8。BOD一,3NMP用甲基川傀毗即1行機(jī)虎斗CODBODVOCi冷清壯賽PDP行業(yè)序號(hào)L藝耳節(jié)使用恂北學(xué)期展期成的污染物MttM厲犀因子或氣性防號(hào)鵬因子Htt1已用電林成型幣里.IPA.拜蘇杠首-；：的修，VOCi理斯電橫我輯Ae*#.服VOCi蠅斷電隹或型A身&X,值,必VOCs4揖電體私括鼻事里第、酶在：虎，VOCi5落黃瑁野、甲E一出空幔，*i，平W、I?AV一正由停律總憑光世、舉用餐畛乾也木557酎臺(tái)城塘沱扁臺(tái)粒精帕節(jié)琉璃把度水SS一SHMDS六國(guó)縣二行之

23、裝：(CH城iSifCH*心機(jī)涉基COD.BOD白機(jī)慢氣VOCs9<!'JINTNF備F境水曲F'白身僮/化弼F10文更化以浜"匹口訐七¥四阪一5512NH畬覆發(fā)NHNXH,15MT；PH,氧氣叁r*PH.H.量胃.叟水2.M仃號(hào)&寸當(dāng)Iffwet67起眼HQIT花材MflALAl聞*gd.；ITO氨化.也儀心:EDv%J一三、出水水質(zhì)1、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)2、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)序號(hào)河染物項(xiàng)目率標(biāo)準(zhǔn)排放眼值現(xiàn)有企業(yè)新建企業(yè)23總船100,5總庫(kù)100,525總耕0.005.00526總銀02015、企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)有些企業(yè)考慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流

24、排放，或是響應(yīng)國(guó)家號(hào)召，會(huì)出現(xiàn)與國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)不相同的標(biāo)準(zhǔn)。四、工藝流程1、TFT-LCD企業(yè)A水質(zhì)：流程：苣旨河1康店井2,|竄畢ea念0小摘gwsMiat欣T；'-*»：黝康京KM12、企業(yè)B*gH調(diào)整，f1綿厘容，3/-r*含氤污加期J'S昂詼里寶駒F匕育社更詼靠事*出排卓全君/，W41出*生物”斗辱阡*.2#在拒*,砒K髭沆儲(chǔ)a再禮同劑卻，1訐部廉.工:寧氏行心般放楮斤二1,第1L度術(shù)?n幕du氏啞的制渾水系箭回用.為4駛龍-F.布針才幡三活話(huà)寸-*隔湖的便沙jti£i*tfc.EI，國(guó)網(wǎng):配比洌斷面其他流程，可參考BOE項(xiàng)目和南京熊貓項(xiàng)目。電真

25、空行業(yè)廢水研究一、廢水來(lái)源在CRT行業(yè)中常用到的酸堿化學(xué)試劑有:名稱(chēng)化學(xué)式用途形成的污染因子氫端酸HF玻璃清洗pH.F前限HCI通用PH防幅H2SO4通用PH硝酸HN5玻璃清洗pH,硝旭於寂崎酸HjP5通用pH.磷幡林草酸2H士口涂解、蒸鋁PH鼠戰(zhàn)橫酸SOOHJNH,涂展工藝NHrN里格酸胺(NH4)nCrOr徐屏工藝總輅，Cf重錯(cuò)酸鉀K2Crt>?深屏工藝總格、C;次氯酸胡1NaClO涂辟工藝鈍化物雙軾水H&涂解工藝輒化物郭輒化鈉NsiOH去油清洗pH、COD.fi油類(lèi)碳酸鈉NaCOj去油清洗pH,COD,石油類(lèi)磷稽鈉Na5POj去油消洗瞬酸款麻化鼠NH4HF2清洗、滁屏、H冏、F石