鍍膜員工試題

1、鍍膜員工試題庫填空題 :1 .關機時,關掉擴散泵加熱，需要冷卻60分種以上 時間才可以關掉總電源2 .我們正常鍍膜過程中鏡片需要鍍膜的一面應該向下 放置。3、寫出+XP 的意思 向正方向調 X 方向位置4 .新科Pt機SID1100中生產(chǎn)IR CUT濾色片，每層開鍍時，TiO2材料的起始光控曲線方向向上SiO2 材料的光控曲線方向向下。5 .新科隆機SID1100中的離子源，有3片柵極，從上到下依次為TOP , MID , BOT ;柵極問總 共有 12 片陶瓷片絕緣.6 .現(xiàn)在我們使用的鍍膜機光學控制方式有反射 式和 透射 式 兩種 ,昭和機屬于 透射 式新科隆機屬于 反射式，光馳機屬于反射

2、式。7 .相同蒸發(fā)條件下，餅料的SIO2,和顆粒狀的SIO2,餅料的SiO2所需的蒸發(fā)功率要高。8 .比較下列膜料正常蒸發(fā)功率，由大到小排列：MgF2 H4 SiO2 H4 > SiO2 > MgF29選擇下列光學原理： a光的反射原理b、光的折射原理c、光的干涉原理d、光的投射 原理（1）看到水中筷子是彎曲的,利用光的b （2）看到鏡子里自已像，利用光的a （3）光學薄膜利用光的 c10 .真空可以大致分為四段，分別為初真空 、 低真空 、 高真空 、 超高真空11 .在真空的定義范圍內，高真空度范圍是10-1-10-6 Pa12 .電子槍分為180°槍和270

3、6;槍，而目前韓一機器的電子槍180 度， 光馳機器的電子槍180度，昭和機器的電子槍270 度，新柯隆機器的電子槍180 度，13 .鏡片放到鍍膜機后，關門加熱抽真空， 等到 真空度 和 溫度 到達， 兩者都滿足設定要求后，機器才能開始鍍膜。14目前我們鍍膜機有兩種厚度控制方法：晶振控制 和 光控控制 、15昭和機器在沒有放光控監(jiān)控片下鍍膜時，光控曲線直線 形狀1&報警程序中PFC報警，其中PFC含義：POLYCOLD17、當擴散泵指示燈閃爍時說明擴散泵還在加熱中，還不能打開高閥。18、當擴散泵指示燈不閃爍時說明擴散泵已加熱完成 ，可以正常工作。19、寫出-YS 的意思 減少 Y 方

4、向電子槍光斑大小20、目前我們鍍膜機抽真空系統(tǒng)由機械泵 、 羅茨泵 、 擴散泵 組成21、鍍膜機中，膜層厚度的記錄單位是：埃(A),與米(m)的換算關系是:10-10，速率的單位 是 : A/S .22、保持鍍膜機開門時間盡可能的短，是為了防止真空室內部的護板吸附空氣中的水汽 ，使鍍膜機的抽速變慢 ，影響產(chǎn)品的品質。23、薄膜微觀結構是柱狀 結構，為了改善膜層結構，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝 離子輔助 、 反應離子鍍、 濺射24 光學鍍膜機真空排氣系統(tǒng)中， 機械泵排氣原理： 機械壓縮排除氣體擴散泵排氣原理： 靠蒸汽射流攜帶排除氣體25 、 POLYCOLD 工作原理： 利用低溫表面對

5、氣體進行物理吸附排氣26、寫出下列薄膜種類符號：（ 1）減反膜（ 2）、分束膜（ 3）內反射（ 4）偏振膜27、寫出下列真空度轉換關系：1Pa= 10-2 Mbar= 0.75E-2 Torr 1Torr= 133 Pa= 1.33 Mbar2&鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm,晶振厚度是1000A,而現(xiàn)在需要鍍550nm,那么輸入晶振厚度約為 1100 A29該層晶振厚度是800A,現(xiàn)已鍍了 150A,由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是 650 A30、寫出鍍膜機各控制閥門的中文名稱：MV 高閥 DP 擴散泵 RV 粗抽閥 SLV 細充氣閥FV 輔助閥31、光學玻璃B

6、K7 折射率為1.517則該玻璃表面單面反射率是,4.219% 。32、真空規(guī)管測量原理通過氣體放電方式產(chǎn)生電子，通過磁場使電子獲得能量將氣體分子電離33、石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個效應，即壓電效應和質量負荷效應。34長波通膜系基本結構公式 A/（0.5HL0.5H）Ap/G短波通膜系基本結構公式A/（0.5LH0.5L）Ap/G35、現(xiàn)配有2 把電子槍，面向機器左邊 為 EB1, 右邊 為 EB2.36、正常新晶振的頻率為6 MHz 左右 .37、一般t#況下，真空達到7.0 Pa以上，高閥才會自動開啟,5E-3 Pa時，可以預熔膜料.38、開機時,擴散泵中的油溫需加熱到25

7、0左右,擴散泵才能抽真空39、氧氣瓶中氧氣的壓力須大于3 KG.40、若一個膜系40層,每個光控片控制2層膜 ,再備 2片余量,總共需要放22 片光控片 .41、鍍膜機開機前必須檢查冷卻水 , 壓縮空氣 , 電 是否正常,是否穩(wěn)定供應.42、晶振冷卻水的進水溫度要求是：18 25 43、寫出下列膜料分子式：二氧化硅SiO2 氟化鎂 MgF2 二氧化鈦 TiO2 氧化鋁 AL2O344、寫出下列膜料分子式的名稱：Ta2O5 五氧化二鉭Nb2O5 五氧化二釹SiO 一氧化硅MgO 氧化鎂45、韓一鍍膜機有2 個晶振頭，外邊為 1 號 ，里 邊為 2 號。46、在點檢機械泵、羅茨泵部件，必須查看油位

8、 是否滿足標準要求47、打開鍍膜機時，必須給擴散泵預加熱60 分鐘后才能用擴散泵抽真空48、清冼電子槍、規(guī)管或離子源等部件，必須戴手套 進行操作49、利用光控控制鍍膜機，一般在每爐擺放監(jiān)控片數(shù)量必須多于程序中設定數(shù)量2 片才可以關門。50、在取放昭和機器光控片時，每個光控套筒里擺放1 片干凈、無傷痕監(jiān)控片。51、鍍膜人員在機器罩子上取放鏡片時，一定要戴口罩 。52、晶振片和鍍膜材料應放在干燥器 中的目的是： 防止在空氣中受潮 。53、有2塊修正板的鍍膜機，面向機器左邊 為 MASK1, 右邊 為 MASK2。54、寫出下列中、英名稱：晶振crystal Coating 鍍膜 真空 vacuum

9、 Optical 光學55、開鍍膜機之前，先需檢查壓縮空氣壓力在_5-8公斤56、開啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓電壓值應為_380_V 左右。57、開鍍膜機之前，檢查水壓3-5 公斤 .58、光控控制的鍍膜機蒸鍍過程中光控曲線方向為：反射式控制的高 折射率材料蒸鍍方向向上；59、機器大清洗后應進行抽真空 和 加熱 處理，才能正常生產(chǎn)。60、我們現(xiàn)在的鍍膜方式屬于熱蒸發(fā) 方式。二、選擇題（不定項選擇題）1 .在鍍膜過程中,石英晶振可以顯示以下哪些因素? （ AD ） A、 蒸發(fā)速率 B 、 蒸發(fā)溫度C、 真空度 D 、膜層厚度2 材料蒸發(fā)時，充氧的主要目的有哪些？（AB ） A 、補充材料失去的氧原子，使材

10、料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時，真空室內的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定D 、使控制更精確。3.鍍膜機罩子或放扇形板的轉動架須高速轉動的目的是（ ABCD ） A、使同圈的膜層厚 度分布均勻B、使內外排膜層厚度分布均勻 C、使同圈溫度分布均勻 D、使內外排溫度分 布均勻4、現(xiàn)在我們生產(chǎn)Ir-cut平板濾色片，從反射看平板的顏色是（A ） A、紅色B、綠色C、 藍色D 、沒有規(guī)律5、油擴散泵上面加冷阱，其作用是（A D ）. A.防止擴散油分子回流到真空室B.加快排氧速度.C.防止雜物掉入擴散泵.D、提高膜層附著力6、為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達基板時基本不和殘余氣體分子發(fā)生碰撞，故

11、真空室內真空度要到達10-3Pa以下,以滿足（B ）條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分 子平均自由程遠大于蒸發(fā)距離 C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D、氣體分子平均自 由程的平方大于蒸發(fā)距離。7、對鍍膜材料進行預熔的目的是（A C ） A、去除材料內部的雜質B、改變材料的表面形狀C、減少材料的放氣 D、提高材料的溫度8、真空鍍膜時真空度范圍應在（C ） A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空9、電子槍“FIL”燈變紅，故障原因是（C） A、電子槍高壓線路故障 B、真空室底下門沒 有關好C、電子槍燈絲有問題 D、電子槍電流回路故障。1R提高膜層聚集密度工藝有（AD ） A

12、、提高離子源功率 B、降低溫度C、降低真空度D 、提高溫度11、黃色互補色是（B ） A、綠色B、藍色C、紅色D、紫紅色12、增強膜層和鏡片附著強度，以下那些因素有關（ ABCD ） A、鏡片表面清潔度B、鏡 片表面溫度C、真空室內清潔度 D、膜層材料1&鍍650± 10 IR-CUT濾色片，請問鍍出在哪個波長范圍內合格（ B ） A、640660nm R640655nm C、 630-660nm D、 635-660nm14、在可見光光譜中，綠色波長范圍是（D ） A、 600-570 B、 500-450 C、 630-600 D、 570-5001S SID1100的離

13、子源中和器正常工作時，需要下列哪些氣體？（ AC ）冷卻時需要什么氣體？（C ） A、氧氣（O2） B、氮氣（N2） C、氮氣（Ar） D、氮氣（He）16、鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質，以下哪些是可能原因？（ABCD ） A 、材料本身不純，有雜質B、預熔時沒熔透，鍍膜時有飛濺 C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預熔時有膜料殘渣掉進坩堝17、鍍膜機抽速慢，以下哪些可能會引起？（ABCD ） A 、各類泵油使用時間太長，已變質B、POLYCOLD有問題C、真空室的清潔不到位 D、機器有漏氣1&真空室內部清掃不干凈，可能會導致以下哪些結果？ （ ABCD ） A、機器

14、抽速慢B、 零件表面灰塵C、機器效率降低D、分光特性不重復19下列哪些因素影響內外排的均勻性 ？（ ABD ） A、電子槍光斑的位置 B、電子槍光斑的形 狀、大小C、真空度不穩(wěn)定 D、修正板的形狀和上升高度.2R正常，卜#況下，真空室內部清洗干凈后，機器的抽氣速度將（B ） A、變慢B、變快C、不變 D 、無法判斷。21、電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結果？（ ABCD ） A 、電子槍光斑變形，位置打偏B、內外排分布不均勻 C、分光特性不良D、產(chǎn)生雜質23、在相同光斑大小和蒸發(fā)速率的情況下，AL2O3 電子槍功率（ A ） SiO2 電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道24、下列屬于

15、鍍膜機粗抽閥門符號是（C ） A、 LV B、 SLV C、 RV D、 SRV25、昭和機器利用光控監(jiān)控鍍膜，在新的一片光控片上鍍（AD ）材料光控曲線向下走動（未鍍到極值點之前） A、 TiO2 B、 SiO2 C、 MgF2 D 、 Ta2O526 、 1 Torr= （ BC ） A 、 1Pa B、 133Pa C、 1.33Mbar D、 1Mbar27、新科隆850離子源有（ B ）片柵極片A、 1 B、 2 C、 3 D、 428、如果你鍍出來一罩鏡片有的排鏡片合格，有的排不合格，與下列（ABC ）因素有關A 、光斑不在中心位置 B、修正板變形 C、電子槍檔板松掉 D、蒸發(fā)速率

16、不穩(wěn)29在鍍IR-CUT時，鍍出鏡片表面發(fā)黑，其原因是（ D ） A、鍍膜材料受到污染 B、內 外排分布不均勻 C、溫度沒有加D、沒有充氧30、下列那個符號代表高閥（C ）A、 FV B 、 MBPC、 MVD 、 DP31、下列那個符號代表光控（A ）A、 OPM B、 EB C、 MBP D 、PFC32、關門抽真空，一般當真空度抽到（B ）時開始自動預熔膜料A、 1.5E-3Pa B、5.0E-3Pa C、 2.0E-3Pa D、 5.0E-5Pa3&目前控制膜厚種類有（AC ） A、光學膜厚儀控制B、電子槍控制C、晶振膜厚儀控制 D 、電腦控制34、 MgF2 材料，我們可以采

17、用是哪種蒸發(fā)方式： （ A ） A、 電子槍蒸發(fā)B、 鉬舟蒸發(fā)（阻蒸法）C、 都不是 D 、離子輔助蒸發(fā)3s正?？缮敌拚宓腻兡C，若 EB2正在鍍膜，EB1,EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（ BC ） A、 EB1 上方的修正板升起B(yǎng)、 EB2 上方的修正板升起C、 EB1 上方的修正板下降D 、 EB2 上方的修正板下降34、韓一機從開始抽真空計時,到高閥開啟,正常情況下需要多少分鐘？（ B ） A、 1 分鐘 B 、 5分鐘C、 10分鐘 D 、 30分鐘3S鍍膜機在鍍膜過程中，需要操作員工關注以下哪些情況?（ ABCD ） A、蒸發(fā)速率穩(wěn)定情況 B、APC充氧情況C、電子槍光斑位

18、置及大小情況D、光控曲線的走向及形狀.36、為減少鏡片人為污染，員工在取鏡片時，應采取以下哪些保護措施？（BC ） A 、不開吸塵器B、 戴棉手套 C、 戴口罩 D 、戴手指套37、手動預熔材料時，應注意下列哪些事項？（ ABCD ） A 、真空室內達到一定的真空度， 開始加電流預熔材料B 、 光斑不能打到坩堝邊上， 更不能打到坩堝外邊C、 預熔時的電流一定要高于蒸發(fā)時的電流D 、不同材料不同的預熔電流38、 下列哪些部件在機器運行時需要冷卻水？ （ BCD ） A、 電子槍B、 擴散泵 C、 坩堝盤 D 、晶振頭39、有些鍍膜夾具的擺放有上下之分,如棱鏡、平板夾具，如果上下顛倒擺放,鏡片會因

19、于什么原因而報廢：（D ） A、破邊B、膜不潔C、劃傷D、通光40、 鍍膜機在自動充氣 （待開門） 狀態(tài)下， 下列哪些情況是正確的？ （ ABC ） A 、 LV 開 B、MTR 開 C、FV 開 D、MV 開。41、 在清洗和安裝電子槍高壓電極的引線時，為了防止扭壞電極， 我們如何選擇工具？ （ B ）A、鴨嘴鉗B、兩只扳手C、尖嘴鉗D、螺絲刀42、對于AR 膜而言，下列哪個波段反射率偏高時，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（ D ） A 、400420nm B、 500530nm C、 580620nm D、 630760nm43、 每臺機器安裝修正板的目的是（ C ） A、 調整內外排溫度分布B、

20、 調整機器內的真空度分布C、調整內外排膜厚分布 D、調整同圈厚度分布.44、如果加熱板下方的溫度探頭移位,比正常時要低許多,結果鏡片溫度將會：（ B ） A 、比正常時低B、比正常時高 C、基本不變 D、劃破鏡片45、在蒸鍍膜料時，電子槍電流有，但加不高的原因是（AD ） A 、裝電子槍燈絲螺絲松了B、電子槍燈絲壽命到期 C、燈絲斷了 D、高壓引線松動4&在正常情況下，目前規(guī)定韓一機器使用新品振最多只能鍍（ B ）爐A、一 B、二C、三 D 、不確定47、鍍膜機中EB代表的含義（C ） A、電腦B、擴散泵C、電子槍D、光斑48、下列（B ）符號代表Y 方向的光斑大小A、 YP B、 Y

21、S C、 XP D 、 EB49、下列（A ）符號代表X 方向的光斑位置A、 XPB、 XS C、 YP D 、 EB5R機器按規(guī)定（D ）換護板。A、每周B、每天C、每爐D、每班51、在正常情況下，我們鍍一爐 650± 10nm IR-CUT需要多長時間（A ） A、6小時B、2小時 C、 4小時 D、 8小時52、在正常情況下，我們鍍一爐普通增透需要多長時間（B ） A、 6 小時 B、 2 小時C、4 小時 D 、半小時53、下列（B ）符號代表X 方向的光斑大小A、 XP B、 XS C、 YP D 、 EB54、下列（C ）符號代表Y 方向的光斑位置A、 XP B、 XS

22、C、 YP D 、 EB55、以下材料折射率最高的是（C ） A、 SIO2 B、 AL2O3C、 TIO2 D 、 MGF2D、 MGF255、以下材料折射率最低的是（D ） A 、 SIO2B、 AL2O3 C、 TIO25&晶振不好會導致以下哪些結果（ AC ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好57、充氧不穩(wěn)會導致以下哪些結果（ A ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好C、表面不好D 、膜層牢固度不好5&光控曲線不好會導致以下哪些結果（ A ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好 D 、膜層牢固度不好59溫度不對會

23、導致以下哪些結果（ ABD ） A、整罩分光特性超差B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好6R真空度不對會導致以下哪些結果（ ABD ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好三、判斷題1、本部目前所使用的鍍膜機有單層鍍膜機、多層鍍膜機和磁控濺射鍍膜機（ X ）2、在選擇膜系，按照自己以前鍍過的膜系經(jīng)驗來選擇膜系的（ X ）3、多層鍍膜機每次可以蒸發(fā)二種以上的鍍膜料（ V ）4、每臺多層鍍膜機都配有二把電子槍（ X ）5、開機前先檢氣壓要求為2公斤以下（X ）6、開機前先檢水壓要求為10公斤以上（X ）7、開啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓指示應為 220V（ X ）

24、8、自動關機時不需要考慮真空度就可以直接關機（ X ）9、自動關機時只要把總電源關掉就可以了（ X ）1R關擴散泵后等待30分鐘就可以關掉設備總電源（ X ）11、手動開機時，打開擴散泵（DP）加熱開關前先需把MV閥打開，否則會影響擴散泵抽速（X ）12、當擴散泵指示燈長亮時說明擴散泵還在加熱完成，還不能正常工作（ X ）13、手動關機時，關閉擴散泵加熱，等冷卻50 分鐘后，需先關閉 MV 閥、再關羅茨泵和機械泵（X ）14k鏡片上架時需先將待鍍鏡片確認面別，并對照作業(yè)標準書確定膜系（ V ）1S鏡片上架后，確認鏡片不會掉下來，關門按“STOP”機器自動運行，并選擇好膜系（X ）16、預熔時先

25、把電子槍手/ 自動開關拔到 REMOTE ，把 POCKET 按鈕拔到 MAN ，用上下鍵選擇好要預熔的培竭號按SET （轉動到位）（X）17、按 ACC ON 、 FIL ON ，旋 EMISSION 一點（看到光班），旋控制柜面板上的POSITION/SCAN X與Y位置把位置定到邊緣（X ）1&預熔H4時，電子槍電流只加到100 150 MA就可以預熔好材料（X ）19在鏡片鍍膜前先需核對所鍍鏡片與流轉單是否相符（ V ）2R設備點檢每周一次，發(fā)現(xiàn)異常及時修理（ X ）21、機器按規(guī)定每月一次大洗，每天定期換護板（ X ）22、電子槍擋板更換周期為每四罩一次（X ）2&按

26、點檢表內容和操作過程實際情況認真填寫（操作一步、填寫一步）（ V ）24記錄者可以只寫姓氏，不寫工號（ X ）25若點檢發(fā)現(xiàn)有與要求不相符的情況出現(xiàn)時需及時向線長匯報，并認真記錄在設備點檢表內（，）2&膜料、輔料領用時先填寫領用單，由車間授權人員簽字后向成品倉庫領用（ V ）27、在安裝新品振時，發(fā)現(xiàn)晶振壽命不好，把那片新品振取下扔掉，重新?lián)Q上新品振（X ）2&添加SIO2膜料藥勺可以拿來添加氟化鎂膜料（ X ）29在添加好膜料后，各種膜料瓶子放到機器旁邊就可以了（ X ）3R鍍膜員工可以保管不合格鏡片（ X ）31、報廢片與合格片需在同一個盒子內擺放，防止混淆（ X ）32、

27、不合格鏡片非專職人員可以隨便拿?。╔ ）3&韓一機器、昭和機器和新科隆機器中，顯示真空度單位都是一樣的（ X ）34韓一機器可以利用光控進行膜厚控制（ X ）3s新科隆機器既可以利用光控控制也可以利用晶振控制（ V ）3&昭和機器可以利用舊的晶振裝到機器上進行鍍膜控制（ V ）37、昭和機器和新科隆機器，在鍍 TIO2時光控走動方向一樣（X ）3&昭和機器和新科隆機器電子槍都是 270度（V ）39韓一機器和新科隆機器的電子槍都是 270度（X ）4R在裝韓一電子槍時，裝好電子槍燈絲擰緊電子槍燈冒，但擰緊之后又要倒轉1/4圈（，）41、符號表示分光膜（X ）42、目前本

28、部鍍膜機配制的膜厚控制儀有 MDC360、IC-5和XTC-2 （ X ）43、需連續(xù)預熔下個坩堝時，不需要把EMISSION （電流）旋小，只把下一個坩鍋轉到位就開始預熔（X ）44、韓一機器在鍍膜時，修正板全部是自動升降的（X ）4s新科隆和昭和機器在鍍膜時，修正板全部是自動升降的（，）4&昭和鍍月M機在鍍IR-CUT時，真空度抽到5.0E-5Torr,開始自動預熔SIO2膜料（X ）47、電子槍光斑X方位置偏移不在中心時，我們只需調節(jié) XP （，）4&在相同光斑條件下，電子槍鍍 AL2O3電流跟MGF2電流大小差不多（X ）49鍍膜機鍍膜結束，不需要冷卻可直接充氣（ X

29、）5R每次更換晶振，除了我們換上新的晶振，還必須把晶振頭也清洗干凈（ V ）三、簡答題。1簡述在鍍膜過程中產(chǎn)生雜質的原因和對策？答： 原因 對策1.電子槍周圍沒有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件2 坩鍋沒有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈3 鍍膜時電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時必須把電子槍光斑打到中間而不能打偏 4 預熔材料不透徹把膜料充分地預熔透徹 5 預熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6.電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料2從操作角度來看，如何操作和保養(yǎng)

30、才能讓一臺鍍膜機的膜系穩(wěn)定？答：本題是員工自由發(fā)揮題目，沒有明確答案，可以從以下三個方面考慮：1、如何按照作業(yè)指導書進行操作？2、如何維護設備日常保養(yǎng)？3、在鍍膜時出現(xiàn)問題時，怎樣去解決這些問題？3簡述一下鍍金屬膜注意事項？答：高的真空度 、低基板溫度、 快蒸4、在使用擴散泵應注意那些事項？答 1、冷卻水不足，必須關閉擴散泵，否則輕則會造成返油，重則會使擴散泵過熱造成擴散泵油燒焦。（機器若有自動保護裝置，會自動停止擴散泵加熱，并報警） 2、擴散泵必須在低真空閥關閉，預抽閥開啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時才能打開，否則會造成真空室返油5、 光控控制的機器在鍍TIO2 ， 光控程序設定為 STAR

31、T 90 PERK 1 STOP 10而現(xiàn)在的光控曲,線鍍到 80 時突然報警，而必須退出程序重新加鍍，請問如何設置程序進行加鍍？答：首先把START值從90改到80,然后重新加鍍這一層，讀出極值點數(shù)值，這時過振量應該這樣計算 STOP®=（結束值-PERK值）/ （90-PERK值）*1006、為什么要在高真空下鍍膜？答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對高熔點的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下， 真空室中空氣極少， 膜料分子從蒸發(fā)源到達基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即

32、分子自由程長。膜料容易沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會與之發(fā)生化學變化，從而保證膜層的膜料純度。7、晶振水堵塞后你怎么進行疏通?答：把晶振冷卻水管進口、出口從連接處斷開，并把閥門關上，用壓縮空氣氣槍從進口處吹 入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？8、鍍膜機在自動鍍膜時發(fā)生報警，而作為一名操作員工應如何處理報警？答：首先按報警暫停按紐，查看報警內容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導書是否有，如沒有向線長匯報，由線長再向技術人員詢問如何解決，直到報警內容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。9、利用光控控制，上一

33、罩鍍出IR-CUT,測試曲線波長最長672nm、最短是666nm而現(xiàn)在要鍍650± 10 IR-CUT濾色片，請問如何更改參數(shù)？答：=所有光控控制波長X 650/672 10.根據(jù)你的工作經(jīng)驗，從外表看，如何區(qū)分AL2O3 和 MGF2 材料？答：從形狀來看：AL2O3顆料比較有梭角，MGF2膜料更碎；從顏色來看：AL2O3的顏色要暗一些， MGF2 的顏色要亮一些。11 作為一名交班者， 你個人認為應該讓接班者清楚哪些事情,同時作為一個接班者你個人認為應該從前一班中清楚哪些事情？答：本題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個方面答題 1、本班在上班時，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以及用的什么膜系來鍍膜的？2