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文檔簡介

1、并解釋不消光現(xiàn)象lP偏振光入射到介質1、2的界面，其反射光遵循如下公式：l當入射角和折射角滿足 時， 此時入射角稱為布儒斯特角/tan()tan()EEo=90/0EBBl利用折射定律，可知布儒斯特角滿足下式l若已知背景折射率 ，只要測得 ，就能算得樣品折射率 l對金屬薄膜 為復數(shù)，用布儒斯特角法測量的是21tanBnn1nB2nnn實部l改變入射角度，用光強度計器尋找反射光的位置，并記錄對應入射角的反射光強數(shù)據l尋找反射光光強最小時對應的入射角即是布儒斯特角l利用布儒斯特角計算樣品的折射率實驗光路圖l采用磁控濺射的方法制備銅膜樣品l樣品的制備條件：功率8W，電流0.2A，工作氣壓1Pal控制

2、濺射時間制備不同厚度的樣品樣品編號樣品編號 濺射時間濺射時間/min/min05142332測量得各實驗樣品的折射率樣品樣品編號編號濺射濺射時間時間（minmin）折射率折射率 0 052.141 142.472 233.303 323.451tanBnn介質基底銅膜l反射光強的極小值降到0l完全消光l反射光強的極小值沒有降到0l不完全消光l實驗檢測最小時反射光的偏振性質，確定為P偏振光l影響反射率最小值的兩個因素金屬薄膜折射率的虛部薄膜的兩個界面多次反射l考慮到金屬薄膜具有復折射率：l反射光強公式變?yōu)椋?1sincossincos sincos/sincossincos sincos/inE

3、Ein2211=1nin薄膜介電常數(shù)：空氣介電常數(shù)：分別取參數(shù) 和 ，做反射率隨入射角的變化曲線，反射率的極小值不為零。30l金屬薄膜樣品在界面1、2上都有反射效應l可只考慮界面1、2各反射一次l同時，計及界面2反射光的衰減因子2cos del則反射率的表達式為：l用參數(shù) 和 描述薄膜的厚度和折射率222222222222222222222-2cos -2c22osR1sinsin1ppddrrsinsinnnn cosnnnn cosnsins nnnneine2dnl1、2、3號樣品模擬與實驗結果對比樣品樣品編號編號11.72.521.53.331.43.4參數(shù)表：2 dnl計算結果表明，總反射光強最小值不為零l衰減系數(shù)相關的參量 隨膜的厚度增加而增大l計算結果與實驗曲線符合2dl銅膜經過熱處理以后，樣品的折射率遠大于基底的折射率.其數(shù)值大約為2.53.5l因為樣品的Cu/Cu2O比例不一樣，相同基片上的銅膜，厚度不同，折射率也不同l衰減隨薄膜厚度增加而增加l上下表面多次反射及光吸收模型能成功解釋在布儒斯特角處反射光強不為零的現(xiàn)象l隨后的工作可以通過構建支架，搭建穩(wěn)定性高的光路，來提高測量

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