API4000質(zhì)譜儀培訓(xùn)教程課件

1、API 4000 培訓(xùn)教程LCMS原理和儀器硬件介紹液質(zhì)系統(tǒng)的構(gòu)成測試的樣品通過LC和針泵導(dǎo)入MS中1. 樣品導(dǎo)入離子源用來使樣品帶電；帶電的粒子束通過接口進(jìn)入到質(zhì)量分析器-四級桿中2. 離子源四級桿通過所有的離子或者選擇特定的母離子或者碎片離子；帶電的離子束同時(shí)被四級桿聚焦后傳輸?shù)搅硗庖粋€(gè)四級桿中3. 質(zhì)量分析器- 四級桿檢測器記錄到達(dá)離子的數(shù)量；數(shù)據(jù)分析軟件可以通過這些信息獲得相關(guān)的質(zhì)譜圖，并進(jìn)行定性和定量處理 4. 離子檢測和數(shù)據(jù)分析Q0Q1Q3DFCEMORSKEXIT Q2 (LINAC)質(zhì)譜的性能指標(biāo)質(zhì)量準(zhǔn)確度: 樣品質(zhì)量測量的準(zhǔn)確度。高的質(zhì)量準(zhǔn)確度可以區(qū)分相近分子量的不同化合物。

2、分辨率: 是指分開兩個(gè)峰的能力， 高的分辨率可以提高質(zhì)量準(zhǔn)確度、定性和定量性能。高的分辨率能夠分離更復(fù)雜的物質(zhì)。API 質(zhì)譜系統(tǒng)通過半高峰寬(FWHM)來定義分辨率，用戶可以選擇Low，Unit，High三種分辨率。靈敏度: 物質(zhì)能被測量的最低濃度，不同類型和分子量的物質(zhì)靈敏度會有不同。質(zhì)量范圍: 決定所能測定的最低和最高m/z四級桿質(zhì)譜儀的示意圖Unstable Ion trajectoryStable Ion TrajectorySourceDetectorDC and RF voltages電噴霧離子化（ESI）- IonSpraytm霧化氣使LC導(dǎo)入的液體樣品氣化噴霧針上的高壓使液滴帶

3、電 隨著帶電液滴中溶劑的揮發(fā)形成了離子ESI 離子蒸發(fā)液滴帶有兩種極性的離子，但其中的一種極性占支配地位隨著溶劑的揮發(fā)，液滴表面某種極性的離子增多，電場增強(qiáng)當(dāng)電場超過某個(gè)閾值后，離子互相排斥就從液滴的表面“飛濺”出去殘留物通過廢液系統(tǒng)排出與分析物分子反應(yīng)電暈放電針(NC)帶電的溶劑分子Orifice (DP)Mass AnalyzerX = Solvent MoleculeM = AnalyteCurtain Gas (CUR)真空大氣壓LC 流動(dòng)相簇合物形成加熱霧化(TEM)霧化氣(GS1)APCI離子化過程分為3步進(jìn)行：電暈放電針使離子源的 N2 或 O2 帶電帶電荷的N2 或 O2 傳遞

4、電荷給氣化的溶劑分子帶電荷的氣化溶劑又將電荷轉(zhuǎn)移給分析物大氣壓化學(xué)電離(APCI)四級桿理論四級桿上加載三種類型的電壓:射頻電壓(RF) 固定頻率的振蕩電壓，用來聚焦離子，形成共振離子軌跡.篩選電壓(Filtering DC ，簡稱FDC) 加載在不同的四級桿上(隨RF電壓的變化而變化). 用來篩選所需要通過的離子幫助確定分辨率牽引電壓(Rod Offset Voltage ，簡稱ROV) 用來確定離子軸向飛行能量（即離子通過四級桿的線性速度）的直流電壓。僅有RF電壓時(shí)(RF only)：在四級桿上沒有加載FDC電壓，只有RF與ROV電壓此時(shí)四級桿通過所有的離子，不具有選擇性RF電壓如何聚焦離

5、子180 相移= 離子1. 離子被“B” 桿吸引.2. RF 電壓反轉(zhuǎn)后, 所有的離子被 A 桿吸引. 3. RF電壓反轉(zhuǎn)后, 所有的離子被另外一個(gè) B 桿吸引4. RF 電壓反轉(zhuǎn)后, 所有的離子被另外一個(gè) A 桿吸引. ，重復(fù)以上過程，離子就懸空在四級桿中BABARFRFRFRF180 相移180 相移End ViewBABAABBA僅有RF電壓時(shí) -A 桿 與 B 桿之間的相位相差180離子如何通過四級桿到達(dá)檢測器ABBA*四級桿中的離子的飛行軌跡是否為螺旋形狀或者其他更復(fù)雜的運(yùn)動(dòng)，目前還有爭論到達(dá)檢測器AABB僅有RF電壓時(shí) -A 桿 與 B 桿之間的相位相差180RF和ROV兩種電壓使

6、離子螺旋*飛出四級桿到達(dá)檢測器5917561612541545BAAB906RF only 模式PPG 為例: RF only 模式時(shí)，所有的離子都能通過四級桿To DetectorQ0 & Q2 總為RF only 模式 當(dāng)Q3選擇時(shí)，Q1為 RF only 模式；當(dāng)Q1選擇時(shí)，Q3為 RF only模式 PPG 為例: RF + FDC電壓讓四級桿通過906離子.RF + FDC電壓能過讓所需的離子通過四級桿. 直接通過5917561612541545穩(wěn)定的離子不穩(wěn)定的離子碰撞上四級桿BAAB906RF + FDC到達(dá)檢測器Q0 或者Q2上沒有發(fā)生篩選，所有的離子都能通過.Q1 or Q3

7、Turbo V離子源介紹Turbo Vtm 離子源2個(gè) 750C 加熱頭TIS 或 APCI 探頭液相導(dǎo)入垂直調(diào)節(jié)卡尺水平調(diào)節(jié)卡尺接地或三通分流接頭離子源廢氣排放口噴霧出口電暈放電針 (APCI)Turbo VTM 離子源特點(diǎn)垂直和水平位置精確調(diào)節(jié)內(nèi)化的氣體管路和電路連接，方便使用90角垂直設(shè)計(jì)提供了高效的去溶劑化，提高儀器的耐受性對稱的 750oC 加熱頭兩種離子化探頭: TIS & APCITurbo V 兩種探頭根據(jù)實(shí)際使用情況，調(diào)節(jié)噴霧針露出13mm如何安裝和拆卸離子源拆卸：1. 完成正在進(jìn)行的樣品測試或者從Acquire menu中選擇 Abort Sample command2.

8、Standby儀器停止LC流動(dòng)相，然后Deactivate 儀器3. 松開樣品導(dǎo)入連接管路的Peek 管接頭，移開液相連接管路4. 往上旋轉(zhuǎn)2個(gè)黑色的卡隼松開離子源.5. 水平往外拉Turbo V 離子源安裝離子源1. 對準(zhǔn)真空腔的接口把Turbo V 往里推到正確位置2. 往下轉(zhuǎn)動(dòng)2個(gè)黑色卡隼至水平方向，然后同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)至卡緊為止（離子源是否接好以接口處的密封性評定）3. 連接液相管路到離子源相應(yīng)的接頭處離子源保存：長期不用的離子源建議防塵防潮保存API4000真空系統(tǒng)API 4000 真空系統(tǒng)Q0IQ1Q1Q3DFCEMSKEXIT Q2 (LINAC)OR真空接口四級桿質(zhì)量分析器CAD ga

9、sISCUR760 torr8x10-3 torr1x10-5 torr機(jī)械泵分子泵2分子泵1TP1TP2接口不同處的真空度Q1 區(qū)域10 TorrQ0,入口電壓(EP)6-8 mTorr大氣壓氣簾氣擋板Orifice孔氣簾氣取樣錐孔(Skimmer)Orifice 擋板, 去簇電壓 (DP)1-2 Torr真空差接口-API 4000接口部件-API 4000 系統(tǒng)耐用, 陶瓷材質(zhì)具有化學(xué)惰性接口表面具有加熱功能和氣體連接口安裝簡便聚焦后的離子通過取樣錐孔(Skimmer)進(jìn)入到Q0區(qū)域四級桿內(nèi)部構(gòu)造圖Q0Q1Q2Q3API4000正常真空度范圍CAD=0時(shí)，真空度1.310-5torrCA

10、D=12時(shí)，真空度5.510-5torr具體的真空度值以裝機(jī)時(shí)為準(zhǔn)，當(dāng)系統(tǒng)沒有更換過與真空系統(tǒng)相關(guān)的零件時(shí)，真空度一般不會有大的變化。如果出現(xiàn)真空度太好或者太差的情況，在排除硬件的故障后，一般通過清洗接口可以解決。API4000氣體管路連接a.高純氮（Curtain Gas），輸出壓力0.4MPa（MAX60psi）-用于氣簾氣和碰撞氣b.零級空氣或以上（Gas1/Gas2），輸出壓力0.7MPa(MAX 105psi)為離子源提供霧化氣c.無油空氣或以上（Exhaust Gas），輸出壓力0.35MPa(MAX60psi)為廢氣排放系統(tǒng)提供負(fù)壓API4000主機(jī)控制面板主機(jī)電源開關(guān)按鈕RESET按鈕及儀器狀態(tài)指示燈電源接口液相同步信號接口主機(jī)通訊接口API 4000 開關(guān)機(jī)步驟開機(jī)順序1.打開UPS電源，確認(rèn)Curtain gas的輸入壓力為0.4MPa2.打開機(jī)械泵的電源開關(guān)3.機(jī)械泵工作至少15min5