探索活塞桿鍍鉻的最佳方案

1、探索活塞鍍鉻的最佳方案活塞鍍鉻QC小組2011.8.12010.12.301QC內(nèi)容摘要活塞（501.14.044）的鍍鉻工藝，因其形狀復(fù)雜，容易產(chǎn)生電流集中，一直是困擾我們表面處理車間的一大難題，以前該產(chǎn)品在我們車間的產(chǎn)品合格率只有60%而且生產(chǎn)效率低，經(jīng)過(guò)我們這個(gè)QC小組積極的探索得出了一套最佳的鍍鉻方案。使得產(chǎn)品的合格率達(dá)到95%，生產(chǎn)效率是以前的三倍。2小組概況化學(xué)鍍鎳試驗(yàn)QC小組小組組長(zhǎng)彭新?；顒?dòng)類型現(xiàn)場(chǎng)型成立時(shí)間2011年8月1日小 組 成 員序號(hào)姓名性別職務(wù)小組分工1彭新福男車間主任方案策劃2周傳林男車間調(diào)度方案實(shí)施3張珍香女車間職工方案實(shí)施4周信顯男技術(shù)員方案實(shí)施3選題理由活塞

2、桿的鍍鉻工藝比較有典型性，而且產(chǎn)品數(shù)量多，產(chǎn)品鍍層要求高，我們車間以前多次的生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)局部鍍層過(guò)薄以及局部起鉻瘤等情況4現(xiàn)狀調(diào)查1、以前在沒(méi)有任何工裝的情況下，一般是分兩次鍍鍍，先鍍小端外圓，再鍍大端外圓，生產(chǎn)率低2、小端與大端銜接的外圓根部因電流集中在大端處而使得鍍層變薄，大端處有鉻瘤。3、兩個(gè)小槽的兩邊緣鍍層很薄。4、鉻層的積沉速度太慢。56分析原因一般情況下，電鍍鉻都有一個(gè)深鍍能力與電流集中的問(wèn)題。在生產(chǎn)過(guò)程中，工件比較高的地方就比較吸引電流造成電流集中即搶電流。在深槽的部位，由于電流被槽邊緣吸引導(dǎo)致深槽部位電流迅速減少，金屬鉻層生成變慢，鍍層變薄。7擬定解決方案根據(jù)溶液的深鍍能力以

3、及金屬離子的運(yùn)動(dòng)規(guī)則，我們可以制作合適的工裝，使電流平均分布在工件的表面上，從而使鍍鉻層厚度均勻；即制作專用的金屬墊片與塑料墊片以及鉛條。8方案實(shí)施之一首先是解決小端與大端銜接處小外圓鍍層過(guò)薄大外圓根部有鉻瘤的問(wèn)題。這里主要是由一個(gè)鐵墊圈與一個(gè)塑料墊圈組成，鐵墊圈主要是防止小外圓根部鍍層變薄，大外圓根部有鉻瘤的問(wèn)題；塑料墊圈主要是防止下面的鐵圈端面電流過(guò)高。如圖所示91011方案實(shí)施之二其次，解決的是大端中間兩個(gè)槽臂鍍層比較薄的問(wèn)題。由于這兩個(gè)槽比較小還比較深，大部分電流到不了下面的槽壁，我們想到增加槽里的導(dǎo)電面積進(jìn)行增加槽壁的電流，這里還考慮到導(dǎo)線的導(dǎo)電性與穩(wěn)定性，導(dǎo)線不能被鍍液腐蝕，鉛的穩(wěn)

4、定性符合這個(gè)要求，所以我們選用了鉛線繞在槽里增加電流。121314實(shí)施方案之三再次，解決的是生產(chǎn)過(guò)程中鍍鉻的速度。溶液各種成分的含量直接影響到鍍鉻層的沉積速度，其中的硫酸與三價(jià)鉻是主要的影響因素，在以前，我們沒(méi)具備溶液分析化驗(yàn)的情況下，無(wú)法改進(jìn)其中的成分含量，現(xiàn)在通過(guò)溶液的化驗(yàn)分析，我們嚴(yán)格的把硫酸控制在2.53g/L，三價(jià)鉻控制在28g/L。15成果總結(jié)活塞的鍍鉻工藝難點(diǎn)歸根結(jié)底是控制工件局部搶電流的方法，只要把局部強(qiáng)電流盡可能的分配到弱電流區(qū)，就可以得到比較均勻的鍍層。我們小組經(jīng)過(guò)多次的試驗(yàn)生產(chǎn)證明，這個(gè)活塞鍍鉻工裝的可行性，不但提高了產(chǎn)品的合格率，還提高了生產(chǎn)效率，為后繼的生產(chǎn)打好堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。16存在的問(wèn)題 雖然我們這個(gè)工裝得到了很好的效果，但是我們面對(duì)現(xiàn)實(shí)，也承認(rèn)存在些問(wèn)題，主要是鍍鉻層的外觀不漂亮，基