gdt幾何公差-gd第四講定位

定位公差定位公差用于關聯(lián)形體，必須有參照基準定位公差控制：尺寸形體（孔、軸、槽、凸臺等）間的中心距離尺寸形體作為整體相對

準形體的位置尺寸形體的同軸度d)尺寸形體的同心度或對稱度（相對定位的形體要素的中心距關于一基準軸線或平面的均勻分布性。）定位公差有位置度、同軸度和對稱度三種定位公差Location2位置度–位置度是一個或多個尺寸形體相對于另一個尺寸形體或一個或多個基準的位置關系–

位置 差定義了：?一個尺寸形體的中心點，軸線或中心平面允許偏離理論正確位置的區(qū)域（公差帶）。或?（當MMC或LMC時）一個在理論正確位置的邊界（實際邊界條件），被測形體的表面不允許與該邊界。差可用于MMC，RFS或LMC狀–位置態(tài)理論正確位置公差帶(允許偏離的區(qū)域)定位公差Location3位置

差定義方法–第一步：用基本尺寸定義出形體的理論正確位置定位公差Location1.極座標理論尺寸2.直角座標理論尺寸3.注釋定義理論尺寸4.數(shù)模文件定義理論尺寸4位置

差定義方法–第二步：使用形位公差框格定義位置差定位公差Location5位置

差定義方法–第三步：指定基準形體以確定基準：除非被測形體本身建立了第一基準，必須在零件上指定形體或尺寸形體以建立定位被測形體的基準定位公差Location如果沒有指定B的基準形體，那就不能確定基準形體是外圓還是內(nèi)圓。6位置

差在RFS–

位置

差及參照基準因設計或功能的要求，可用于RFS。–

當RFS用于圓形尺寸形體的位置

差時，無論形體尺寸大小，均要求每個尺寸形體的軸線或中心點在指定的位置

差帶內(nèi)。–

當位置 差在RFS，比其在MMC或LMC時要求更嚴。定位公差Location尺寸可從25到25.6間變差，但位置度公差帶的大小是直徑0.05的圓柱7位置差在MMC差與形體的MMC狀態(tài)相互關聯(lián)位置位置 差在MMC可由尺寸形體的表面規(guī)則或軸線規(guī)則解釋。當孔在極限變差時，兩種解釋規(guī)則可能不同，此時表面解釋規(guī)則優(yōu)先于軸線解釋規(guī)則。孔按表面規(guī)則解釋：符合尺寸要求孔的表面上沒有任何要素在由參照基準座標系定位的理想邊界（實效狀態(tài)）之內(nèi)8位置

差在MMC2.

孔按軸線規(guī)則解釋：–

當孔在MMC時，形體軸線必須位準座標系定位的圓柱公差帶內(nèi)，圓柱公差帶的大小等于給定的定位公差值–

當孔的非關聯(lián)實際包容體比MMC大時，可對定位公差補償額外的公差。補償量等于非關聯(lián)實際包容體與MMC的差值。9該公式只考慮了孔與軸的公差，并沒有考慮其它的因子位置差在MMC差計算–

位置右圖零件與四根最大直徑為14的軸配合選擇孔的最小直徑為14.25允許的位置

差公式：T

=

H–

FT：位置 差

H：孔的最小直徑F：軸的最大直徑10位置度的0公差值在MMC在MMC時，位置 差帶在尺寸偏離MMC時得到補償。

但當它在理論位置時，如果尺寸超差，有可能在仍能使用的情況下被拒收。使用位置

差在MMC的原則可達到在滿足裝配功能下的最大公差帶。調整孔的尺寸下限等于軸的尺寸上限指定位置度的0公差值在MMC位置度的公差值完全由被測形體的實際包容體的尺寸決定要求在MMC時具有完美的位置。只有當尺寸從MMC向LMC偏離時，才允許有位置誤差。該偏離量即為位置誤差的公差值。11位置

差在LMC差與形體的LMC狀態(tài)相互關聯(lián)位置要求在LMC時具有完美的形狀，而不要求在MMC時具有完美的形狀(公差原則1)。當形體尺寸從LMC向MMC偏離時，該偏離量被補償?shù)轿恢?差上。當功能要求維持一最小距離時，應用LMC與MMC相同，位置 差在LMC可由尺寸形體的表面規(guī)則或軸線規(guī)則解釋。–

當孔在極限變差時，兩種解釋規(guī)則可能不同，此時表面解釋規(guī)則優(yōu)先于軸線解釋規(guī)則。定位公差Location12應用LMC保證最小壁厚定位公差LocationLMC用于單個形體。圖中被測孔相對于內(nèi)孔的位置較重要，可以使用RFS。但使用LMC在確保了壁厚的同時允許有補償公差13應用LMC保證鍵槽中心14定位公差Location位置度的0公差值在LMC在LMC時，位置

差帶在尺寸偏離LMC時得到補償。

但當它在理論位置時，如果尺寸超差，有可能在仍能使用的情況下被拒收。使用位置差在LMC的原則可達到在保證最小距離時的最大公差帶。調整孔的尺寸上限確保滿足功能要求(如最小壁厚，距離等)指定位置度的0公差值在LMC位置度的公差值完全由被測形體的最小材料包容體的尺寸決定15基準修正符用于位置

差用于位置

差的基準可用RMB，

MMB和

LMB當基準在RMB時，無論基準形體的尺寸大小，均要求以實際的基準形體軸線作為被測形體的基準中心。RMB時，當基準形體尺寸變化時，不允許被測形體的位置公差帶相對基準軸線有任何移動或旋轉定位公差Location16基準修正符用于位置

差–

位置 差的參照基準在MMB時，當基準形體的尺寸偏離MMB時，允許基準漂移定位公差Location基準形體B在MMB時，它的軸線決定了被測陣列形體整體的位置。公差帶框架以基準軸線B為中心定位17基準修正符用于位置

差–

位置 差的參照基準在MMB時，當基準形體的尺寸偏離MMB時，允許基準漂移定位公差Location當基準形體B偏離MMB時，基準軸線B與基準形體B的關聯(lián)實際包容體的軸線允許相對運動。對被測形體的影響：該偏離量并不對每個陣列形體內(nèi)的每個形體的位置度公差進行補償，而是陣列形體的公差帶作為一個整體允許偏離基準軸線的移動量對測量方法的影響：如果采用功能檢具來測量零件，該偏離量將自動被累積。如果采用其它測量方法(如CMM)，該偏離量必須通過計算累積到測量結果內(nèi)18基準修正符用于位置

差–

位置 差的參照基準在LMB時，當基準形體偏離LMB時，允許基準漂移定位公差Location1920延伸公差帶用于位置度適用于螺紋孔或過盈配合的銷孔，可避免螺栓和銷與裝配件的當要求螺紋孔具有更嚴的方向誤差時，可標注垂直度的延伸公差帶定位公差Location公差延伸高度延伸公差符號螺紋的位置只對堅固件(螺栓)通過的配合件重要。延伸公差帶的高度要求不小于配合件的高度延伸公差帶用于位置度適用于螺紋孔或過盈配合的銷孔，可避免螺栓和銷與裝配件的當要求螺紋孔具有更嚴的方向誤差時，可標注垂直度的延伸公差帶定位公差Location延伸公差帶用于銷釘孔21臺階孔位置度當只有一個位置差框格置孔及臺階孔的尺寸標注下時，基孔與臺階孔的位置度相同。當有兩個位置差框格分別置孔和臺階孔尺寸標注下時，這兩個位置度分別用

孔或臺階孔下。當位置

差只定義基孔的位置時，臺階孔可以標注其相對于各自基孔的位置度(INDIVIDUALLY)。每個臺階孔的基準是各自的基孔。22位置度的錐形公差帶–

根據(jù)需要，可在長孔的兩端標注不同位置度公差，從而形成一錐形

置

差帶。23尺寸形體的雙向位置

差

–

直角座標(矩形位置

差帶)0.4寬的公差帶(MMC)0.2寬的公差帶(MMC)由相關基準座標系確定的理論正確位置24差尺寸形體的雙向位置–極座標(環(huán)形公差帶)25差差原則同樣適用于非圓尺寸形體(如開口槽，非圓尺寸形體的位置–圓形尺寸形體的位置凸臺及長形孔等)位置度用于定位形體的一組平行平面建立的中心平面位置 差帶是兩平行平面，因此沒有直徑符號26非圓尺寸形體的位置

差–

非圓尺寸形體的位置

差在MMC時，有三種解釋方式a)①②尺寸形體的表面解釋方式尺寸形體符合尺寸要求尺寸形體的任何表面要素均位于一在理論位置的理想邊界內(nèi)27非圓尺寸形體的位置

差–

非圓尺寸形體的位置

差在MMC時，有三種解釋方式b)①尺寸形體的中心平面解釋方式尺寸形體的中心平面應位于按理論位置均勻分布的兩平行平面內(nèi)。兩平行平面差值。差值只適用于當

尺寸形體在MMC狀態(tài)時。的間距為位置②

標注的位置③

當尺寸形體的非關聯(lián)實際包容體的尺寸偏離MMC時，偏離量允許被補償?shù)轿恢貌钌稀?8非圓尺寸形體的位置

差–

非圓尺寸形體的位置

差在MMC時，有三種解釋方式c)

尺寸形體的邊界解釋方式①

應用于尺寸形體的位置

差建立了形體表面相對于一理論邊界的控制。②在尺寸形體滿足尺寸邊界的前提下，其表面不能與一位于理論位置與表面相同形狀的理論邊界差值③

邊界的尺寸等于

尺寸形體的MMC減去位置邊界解釋同樣適用于其它不規(guī)則尺寸形體(如D形孔)29球狀形體的位置差球形形體的位置

差帶一般為球形公差帶，公差值前應加球徑標記當要求公差帶為其它形狀時與圓形形體的雙向公差帶相似30軸線不平行的陣列孔的位置差31重復基準座標的重復陣列形體的位置度需有兩個INDIVIDUALLY標注，其一置

準符號下方或側面，另一個置于形位公差框格的下方或側面。當有多段形位公差框格時，標志應置于適用段的側面。應注明重復的數(shù)量。32陣列形

置度陣列形體是指一組具有相同尺寸大小和形狀并按一定規(guī)律排列的形體陣列形體通常需要多層次的位置度控制?

要求陣列形體內(nèi)的各個形體的相互位置公差較小?

陣列形體作為整體相對

準的位置公差較大多層次的位置度控制可通過復合位置度或多段獨立位置度來實現(xiàn)定位公差Location33復合位置度只有一個位置度符號，適用于多段水平公差框格上框格描述的是陣列形體作為一個整體的位置 差，稱為陣列位置公差框格

Pattern-Locating

Tolerance

Zone

Framework(PLTZF)下框格描述的是陣列中各個形體相互間的位置及方向公差，稱為形體相關公差框格Feature-Relating

Tolerance

Zone

Framework(FRTZF)定義PLTZF位置的基本尺寸不用于定義FRTZF的位置如果下公差框格中沒有參照基準，則FRTZF可在PLTZF定義的公差帶內(nèi)任意移動或轉動。如果

下公差框格中有參照基準，則該基準約束FRTZF在PLTZF定義的公差帶內(nèi)旋轉

度。當下公差框格中有參照基準時，這些基準必須是按序重復上框格中的基準的一部分或全部。有時重復的基準并不約束任何

度，但為了滿足同一基準座標系的要求，還是必要的。被測形體必須同時滿足PLTZF和FRTZF的公差帶定位公差Location下公差框格內(nèi)參照基準只約束旋轉

度，不約束移動

度；只控制方向，不控制位置。34復合位置度–

板類零件重復第一基準定位公差Location35復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按中心解釋)1.

第一步：分析上公差框格定位公差Location陣列位置公差帶必須垂直

準平面A，并由B，C基準平面定位36復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按中心解釋)2.

第二步：分析下公差框格定位公差Location形體相關公差帶必須垂直準平面A，但可在陣列位置公差帶內(nèi)上下左右平移或轉動。形體相關公差帶可能有部分超出陣列位置公差帶，但超出部分不能被使用。37復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按中心解釋)3.

第三步：綜合分析定位公差Location38復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按表面解釋)1.

第一步：分析上公差框格陣列位置邊界必須垂直準平面A，并由B，C基準平面定位39復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按表面解釋)2.

第二步：分析下公差框格定位公差Location形體相關邊界必須垂直于基準平面A，但不約束其它

度40復合位置度–

板類零件重復第一基準

(按表面解釋)3.

第三步：綜合分析定位公差Location兩個邊界條件都能分別滿足的零件才是合格的。41復合位置度–

板類零件重復第一、第二基準42復合位置度–

板類零件重復第一、第二基準形體相關公差帶必須垂直

準平面A，平行

準平面B，但可在陣列位置公差帶內(nèi)上下左右平移（但不能轉動）。形體相關公差帶可能有部分超出陣列位置公差帶，但超出部分不能被使用。43復合位置度–

盤類零件重復第一基準形體相關公差帶必須垂直準平面A，但可在陣列位置公差帶內(nèi)上下左右平移或轉動。形體相關公差帶可能有部分超出陣列位置公差帶，但超出部分不能被使用。44復合位置度–

盤類零件重復第一基準(徑向陣列孔)1.

第一步：分析上公差框格45復合位置度–

盤類零件重復第一基準(徑向陣列孔)2.

第二步：分析下公差框格46復合位置度–

盤類零件重復第一基準(徑向陣列孔)3.

第三步：綜合分析當下公差框格沒有參照基準時，F(xiàn)RTZF可以在PLTZF中任意轉動或移動。當下公差框格中有參照基準A時，限制了FRTZF的旋轉(只能平行

準平面A)。FRTZF可能超出PLTZF，但超出部分不能被使用。47復合位置度–

盤類零件重復第一、第二及第三基準(徑向陣列孔)FRTZF必須平行

準平面A，垂直

準軸線B和基準中心平面C，但可在PLTZF內(nèi)上下左右平移。當基準形體B和C在MMC狀態(tài)時不能轉動，當基準形體B和C偏離MMC狀態(tài)時可以轉動，但轉動量受該偏離量限制。形體相關公差帶可能有部分超出陣列位置公差帶，但超出部分不能被使用。48復合位置度–

多段復合位置度只有在第一段公差框格的參照基準同時約束平移和旋轉度，第二段及以下段的參照基準只約束旋轉

度。因此第一段建立的PLTZF，其余各段建立的是FRTZF。被測形體的軸線必須同時滿足所有的公差帶。公差帶平行于A公差帶平行于A和B，并由A、B定位公差帶平行于A和B49復合位置度–

多段復合位置度當沒有參照基準時，說明它建立的兩個同軸直徑為0.07公差帶不受任何基準約束旋轉度。它可在PLTZF內(nèi)任意移動或轉動。50兩（多）段獨立位置度多段獨立位置度提供了對被測尺寸形體的多個位置度控制要求，它同時控制了陣列形體的位置及陣列間各形體的相互關系(定向及定位)。公差框格的每一段都必須有位置

差符號每一段的參照基準不允許完全重復其它段的參照基準第一段公差都必須單獨評估驗證每一段公差框格定義的公差帶既不是PLTZF，也不是FRTZF。因為這些術語只用于復合位置度。定位公差Location51兩（多）段獨立位置度定位公差Location第二段公差帶必須垂直準平面A，平行準平面B，并于B基準的距離定位。但可在第一段公差帶內(nèi)左右平移。第二段公差帶可能有部分超出第一段位置公差帶，但超出部分不能被使用。52兩（多）段獨立位置度定位公差Location第二段公差帶垂直準平面A，并由基準A、B定位。它可以在第一段公差帶內(nèi)繞B基準旋轉。它可能會超出第一段公差帶的邊界，但超出部分不能被使用53兩（多）段獨立位置度－徑向陣列孔要求第二段公差帶與第一段公差帶同軸陣列孔的軸線必須同時位于兩個公差帶內(nèi)定位公差Location第二段公差帶平行

準平面A，并由基準A、B定位。它可以在第一段公差帶內(nèi)繞B基準旋轉。它可能會超出第一段公差帶的邊界，但超出部分不能被使用54位置度控制同軸陣列形體–一般使用復合位置度控制同軸陣列形體定位公差LocationFRTZF可以在PLTZF內(nèi)傾斜或移動。它可以超出PLTZF，但超出部分不能被使用55定位公差Location位置度控制同軸陣列形體一般使用復合位置度控制同軸陣列形體當孔的直徑不同時可標注“TWOCOAXIAL

HOLES”FRTZF必須平行 準平面A和B，它可以在PLTZF內(nèi)移動，但不能轉動。它可以超出PLTZF，但超出部分不能被使用。被測孔的軸線作為整體必須同時位于兩個公差帶內(nèi)。56位置度的同步要求相同的基準座標系相同的基準順序相同的基準修正符號不需要同步時需注明“SEP

REQT”當滿足同步要求時，來自基準的最大實體補償量將受到兩個(組)形體實際位置的相互制約。在用CMM測量時一般不考慮基準的補償量。57定位公差Location位置度的同步要求–同步要求在RMB時定位公差Location所有的定位尺寸均是基本尺寸，所有的測量均在同一個基準座標系內(nèi)，因此可將所有的位置度作為單一的要求來測量。58陣列形體的多位置

差控制當參照基準不同，參照基準的修正符不同或參照基準相同但順序不同時，不能使用復合位置度。使用第二段的位置

差框格作為一獨立的位置度要求定位公差Location59同軸形體的控制同軸是指回轉體表面的非關聯(lián)實際包容體或非關聯(lián)最小材料包容體的軸線、中位與另一形體的軸線或一基準軸線共線的條件。同軸偏差根據(jù)功能需要可選擇位置

差、跳動

差、同軸

差或輪廓

差來控制：如果要控制形體的軸線或表面，并使用RFS、MMC或LMC材料條件，

使用位置

差b)

如果要控制形體相對于一基準軸線的表面，則

使用跳動

差c)使如果設計要求控制形體中位點與一基準軸線的關系或非圓形體的同軸關系，用同軸

差使用d)

如果要求對形體的尺寸大小、形狀、方向和位置綜合控制在公差值內(nèi)，則輪廓

差定位公差Location60同軸形體的控制

–

位置

差位置 差可以在RFS，MMC或LMC參照基準可以在RMB，MMB或LMB當要求同軸度控制在它的尺寸界限時，可標注0公差值在MMC，其參照基準通常在MMB時。定位公差Location61同軸形體的控制–位置