試點單位專利管理實務培訓班課件

專利挖掘、布局及信息運用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識產(chǎn)權服務中心周佳專利挖掘、布局及信息運用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識產(chǎn)權1波士頓矩陣分析波士頓矩陣分析2知識產(chǎn)權能為企業(yè)帶來什么？OR企業(yè)需要知識產(chǎn)權為其帶來什么？知識產(chǎn)權能為企業(yè)帶來什么？3市場競爭優(yōu)勢政府獎勵專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的作用市場競爭優(yōu)勢政府獎勵專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的4知識產(chǎn)權是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元，占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號，AOL宣布與微軟達成協(xié)議，以10.56億美元向后者出售800件專利和專利申請，平均每件專利支付125美元。4月25日消息，微軟以5.5億美元的價格把收購的多數(shù)AOL的專利轉(zhuǎn)手賣給facebook知識產(chǎn)權是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益5知識產(chǎn)權是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價值財務資本知識資本財務資本貨幣資本人力資本關系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶關系供應商關系專利商標權著作權工作流程商業(yè)秘密知識產(chǎn)權是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價值財務資本知識資本財務資6激勵和保護創(chuàng)新，降低經(jīng)營風險創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商和部分國外廠商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機標準的研制創(chuàng)新成果二：申請了一件雙模雙待相關的專利創(chuàng)新成果三：在運營商重組之前，讓雙模雙待手機標準進入實用階段研發(fā)保護實施申請?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱：CDMA/GSM雙模式移動

通信的方法及通信設備申請人：華立集團有限公司激勵和保護創(chuàng)新，降低經(jīng)營風險創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商7e.g.2CD的展會e.g.2CD的展會8五力模型BECDA和下游廠商的議價能力和供應商的議價能力潛在競爭者的競爭能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對手的競爭較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競爭力五力模型BECDA和下游廠商和供應商的議價能力潛在競爭者的競9同一IP管理大師的不同策略同一IP管理大師的不同策略10明確企業(yè)所需知識產(chǎn)權帶來的價值，這是企業(yè)知識產(chǎn)權管理的魂魄！明確企業(yè)所需知識產(chǎn)權帶來的價值，這是企業(yè)知識產(chǎn)權管理的魂魄！11專利挖掘?qū)＠诰?2專利挖掘技術成果技術成果專利申請素材專利挖掘?qū)＠诰颍钦驹趯＠囊暯牵瑢姺钡募夹g成果進行剖析、拆分、篩選以及合理推測，進而得出各技術創(chuàng)新點和專利申請技術方案的過程。專利挖掘技術成果技術成果專利申請素材專利挖掘?qū)＠诰?，是站?3專利挖掘的意義挖掘思路對于技術研發(fā)起到重要的指導作用，挖掘期間分析出來的所有可能存在專利申請素材的創(chuàng)新點都可以是進一步研發(fā)的方向能夠從基礎專利出發(fā)梳理出所有的關聯(lián)技術點及其對應的外圍專利，從而為基礎專利建立牢固的保護網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專利保護的漏洞，并且能以現(xiàn)有技術成果為基礎，將專利保護的范圍延伸到所有可能具有專利申請價值的技術點專利挖掘的意義挖掘思路對于技術研發(fā)起到重要的指導作用，挖掘期14專利法所稱的技術方案：運用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、生活中某一特定技術問題的具體構(gòu)思，是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案，是利用自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實驗中各種問題的技術解決方案。方法專利挖掘的對象

技術方案

產(chǎn)品專利法所稱的技術方案：運用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、15專利挖掘的對象

產(chǎn)品

方法

新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法

已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品改進后的產(chǎn)品

結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品

材料發(fā)生改變的產(chǎn)品

組合而成的產(chǎn)品專利挖掘的對象產(chǎn)品方法新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法已有16可申請專利研發(fā)成果的典型特點技術效果技術問題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術沒能解決的技術問題采用的技術實現(xiàn)過程與現(xiàn)有技術不同取得的技術效果比現(xiàn)有技術有進步技術方案可申請專利研發(fā)成果的典型特點技術效果技術問題C1C2C3解決17誤區(qū)一：專利的技術含量必須很高能夠獲得專利的依據(jù)是專利法對于

專利的審查標準（新穎性和創(chuàng)造性

等），不是該專利能否符合國家的

技術進步獎要求，也不是技術含量

的高低。專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)一：專利的技術含量必須很高專利挖掘常見的誤區(qū)18案例一：用于干燥長條形面食的桿技術問題：面條掛在桿上送入干燥室，面條容易粘在桿的表面，桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。

專利挖掘常見的誤區(qū)案例一：用于干燥長條形面食的桿專利挖掘常見的誤區(qū)19誤區(qū)二：簡單的結(jié)構(gòu)不能專利專利挖掘常見的誤區(qū)專利挖掘常見的誤區(qū)20專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴技術問題：現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴，噴射低壓條件下的粘稠液體時容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象，維護麻煩。專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴21專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲器通用串行總線

快閃存儲器的外存儲使用方式簡單的結(jié)構(gòu)更應該利用專利保護，防

止競爭對手仿制專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲器通用串行總22專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請專利專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請專利23專利挖掘常見的誤區(qū)發(fā)明、實用新型和外觀設計保護的是什么？對于機械、機電、電子類產(chǎn)品而言，技術內(nèi)涵可通過構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來表達樣機、樣品制作耗時專利申報的原則專利挖掘常見的誤區(qū)24專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個專利專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個專利25專利挖掘常見的誤區(qū)手機外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋果三星專利挖掘常見的誤區(qū)手機外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機或部件電路攝26專利布局專利布局27專利布局的戰(zhàn)略：AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市專利布局的戰(zhàn)略：AAAAAAAA大樹底下種草28高功率鋁銦鎵氮基礎發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比，定義了細長的幾何高功率鋁銦鎵氮基礎發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有29權利要求布局上位權利要求權利要求布局上位權利要求30下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略31專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求32專利布局的戰(zhàn)略：ALEDCHIPABCDABCHLEDPACKAGEPOWERLEDPACKAGEABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市BACKLIHTDEVICESCANNINGDEVICEILLUMINATEDEVICE專利布局的戰(zhàn)略：ALEDAALEDLEDAA大33專利布局的戰(zhàn)略：B權利要求同時布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高專利布局的戰(zhàn)略：B權利要求同時布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權舉34專利布局的戰(zhàn)略：C權利要求同時從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高模塊設備專利布局的戰(zhàn)略：C權利要求同時從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)35LG’sUS5835139LG’sUS583513936試點單位專利管理實務培訓班37傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但是造成外板太厚……傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但38上框套在下框內(nèi)把4個螺絲改從側(cè)邊通過下框鎖住上框。easy上框套在下框內(nèi)39解決方案解決方案40專利主題：液晶顯示器螺絲在這專利主題：液晶顯示器螺絲在這41由7件專利構(gòu)成專利布局

-Filedfrom3JUL1997to28DEC200135個權利要求獨立項

-ALCD-AmethodofmakingaLCDdevice-Aportablecomputer-Amethodofmakingaportablecomputer-Akitforassemblingadisplaymodule-housingassemblyforaLCDmodule專利布局由7件專利構(gòu)成專利布局專利布局42目的

-簡單的創(chuàng)意，獨特的發(fā)明，強大的專利布局

-擴大訴訟之求償基礎與許可談判之能力

-獲取的權利金遠超過專利申請費用專利布局目的專利布局43LPLvs

中華映管VSLPL于2002年8月在美國加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專利（US6002457,US5926237，US6373537,US6020942）,與二件方法專利（US4624737,US5825449）LPLvs中華映管VSLPL于2002年8月在美國加州控44TOP10PATENTAWARDIN2006TOP10PATENTAWARDIN200645尋找訴訟對象尋找訴訟對象46他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount”技術，并非LCD相關的核心技術，而是周邊的應用技術；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術只是周邊的應用技術，但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術并非LCD相關產(chǎn)品的核心技術，但卻可以拿到專利權，并經(jīng)過良好的撰寫，使得可以得到很大的專利范圍；經(jīng)過不斷的回避設計，可以形成完整的專利組合，阻卻別人使用或者進入。他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount47專利布局的戰(zhàn)略-D權利要求同時從核心組件布局到應用產(chǎn)品核心組件應用產(chǎn)品侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高成品專利布局的戰(zhàn)略-D權利要求同時從核心組件布局到應用產(chǎn)品核心組48從一件專利看專利布局從一件專利看專利布局49試點單位專利管理實務培訓班50試點單位專利管理實務培訓班51試點單位專利管理實務培訓班52試點單位專利管理實務培訓班53試點單位專利管理實務培訓班54試點單位專利管理實務培訓班55試點單位專利管理實務培訓班56試點單位專利管理實務培訓班57試點單位專利管理實務培訓班58試點單位專利管理實務培訓班59試點單位專利管理實務培訓班60試點單位專利管理實務培訓班61試點單位專利管理實務培訓班62試點單位專利管理實務培訓班63試點單位專利管理實務培訓班64試點單位專利管理實務培訓班65試點單位專利管理實務培訓班66全球?qū)＠季秩驅(qū)＠季?7試點單位專利管理實務培訓班68專利布局的地區(qū)（國家）從法律所給予專利的權利進行思考-中國專利法第十一條發(fā)明和實用新型專利權被授予后，除本法另有規(guī)定的以外，任何單位或個人未經(jīng)專利權人許可，都不得實施其專利，即不得為生產(chǎn)經(jīng)營目的制造、使用、銷售、許諾銷售、進口其專利產(chǎn)品，或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售、進口依照該專利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷售地區(qū)、出口地區(qū)等，都應該進行專利布局。專利布局的地區(qū)（國家）從法律所給予專利的權利進行思考69專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進行專利布局-賠償金較高-和解金、許可費、權利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進行專利布局-賠償金較高再次由訴訟費用高、賠償金額大的地區(qū)進行專利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進行專利布局70信息利用信息利用71世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻中都有記載如果能夠有效利用專利信息，可以縮短60%的研發(fā)周期，節(jié)省40%的研發(fā)費用。世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻中都有記載72比亞迪的經(jīng)驗-模仿宣言一家技術型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上，在繼承的基礎上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專利，突破西方企業(yè)的專利封鎖是極為關鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開發(fā)，60%來自公開文獻，30%來自現(xiàn)成樣品，自身的研究實際上只有5%左右。我們大量使用非專利的技術，把專利技術剔除掉，非專利技術的組合就是我們的創(chuàng)新。專利需要尊重，但可以回避。比亞迪的經(jīng)驗-模仿宣言一家技術型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩73借鑒競爭對手經(jīng)驗并繞開競爭對手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權了解該領域?qū)＠季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過程中研發(fā)立項前研究競爭對手是否落入自己的專利權利范圍，通過專利分析指導研發(fā)人員進行后續(xù)的技術升級專利信息利用對于研發(fā)立項和產(chǎn)品上市的各個環(huán)節(jié)都非常重要！借鑒競爭對手經(jīng)驗并繞開競爭對手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權74反映出某技術領域的技術發(fā)展趨勢反映出某技術領域的技術發(fā)展趨勢75本領域的申請主要來自職務發(fā)明，說明本領域技術水平較高，非職務發(fā)明人的技術力量難于參與到本領域的研發(fā)工作中來。職務發(fā)明比例高，使專利申請的技術水平得到了保證，也有利于專利技術的轉(zhuǎn)化實施和保護。職務發(fā)明比例本領域的申請主要來自職務發(fā)明，說明本領域技術水平較高，非職務76某技術領域中國專利申請人的申請國家分布我國38%的專利申請是由國外申請人提出的，國外申請人中美國、日本、德國的比例最高，說明這幾個國家較為重視中國市場。某技術領域中國專利申請人的申請國家分布我國38%的專利申請是77國內(nèi)某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。國內(nèi)某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計78國外某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實力優(yōu)勢。國外某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找79國內(nèi)某技術領域主要申請人的技術構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領域的主要申請人的研究范圍，覆蓋的技術點，以及各個申請人的重點側(cè)重的技術研究點。國內(nèi)某技術領域主要申請人的技術構(gòu)成圖。80利用IPC分類的年度變化來分析重點技術及變化趨勢國外某技術領域技術構(gòu)成年度申請量。國外的專利申請在圖中所示五個IPC小組下的申請量的變化趨勢，以5年為一個周期波動，總體呈上升趨勢，沒有出現(xiàn)明顯技術熱點轉(zhuǎn)移。

利用IPC分類的年度變化來分析重點技術及變化趨勢國外某技術領81國外該技術領域的國別技術構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請為主，這與亞洲國家的研究熱點有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00，與中國情況有相似之處。韓國以B21D7/00為主。臺灣的情況更為特殊，超過一半的申請量都集中在B21D11/12小組下國外該技術領域的國別技術構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/82本領域中國專利授權比例不高，授權專利僅占27%，實審中占38%，公開占3%，視撤專利高達19%，終止占10%，駁回占3%。截至目前有效專利占27%，失效專利占35%，審查中占38%。授權專利的比例較低，說明本領域的專利技術含量不高或撰寫水平較差，很多專利申請達不到專利授權標準而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析本領域中國專利授權比例不高，授權專利僅占27%，實審中占3883技術路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術在各技術分支上的專利申請量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合效率的因素較多，因此業(yè)界對聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術的研究相對比較分散。鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域技術路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域84技術功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域可以看出聚合物鋰離子電池技術領域關注的焦點。在三個主要技術需求方面的專利申請量幾乎持平，明顯高于其余幾個方面，且保持穩(wěn)步增長。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低，業(yè)界對這些技術方向保持著較高的研究熱情。技術功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域可以看出聚合物鋰離子電85專利布局情況三星株式會社的專利布局較為廣泛表明三星株式會社的目標不僅僅是國內(nèi)而是廣闊的全球市場在本國的申請量最大，在美國和日本與其本國接近2000年后開始關注中國市場，對歐洲市場的關注度較低專利布局情況三星株式會社的專利布局較為廣泛86——專利訴訟在被告專利侵權時積極應訴，檢索該專利申請日之前公布的可破壞其專利性的專利文獻，并作為證據(jù)通過訴訟程序無效該專利，保護企業(yè)合法權益。企業(yè)利用專利信息的需求——專利訴訟企業(yè)利用專利信息的需求87應用實例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上，瑞士公司向主辦發(fā)投訴，稱海鷗公司侵權，要求海鷗公司立刻將有關產(chǎn)品撤下展臺并接受處罰。兩天后，巴塞爾國際鐘表珠寶展知識產(chǎn)權委員會宣布，中國天津海鷗手表集團公司對瑞士企業(yè)的侵權投訴提出反訴并勝訴。這是中國企業(yè)首次在世界規(guī)模的國際鐘表珠寶展上成功維權。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國第一只手表在天津誕生。他叫海鷗應用實例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上882012年的展會，自主研發(fā)、擁有核心技術、直徑最小、具有國際水平的同軸陀飛輪女士腕表9日，瑞士歐米茄公司向巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會投訴，稱海鷗表在對同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞，對歐米茄商標構(gòu)成侵權。2012年的展會，自主研發(fā)、擁有核心技術、直徑最小、具有國際89

海鷗集團方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會標識牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞，是對產(chǎn)品的描述，與商標侵權無關。海鷗集團方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會標識牌上使9010日，巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會宣布裁決結(jié)果，海鷗表2012年巴塞爾展會使用的標識牌未對歐米茄注冊商標構(gòu)成任何侵害，駁回歐米茄公司的投訴。10日，巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會宣布裁決結(jié)果，海91專利質(zhì)量專利質(zhì)量92高質(zhì)量專利申請文件1、技術領域、主題把握準確2、說明書滿足充分公開的最低標準3、說明書清楚、完整4、實施例數(shù)量能夠足夠支持權利要求5、權利要求撰寫層次分明、概括范圍適當6、能夠有針對性地保護技術，防止侵權規(guī)避7、充分保護最佳方案，同時競爭對手做選擇性發(fā)明高質(zhì)量專利申請文件1、技術領域、主題把握準確93清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請文件A26.3說明書應當對發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f明

清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請文件A26.3說明書應94目前存在的清楚性、完整性問題p1、由于申請人未理解專利申請文件清楚、完整的重要性，怠于為代理人提供足夠的技術資料

p2、申請人出于保密的考慮，將技術方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來，僅提供一個大致的想法p3、由于申請人對自己使用的技術相當?shù)厥煜?，將技術方案中涉及到的大部分信息都當作現(xiàn)有技術，認為不需要進行詳細介紹目前存在的清楚性、完整性問題95針對上述問題的對策P2缺少申請人欲保密內(nèi)容能滿足專利性嗎?是否繼續(xù)申請?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾堘槍ι鲜鰡栴}的對策P2缺少申請人欲保是否繼續(xù)申請?zhí)峁┎牧匣?6一項申請的發(fā)明點:工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能問題:申請人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類氣體實現(xiàn)一項申請的發(fā)明點:工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料97如果能,（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可以在申請文件中僅提出該類氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進行保密）風險:競爭對手受啟發(fā)研制出最佳氣體并申請專利,會讓自己陷入被動如果能,（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可98如果該材料性能的改進只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則必須在申請文件中指出該特定氣體,否則就只能放棄專利申請.如果該材料性能的改進只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則必須在申請文99注:對可能影響該技術方案能否實現(xiàn)的相關內(nèi)容也要做出具體的描述；但是，對于與技術方案能否實現(xiàn)關系不大、且可以采用多種方法中的任一種實現(xiàn)的內(nèi)容，則可以略寫。如可以將其作為現(xiàn)有技術，僅提到在技術方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。適度描述原則注:對可能影響該技術方案能否實現(xiàn)的相關內(nèi)容也要做出具體的描述100發(fā)明點:對沉積工藝的工藝條件進行改進，以得到

更為均勻的薄膜需要詳述的內(nèi)容:圍繞該沉積工藝;如，說明本技術方案中所用的沉積設備的結(jié)構(gòu)、原理等，沉積薄膜時所用的各種反應氣體、載氣體等；列出沉積時所選用的各工藝條件（如溫度、氣壓、功率等）及原因，沉積過程中各工藝條件的改變對薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。發(fā)明點:對沉積工藝的工藝條件進行改進，以得到101不需要詳述的內(nèi)容:對于襯底的相關描述.如，如何利用拉晶等方式形成襯底，其的結(jié)構(gòu)有什么特點（如其晶向等），它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。適度描述舉例不需要詳述的內(nèi)容:對于襯底的相關描述.如，如何利用拉晶等102說明書公開充分

說明書對技術內(nèi)容的公開所需達到的程度，即需達到所屬技術領域的技術人員按照說明書記載的內(nèi)容，不付出創(chuàng)造性勞動就能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g方案，解決其技術問題，并且產(chǎn)生預期的技術效果的程度。說明書公開充分

說明書對技術內(nèi)容的公開所需達到的程度，103說明書未公開充分情形及舉例

1.說明書只描述了任務或目標，并描述了實現(xiàn)該任務或目標之后所取得的效果和功能，但是沒有給出任何實現(xiàn)該任務或目標的具體技術手段。說明書未公開充分情形及舉例

1.說明書只描述了任務104說明書未公開充分情形及舉例

例1.一種有關飛行器（飛碟）的發(fā)明專利申請，僅僅描述了其實現(xiàn)的功能是可以垂直起降、瞬間達到10倍音速的飛行速度，可以急停急轉(zhuǎn)；并且描述了借助該飛行器人類可以實現(xiàn)自由來往于星球之間的夢想。但是說明書并沒有公開該飛行器的具體結(jié)構(gòu)和如何實現(xiàn)上述超級功能的具體技術手段。說明書未公開充分情形及舉例

例1.一種有關飛行器（飛105說明書未公開充分情形及舉例

2.說明書給出了含糊不清的技術手段，本領域技術人員無法根據(jù)說明書的描述實施該技術手段。說明書未公開充分情形及舉例

2.說明書給出了含糊不清的技106說明書未公開充分情形及舉例

例2.在一件涉及金屬材料處理方法的專利申請中，申請人公開了在一定的溫度下對某材料進行回火處理的步驟，但是沒有公開具體的溫度范圍。也就是說，說明書給出了技術手段（回火），但是該技術手段是含糊不清的，即本技術領域的人員并不能得知在多高的溫度下進行回火處理會達到本發(fā)明的技術效果。說明書未公開充分情形及舉例例2.在一件涉及金屬材料處理方107說明書未公開充分情形及舉例

3.說明書給出了技術手段，但是實施該技術手段之后，并不能解決發(fā)明或?qū)嵱眯滦退鉀Q的技術問題，達到所需的效果。說明書未公開充分情形及舉例3.說明書給出了技術手段，但是108說明書未公開充分情形及舉例

例3.說明書中僅僅描述了本發(fā)明的技術方案，沒有結(jié)合本發(fā)明的具體技術方案描述其運作原理和過程，更沒有描述其達到的技術效果。審查員從說明書公開的內(nèi)容中無法得知本發(fā)明的技術方案是否實現(xiàn)了發(fā)明目的，達到了發(fā)明效果，因此這也是一種典型的公開不充分的情形。說明書未公開充分情形及舉例例3.說明書中僅僅描述了本發(fā)明109說明書未公開充分情形及舉例

4.說明書給出了具體的技術手段和有關實驗結(jié)果的數(shù)據(jù)作為技術效果，但是未揭示發(fā)明的機理。說明書未公開充分情形及舉例4.說明書給出了具體的技術手段110說明書未公開充分情形及舉例

4.一件發(fā)明專利申請，涉及一種降低汽車排氣中有害物質(zhì)的方法。該申請公開了詳細的技術手段，即首先將光學儲存介質(zhì)（CD盤片或DVD盤片）插入到玻璃、石英沙或淤泥中2～3周，然后將該處理過的盤片設置在汽車排氣管路中。同時說明書給出了多組數(shù)據(jù)對比了設置盤片之前與之后污染物的含量變化，證明了該方法確實可以取得有益的技術效果。說明書未公開充分情形及舉例4.一件發(fā)明專利申請，涉及一種111說明書未公開充分情形及舉例

審查員意見:審查員認為說明書中沒有公開處理過的CD盤片與汽車尾氣之間發(fā)生了何種物理/化學變化，從而導致了尾氣中的有害物質(zhì)的減少，即沒有揭示本發(fā)明的工作機理，屬于公開不充分。說明書未公開充分情形及舉例審查員意見:審查員認為說明書中沒112說明書未公開充分情形及舉例代理人認為，只要利用了自然規(guī)律的技術方案，即使這種自然規(guī)律暫時還沒有被人類所認識，只要技術方案完整，取得了有益效果，均符合專利授權的要件。另外，本技術領域的普通技術人員在實施該專利時，只要按照申請文件中記載的技術方案進行實施即可取得相應的技術效果，無需付出創(chuàng)造性的勞動，更無需得知其具體的工作原理和運作機理，因此符合充分公開的要求。另外，代理人還舉例了審查指南中有關黑色橡膠的發(fā)明，即當時的發(fā)明人將30％的炭黑加入到橡膠中，結(jié)果達到了預想不到的高強度和耐磨性，盡管當時發(fā)明人并不知道其中原因和機理，但是本技術領域的普通技術人員完全可以根據(jù)該記載實施，因此符合充分公開的要求。說明書未公開充分情形及舉例代理人認為，只要利用了自然規(guī)律的技113ThanksforlisteningThanksforlistening114演講完畢，謝謝觀看！演講完畢，謝謝觀看！115專利挖掘、布局及信息運用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識產(chǎn)權服務中心周佳專利挖掘、布局及信息運用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識產(chǎn)權116波士頓矩陣分析波士頓矩陣分析117知識產(chǎn)權能為企業(yè)帶來什么？OR企業(yè)需要知識產(chǎn)權為其帶來什么？知識產(chǎn)權能為企業(yè)帶來什么？118市場競爭優(yōu)勢政府獎勵專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的作用市場競爭優(yōu)勢政府獎勵專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的119知識產(chǎn)權是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元，占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號，AOL宣布與微軟達成協(xié)議，以10.56億美元向后者出售800件專利和專利申請，平均每件專利支付125美元。4月25日消息，微軟以5.5億美元的價格把收購的多數(shù)AOL的專利轉(zhuǎn)手賣給facebook知識產(chǎn)權是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益120知識產(chǎn)權是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價值財務資本知識資本財務資本貨幣資本人力資本關系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶關系供應商關系專利商標權著作權工作流程商業(yè)秘密知識產(chǎn)權是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價值財務資本知識資本財務資121激勵和保護創(chuàng)新，降低經(jīng)營風險創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商和部分國外廠商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機標準的研制創(chuàng)新成果二：申請了一件雙模雙待相關的專利創(chuàng)新成果三：在運營商重組之前，讓雙模雙待手機標準進入實用階段研發(fā)保護實施申請?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱：CDMA/GSM雙模式移動

通信的方法及通信設備申請人：華立集團有限公司激勵和保護創(chuàng)新，降低經(jīng)營風險創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商122e.g.2CD的展會e.g.2CD的展會123五力模型BECDA和下游廠商的議價能力和供應商的議價能力潛在競爭者的競爭能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對手的競爭較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競爭力五力模型BECDA和下游廠商和供應商的議價能力潛在競爭者的競124同一IP管理大師的不同策略同一IP管理大師的不同策略125明確企業(yè)所需知識產(chǎn)權帶來的價值，這是企業(yè)知識產(chǎn)權管理的魂魄！明確企業(yè)所需知識產(chǎn)權帶來的價值，這是企業(yè)知識產(chǎn)權管理的魂魄！126專利挖掘?qū)＠诰?27專利挖掘技術成果技術成果專利申請素材專利挖掘?qū)＠诰?，是站在專利的視角，對紛繁的技術成果進行剖析、拆分、篩選以及合理推測，進而得出各技術創(chuàng)新點和專利申請技術方案的過程。專利挖掘技術成果技術成果專利申請素材專利挖掘?qū)＠诰?，是站?28專利挖掘的意義挖掘思路對于技術研發(fā)起到重要的指導作用，挖掘期間分析出來的所有可能存在專利申請素材的創(chuàng)新點都可以是進一步研發(fā)的方向能夠從基礎專利出發(fā)梳理出所有的關聯(lián)技術點及其對應的外圍專利，從而為基礎專利建立牢固的保護網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專利保護的漏洞，并且能以現(xiàn)有技術成果為基礎，將專利保護的范圍延伸到所有可能具有專利申請價值的技術點專利挖掘的意義挖掘思路對于技術研發(fā)起到重要的指導作用，挖掘期129專利法所稱的技術方案：運用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、生活中某一特定技術問題的具體構(gòu)思，是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案，是利用自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實驗中各種問題的技術解決方案。方法專利挖掘的對象

技術方案

產(chǎn)品專利法所稱的技術方案：運用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、130專利挖掘的對象

產(chǎn)品

方法

新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法

已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品改進后的產(chǎn)品

結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品

材料發(fā)生改變的產(chǎn)品

組合而成的產(chǎn)品專利挖掘的對象產(chǎn)品方法新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法已有131可申請專利研發(fā)成果的典型特點技術效果技術問題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術沒能解決的技術問題采用的技術實現(xiàn)過程與現(xiàn)有技術不同取得的技術效果比現(xiàn)有技術有進步技術方案可申請專利研發(fā)成果的典型特點技術效果技術問題C1C2C3解決132誤區(qū)一：專利的技術含量必須很高能夠獲得專利的依據(jù)是專利法對于

專利的審查標準（新穎性和創(chuàng)造性

等），不是該專利能否符合國家的

技術進步獎要求，也不是技術含量

的高低。專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)一：專利的技術含量必須很高專利挖掘常見的誤區(qū)133案例一：用于干燥長條形面食的桿技術問題：面條掛在桿上送入干燥室，面條容易粘在桿的表面，桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。

專利挖掘常見的誤區(qū)案例一：用于干燥長條形面食的桿專利挖掘常見的誤區(qū)134誤區(qū)二：簡單的結(jié)構(gòu)不能專利專利挖掘常見的誤區(qū)專利挖掘常見的誤區(qū)135專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴技術問題：現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴，噴射低壓條件下的粘稠液體時容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象，維護麻煩。專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴136專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲器通用串行總線

快閃存儲器的外存儲使用方式簡單的結(jié)構(gòu)更應該利用專利保護，防

止競爭對手仿制專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲器通用串行總137專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請專利專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請專利138專利挖掘常見的誤區(qū)發(fā)明、實用新型和外觀設計保護的是什么？對于機械、機電、電子類產(chǎn)品而言，技術內(nèi)涵可通過構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來表達樣機、樣品制作耗時專利申報的原則專利挖掘常見的誤區(qū)139專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個專利專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個專利140專利挖掘常見的誤區(qū)手機外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋果三星專利挖掘常見的誤區(qū)手機外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機或部件電路攝141專利布局專利布局142專利布局的戰(zhàn)略：AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市專利布局的戰(zhàn)略：AAAAAAAA大樹底下種草143高功率鋁銦鎵氮基礎發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比，定義了細長的幾何高功率鋁銦鎵氮基礎發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有144權利要求布局上位權利要求權利要求布局上位權利要求145下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略146專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權利要求147專利布局的戰(zhàn)略：ALEDCHIPABCDABCHLEDPACKAGEPOWERLEDPACKAGEABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市BACKLIHTDEVICESCANNINGDEVICEILLUMINATEDEVICE專利布局的戰(zhàn)略：ALEDAALEDLEDAA大148專利布局的戰(zhàn)略：B權利要求同時布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高專利布局的戰(zhàn)略：B權利要求同時布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權舉149專利布局的戰(zhàn)略：C權利要求同時從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高模塊設備專利布局的戰(zhàn)略：C權利要求同時從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)150LG’sUS5835139LG’sUS5835139151試點單位專利管理實務培訓班152傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但是造成外板太厚……傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但153上框套在下框內(nèi)把4個螺絲改從側(cè)邊通過下框鎖住上框。easy上框套在下框內(nèi)154解決方案解決方案155專利主題：液晶顯示器螺絲在這專利主題：液晶顯示器螺絲在這156由7件專利構(gòu)成專利布局

-Filedfrom3JUL1997to28DEC200135個權利要求獨立項

-ALCD-AmethodofmakingaLCDdevice-Aportablecomputer-Amethodofmakingaportablecomputer-Akitforassemblingadisplaymodule-housingassemblyforaLCDmodule專利布局由7件專利構(gòu)成專利布局專利布局157目的

-簡單的創(chuàng)意，獨特的發(fā)明，強大的專利布局

-擴大訴訟之求償基礎與許可談判之能力

-獲取的權利金遠超過專利申請費用專利布局目的專利布局158LPLvs

中華映管VSLPL于2002年8月在美國加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專利（US6002457,US5926237，US6373537,US6020942）,與二件方法專利（US4624737,US5825449）LPLvs中華映管VSLPL于2002年8月在美國加州控159TOP10PATENTAWARDIN2006TOP10PATENTAWARDIN2006160尋找訴訟對象尋找訴訟對象161他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount”技術，并非LCD相關的核心技術，而是周邊的應用技術；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術只是周邊的應用技術，但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術并非LCD相關產(chǎn)品的核心技術，但卻可以拿到專利權，并經(jīng)過良好的撰寫，使得可以得到很大的專利范圍；經(jīng)過不斷的回避設計，可以形成完整的專利組合，阻卻別人使用或者進入。他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount162專利布局的戰(zhàn)略-D權利要求同時從核心組件布局到應用產(chǎn)品核心組件應用產(chǎn)品侵權舉證容易對應之金額較低侵權舉證不易對應之金額較高成品專利布局的戰(zhàn)略-D權利要求同時從核心組件布局到應用產(chǎn)品核心組163從一件專利看專利布局從一件專利看專利布局164試點單位專利管理實務培訓班165試點單位專利管理實務培訓班166試點單位專利管理實務培訓班167試點單位專利管理實務培訓班168試點單位專利管理實務培訓班169試點單位專利管理實務培訓班170試點單位專利管理實務培訓班171試點單位專利管理實務培訓班172試點單位專利管理實務培訓班173試點單位專利管理實務培訓班174試點單位專利管理實務培訓班175試點單位專利管理實務培訓班176試點單位專利管理實務培訓班177試點單位專利管理實務培訓班178試點單位專利管理實務培訓班179試點單位專利管理實務培訓班180試點單位專利管理實務培訓班181全球?qū)＠季秩驅(qū)＠季?82試點單位專利管理實務培訓班183專利布局的地區(qū)（國家）從法律所給予專利的權利進行思考-中國專利法第十一條發(fā)明和實用新型專利權被授予后，除本法另有規(guī)定的以外，任何單位或個人未經(jīng)專利權人許可，都不得實施其專利，即不得為生產(chǎn)經(jīng)營目的制造、使用、銷售、許諾銷售、進口其專利產(chǎn)品，或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售、進口依照該專利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷售地區(qū)、出口地區(qū)等，都應該進行專利布局。專利布局的地區(qū)（國家）從法律所給予專利的權利進行思考184專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進行專利布局-賠償金較高-和解金、許可費、權利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進行專利布局-賠償金較高再次由訴訟費用高、賠償金額大的地區(qū)進行專利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進行專利布局185信息利用信息利用186世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻中都有記載如果能夠有效利用專利信息，可以縮短60%的研發(fā)周期，節(jié)省40%的研發(fā)費用。世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻中都有記載187比亞迪的經(jīng)驗-模仿宣言一家技術型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上，在繼承的基礎上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專利，突破西方企業(yè)的專利封鎖是極為關鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開發(fā)，60%來自公開文獻，30%來自現(xiàn)成樣品，自身的研究實際上只有5%左右。我們大量使用非專利的技術，把專利技術剔除掉，非專利技術的組合就是我們的創(chuàng)新。專利需要尊重，但可以回避。比亞迪的經(jīng)驗-模仿宣言一家技術型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩188借鑒競爭對手經(jīng)驗并繞開競爭對手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權了解該領域?qū)＠季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過程中研發(fā)立項前研究競爭對手是否落入自己的專利權利范圍，通過專利分析指導研發(fā)人員進行后續(xù)的技術升級專利信息利用對于研發(fā)立項和產(chǎn)品上市的各個環(huán)節(jié)都非常重要！借鑒競爭對手經(jīng)驗并繞開競爭對手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權189反映出某技術領域的技術發(fā)展趨勢反映出某技術領域的技術發(fā)展趨勢190本領域的申請主要來自職務發(fā)明，說明本領域技術水平較高，非職務發(fā)明人的技術力量難于參與到本領域的研發(fā)工作中來。職務發(fā)明比例高，使專利申請的技術水平得到了保證，也有利于專利技術的轉(zhuǎn)化實施和保護。職務發(fā)明比例本領域的申請主要來自職務發(fā)明，說明本領域技術水平較高，非職務191某技術領域中國專利申請人的申請國家分布我國38%的專利申請是由國外申請人提出的，國外申請人中美國、日本、德國的比例最高，說明這幾個國家較為重視中國市場。某技術領域中國專利申請人的申請國家分布我國38%的專利申請是192國內(nèi)某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。國內(nèi)某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計193國外某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實力優(yōu)勢。國外某技術領域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找194國內(nèi)某技術領域主要申請人的技術構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領域的主要申請人的研究范圍，覆蓋的技術點，以及各個申請人的重點側(cè)重的技術研究點。國內(nèi)某技術領域主要申請人的技術構(gòu)成圖。195利用IPC分類的年度變化來分析重點技術及變化趨勢國外某技術領域技術構(gòu)成年度申請量。國外的專利申請在圖中所示五個IPC小組下的申請量的變化趨勢，以5年為一個周期波動，總體呈上升趨勢，沒有出現(xiàn)明顯技術熱點轉(zhuǎn)移。

利用IPC分類的年度變化來分析重點技術及變化趨勢國外某技術領196國外該技術領域的國別技術構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請為主，這與亞洲國家的研究熱點有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00，與中國情況有相似之處。韓國以B21D7/00為主。臺灣的情況更為特殊，超過一半的申請量都集中在B21D11/12小組下國外該技術領域的國別技術構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/197本領域中國專利授權比例不高，授權專利僅占27%，實審中占38%，公開占3%，視撤專利高達19%，終止占10%，駁回占3%。截至目前有效專利占27%，失效專利占35%，審查中占38%。授權專利的比例較低，說明本領域的專利技術含量不高或撰寫水平較差，很多專利申請達不到專利授權標準而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析本領域中國專利授權比例不高，授權專利僅占27%，實審中占38198技術路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術在各技術分支上的專利申請量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合效率的因素較多，因此業(yè)界對聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術的研究相對比較分散。鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域技術路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域199技術功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域可以看出聚合物鋰離子電池技術領域關注的焦點。在三個主要技術需求方面的專利申請量幾乎持平，明顯高于其余幾個方面，且保持穩(wěn)步增長。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低，業(yè)界對這些技術方向保持著較高的研究熱情。技術功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術領域可以看出聚合物鋰離子電200專利布局情況三星株式會社的專利布局較為廣泛表明三星株式會社的目標不僅僅是國內(nèi)而是廣闊的全球市場在本國的申請量最大，在美國和日本與其本國接近2000年后開始關注中國市場，對歐洲市場的關注度較低專利布局情況三星株式會社的專利布局較為廣泛201——專利訴訟在被告專利侵權時積極應訴，檢索該專利申請日之前公布的可破壞其專利性的專利文獻，并作為證據(jù)通過訴訟程序無效該專利，保護企業(yè)合法權益。企業(yè)利用專利信息的需求——專利訴訟企業(yè)利用專利信息的需求202應用實例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上，瑞士公司向主辦發(fā)投訴，稱海鷗公司侵權，要求海鷗公司立刻將有關產(chǎn)品撤下展臺并接受處罰。兩天后，巴塞爾國際鐘表珠寶展知識產(chǎn)權委員會宣布，中國天津海鷗手表集團公司對瑞士企業(yè)的侵權投訴提出反訴并勝訴。這是中國企業(yè)首次在世界規(guī)模的國際鐘表珠寶展上成功維權。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國第一只手表在天津誕生。他叫海鷗應用實例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上2032012年的展會，自主研發(fā)、擁有核心技術、直徑最小、具有國際水平的同軸陀飛輪女士腕表9日，瑞士歐米茄公司向巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會投訴，稱海鷗表在對同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞，對歐米茄商標構(gòu)成侵權。2012年的展會，自主研發(fā)、擁有核心技術、直徑最小、具有國際204

海鷗集團方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會標識牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞，是對產(chǎn)品的描述，與商標侵權無關。海鷗集團方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會標識牌上使20510日，巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會宣布裁決結(jié)果，海鷗表2012年巴塞爾展會使用的標識牌未對歐米茄注冊商標構(gòu)成任何侵害，駁回歐米茄公司的投訴。10日，巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權委員會宣布裁決結(jié)果，海206專利質(zhì)量專利質(zhì)量207高質(zhì)量專利申請文件1、技術領域、主題把握準確2、說明書滿足充分公開的最低標準3、說明書清楚、完整4、實施例數(shù)量能夠足夠支持權利要求5、權利要求撰寫層次分明、概括范圍適當6、能夠有針對性地保護技術，防止侵權規(guī)避7、充分保護最佳方案，同時競爭對手做選擇性發(fā)明高質(zhì)量專利申請文件1、技術領域、主題把握準確208清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請文件A26.3說明書應當對發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f明

清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請文件A26.3說明書應209目前存在的清楚性、完整性問題p1、由于申請人未理解專利申請文件清楚、完整的重要性，怠于為代理人提供足夠的技術資料

p2、申請人出于保密的考慮，將技術方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來，僅提供一個大致的想法p3、由于申請人對自己使用的技術相當?shù)厥煜?，將技術方案中涉及到的大部分信息都當作現(xiàn)有技術，認為不需要進行詳細介紹目前存在的清楚性、完整性問題210針對上述問題的對策P2缺少申請人欲保密內(nèi)容能滿足專利性嗎?是否繼續(xù)申請?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾堘槍ι鲜鰡栴}的對策P2缺少申請人欲保是否繼續(xù)申請?zhí)峁┎牧匣?11一項申請的發(fā)明點:工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能問題:申請人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類氣體實現(xiàn)一項申請的發(fā)明點:工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料212如果能,（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可以在申請文件中僅提出該類氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進行保密）風險:競爭對手受啟發(fā)研制出最佳氣體并申請專利,會讓自己陷入被動如果能,（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可213如果該材料性能的改進只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則必須在申請文件中指出該特定氣體,否則就只能放棄專利申請.如果該材料性能的改進只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則必須在申請文214注:對可能影響該技術方案能否實現(xiàn)的相關內(nèi)容也要做出具體的描述；但是，對于與技術方案能否實現(xiàn)關系不大、且可以采用多種方法中的任一種實現(xiàn)的內(nèi)容，則可以略寫。如可以將其作為現(xiàn)有技術，僅提到在技