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專(zhuān)利挖掘、布局及信息運(yùn)用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)中心周佳專(zhuān)利挖掘、布局及信息運(yùn)用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識(shí)產(chǎn)權(quán)1波士頓矩陣分析波士頓矩陣分析2知識(shí)產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來(lái)什么?OR企業(yè)需要知識(shí)產(chǎn)權(quán)為其帶來(lái)什么?知識(shí)產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來(lái)什么?3市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)政府獎(jiǎng)勵(lì)專(zhuān)利資本化許可賺錢(qián)企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢(qián)專(zhuān)利的作用市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)政府獎(jiǎng)勵(lì)專(zhuān)利資本化許可賺錢(qián)企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢(qián)專(zhuān)利的4知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn),通過(guò)許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來(lái)收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元,占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號(hào),AOL宣布與微軟達(dá)成協(xié)議,以10.56億美元向后者出售800件專(zhuān)利和專(zhuān)利申請(qǐng),平均每件專(zhuān)利支付125美元。4月25日消息,微軟以5.5億美元的價(jià)格把收購(gòu)的多數(shù)AOL的專(zhuān)利轉(zhuǎn)手賣(mài)給facebook知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn),通過(guò)許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來(lái)收益5知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場(chǎng)價(jià)值財(cái)務(wù)資本知識(shí)資本財(cái)務(wù)資本貨幣資本人力資本關(guān)系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負(fù)債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶(hù)關(guān)系供應(yīng)商關(guān)系專(zhuān)利商標(biāo)權(quán)著作權(quán)工作流程商業(yè)秘密知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場(chǎng)價(jià)值財(cái)務(wù)資本知識(shí)資本財(cái)務(wù)資6激勵(lì)和保護(hù)創(chuàng)新,降低經(jīng)營(yíng)風(fēng)險(xiǎn)創(chuàng)新成果一:中國(guó)聯(lián)通組織國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商和部分國(guó)外廠(chǎng)商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)的研制創(chuàng)新成果二:申請(qǐng)了一件雙模雙待相關(guān)的專(zhuān)利創(chuàng)新成果三:在運(yùn)營(yíng)商重組之前,讓雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)入實(shí)用階段研發(fā)保護(hù)實(shí)施申請(qǐng)?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱(chēng):CDMA/GSM雙模式移動(dòng)

通信的方法及通信設(shè)備申請(qǐng)人:華立集團(tuán)有限公司激勵(lì)和保護(hù)創(chuàng)新,降低經(jīng)營(yíng)風(fēng)險(xiǎn)創(chuàng)新成果一:中國(guó)聯(lián)通組織國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商7e.g.2CD的展會(huì)e.g.2CD的展會(huì)8五力模型BECDA和下游廠(chǎng)商的議價(jià)能力和供應(yīng)商的議價(jià)能力潛在競(jìng)爭(zhēng)者的競(jìng)爭(zhēng)能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對(duì)手的競(jìng)爭(zhēng)較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力五力模型BECDA和下游廠(chǎng)商和供應(yīng)商的議價(jià)能力潛在競(jìng)爭(zhēng)者的競(jìng)9同一IP管理大師的不同策略同一IP管理大師的不同策略10明確企業(yè)所需知識(shí)產(chǎn)權(quán)帶來(lái)的價(jià)值,這是企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理的魂魄!明確企業(yè)所需知識(shí)產(chǎn)權(quán)帶來(lái)的價(jià)值,這是企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理的魂魄!11專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?2專(zhuān)利挖掘技術(shù)成果技術(shù)成果專(zhuān)利申請(qǐng)素材專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?,是站在?zhuān)利的視角,對(duì)紛繁的技術(shù)成果進(jìn)行剖析、拆分、篩選以及合理推測(cè),進(jìn)而得出各技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)和專(zhuān)利申請(qǐng)技術(shù)方案的過(guò)程。專(zhuān)利挖掘技術(shù)成果技術(shù)成果專(zhuān)利申請(qǐng)素材專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?,是站?3專(zhuān)利挖掘的意義挖掘思路對(duì)于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用,挖掘期間分析出來(lái)的所有可能存在專(zhuān)利申請(qǐng)素材的創(chuàng)新點(diǎn)都可以是進(jìn)一步研發(fā)的方向能夠從基礎(chǔ)專(zhuān)利出發(fā)梳理出所有的關(guān)聯(lián)技術(shù)點(diǎn)及其對(duì)應(yīng)的外圍專(zhuān)利,從而為基礎(chǔ)專(zhuān)利建立牢固的保護(hù)網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專(zhuān)利保護(hù)的漏洞,并且能以現(xiàn)有技術(shù)成果為基礎(chǔ),將專(zhuān)利保護(hù)的范圍延伸到所有可能具有專(zhuān)利申請(qǐng)價(jià)值的技術(shù)點(diǎn)專(zhuān)利挖掘的意義挖掘思路對(duì)于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用,挖掘期14專(zhuān)利法所稱(chēng)的技術(shù)方案:運(yùn)用自然規(guī)律解決人類(lèi)生產(chǎn)、生活中某一特定技術(shù)問(wèn)題的具體構(gòu)思,是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案,是利用自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實(shí)驗(yàn)中各種問(wèn)題的技術(shù)解決方案。方法專(zhuān)利挖掘的對(duì)象

技術(shù)方案

產(chǎn)品專(zhuān)利法所稱(chēng)的技術(shù)方案:運(yùn)用自然規(guī)律解決人類(lèi)生產(chǎn)、15專(zhuān)利挖掘的對(duì)象

產(chǎn)品

方法

新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法

已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品改進(jìn)后的產(chǎn)品

結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品

材料發(fā)生改變的產(chǎn)品

組合而成的產(chǎn)品專(zhuān)利挖掘的對(duì)象產(chǎn)品方法新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法已有16可申請(qǐng)專(zhuān)利研發(fā)成果的典型特點(diǎn)技術(shù)效果技術(shù)問(wèn)題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術(shù)沒(méi)能解決的技術(shù)問(wèn)題采用的技術(shù)實(shí)現(xiàn)過(guò)程與現(xiàn)有技術(shù)不同取得的技術(shù)效果比現(xiàn)有技術(shù)有進(jìn)步技術(shù)方案可申請(qǐng)專(zhuān)利研發(fā)成果的典型特點(diǎn)技術(shù)效果技術(shù)問(wèn)題C1C2C3解決17誤區(qū)一:專(zhuān)利的技術(shù)含量必須很高能夠獲得專(zhuān)利的依據(jù)是專(zhuān)利法對(duì)于

專(zhuān)利的審查標(biāo)準(zhǔn)(新穎性和創(chuàng)造性

等),不是該專(zhuān)利能否符合國(guó)家的

技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)要求,也不是技術(shù)含量

的高低。專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)一:專(zhuān)利的技術(shù)含量必須很高專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)18案例一:用于干燥長(zhǎng)條形面食的桿技術(shù)問(wèn)題:面條掛在桿上送入干燥室,面條容易粘在桿的表面,桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。

專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例一:用于干燥長(zhǎng)條形面食的桿專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)19誤區(qū)二:簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)不能專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)20專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例1:一種噴嘴技術(shù)問(wèn)題:現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴,噴射低壓條件下的粘稠液體時(shí)容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象,維護(hù)麻煩。專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例1:一種噴嘴21專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例2:朗科的U盤(pán)專(zhuān)利快閃存儲(chǔ)器通用串行總線(xiàn)

快閃存儲(chǔ)器的外存儲(chǔ)使用方式簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該利用專(zhuān)利保護(hù),防

止競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手仿制專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例2:朗科的U盤(pán)專(zhuān)利快閃存儲(chǔ)器通用串行總22專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)三:制作出樣品才能申請(qǐng)專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)三:制作出樣品才能申請(qǐng)專(zhuān)利23專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)發(fā)明、實(shí)用新型和外觀(guān)設(shè)計(jì)保護(hù)的是什么?對(duì)于機(jī)械、機(jī)電、電子類(lèi)產(chǎn)品而言,技術(shù)內(nèi)涵可通過(guò)構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來(lái)表達(dá)樣機(jī)、樣品制作耗時(shí)專(zhuān)利申報(bào)的原則專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)24專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)四:一件產(chǎn)品一個(gè)專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)四:一件產(chǎn)品一個(gè)專(zhuān)利25專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)手機(jī)外觀(guān)結(jié)構(gòu)芯片外觀(guān)或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋(píng)果三星專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)手機(jī)外觀(guān)結(jié)構(gòu)芯片外觀(guān)或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝26專(zhuān)利布局專(zhuān)利布局27專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹(shù)底下種草農(nóng)村包圍城市專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:AAAAAAAA大樹(shù)底下種草28高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比,定義了細(xì)長(zhǎng)的幾何高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有29權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求30下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略31專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求32專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:ALEDCHIPABCDABCHLEDPACKAGEPOWERLEDPACKAGEABCFABCE大樹(shù)底下種草農(nóng)村包圍城市BACKLIHTDEVICESCANNINGDEVICEILLUMINATEDEVICE專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:ALEDAALEDLEDAA大33專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:B權(quán)利要求同時(shí)布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:B權(quán)利要求同時(shí)布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉34專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:C權(quán)利要求同時(shí)從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高模塊設(shè)備專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:C權(quán)利要求同時(shí)從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)35LG’sUS5835139LG’sUS583513936試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班37傳統(tǒng)的做法,用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框,鎖的很牢,但是造成外板太厚……傳統(tǒng)的做法,用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框,鎖的很牢,但38上框套在下框內(nèi)把4個(gè)螺絲改從側(cè)邊通過(guò)下框鎖住上框。easy上框套在下框內(nèi)39解決方案解決方案40專(zhuān)利主題:液晶顯示器螺絲在這專(zhuān)利主題:液晶顯示器螺絲在這41由7件專(zhuān)利構(gòu)成專(zhuān)利布局

-Filedfrom3JUL1997to28DEC200135個(gè)權(quán)利要求獨(dú)立項(xiàng)

-ALCD-AmethodofmakingaLCDdevice-Aportablecomputer-Amethodofmakingaportablecomputer-Akitforassemblingadisplaymodule-housingassemblyforaLCDmodule專(zhuān)利布局由7件專(zhuān)利構(gòu)成專(zhuān)利布局專(zhuān)利布局42目的

-簡(jiǎn)單的創(chuàng)意,獨(dú)特的發(fā)明,強(qiáng)大的專(zhuān)利布局

-擴(kuò)大訴訟之求償基礎(chǔ)與許可談判之能力

-獲取的權(quán)利金遠(yuǎn)超過(guò)專(zhuān)利申請(qǐng)費(fèi)用專(zhuān)利布局目的專(zhuān)利布局43LPLvs

中華映管VSLPL于2002年8月在美國(guó)加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專(zhuān)利(US6002457,US5926237,US6373537,US6020942),與二件方法專(zhuān)利(US4624737,US5825449)LPLvs中華映管VSLPL于2002年8月在美國(guó)加州控44TOP10PATENTAWARDIN2006TOP10PATENTAWARDIN200645尋找訴訟對(duì)象尋找訴訟對(duì)象46他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù),并非LCD相關(guān)的核心技術(shù),而是周邊的應(yīng)用技術(shù);側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)只是周邊的應(yīng)用技術(shù),但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段;側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)并非LCD相關(guān)產(chǎn)品的核心技術(shù),但卻可以拿到專(zhuān)利權(quán),并經(jīng)過(guò)良好的撰寫(xiě),使得可以得到很大的專(zhuān)利范圍;經(jīng)過(guò)不斷的回避設(shè)計(jì),可以形成完整的專(zhuān)利組合,阻卻別人使用或者進(jìn)入。他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount47專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時(shí)從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組件應(yīng)用產(chǎn)品侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高成品專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時(shí)從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組48從一件專(zhuān)利看專(zhuān)利布局從一件專(zhuān)利看專(zhuān)利布局49試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班50試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班51試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班52試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班53試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班54試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班55試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班56試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班57試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班58試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班59試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班60試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班61試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班62試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班63試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班64試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班65試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班66全球?qū)@季秩驅(qū)@季?7試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班68專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)從法律所給予專(zhuān)利的權(quán)利進(jìn)行思考-中國(guó)專(zhuān)利法第十一條發(fā)明和實(shí)用新型專(zhuān)利權(quán)被授予后,除本法另有規(guī)定的以外,任何單位或個(gè)人未經(jīng)專(zhuān)利權(quán)人許可,都不得實(shí)施其專(zhuān)利,即不得為生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)目的制造、使用、銷(xiāo)售、許諾銷(xiāo)售、進(jìn)口其專(zhuān)利產(chǎn)品,或者使用其專(zhuān)利方法以及使用、許諾銷(xiāo)售、銷(xiāo)售、進(jìn)口依照該專(zhuān)利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷(xiāo)售地區(qū)、出口地區(qū)等,都應(yīng)該進(jìn)行專(zhuān)利布局。專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)從法律所給予專(zhuān)利的權(quán)利進(jìn)行思考69專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)優(yōu)先從銷(xiāo)售量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-賠償金較高-和解金、許可費(fèi)、權(quán)利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-賠償金較高再次由訴訟費(fèi)用高、賠償金額大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費(fèi)專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)優(yōu)先從銷(xiāo)售量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局70信息利用信息利用71世界上90%至95%的發(fā)明成果在專(zhuān)利文獻(xiàn)中都有記載如果能夠有效利用專(zhuān)利信息,可以縮短60%的研發(fā)周期,節(jié)省40%的研發(fā)費(fèi)用。世界上90%至95%的發(fā)明成果在專(zhuān)利文獻(xiàn)中都有記載72比亞迪的經(jīng)驗(yàn)-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上,在繼承的基礎(chǔ)上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專(zhuān)利,突破西方企業(yè)的專(zhuān)利封鎖是極為關(guān)鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開(kāi)發(fā),60%來(lái)自公開(kāi)文獻(xiàn),30%來(lái)自現(xiàn)成樣品,自身的研究實(shí)際上只有5%左右。我們大量使用非專(zhuān)利的技術(shù),把專(zhuān)利技術(shù)剔除掉,非專(zhuān)利技術(shù)的組合就是我們的創(chuàng)新。專(zhuān)利需要尊重,但可以回避。比亞迪的經(jīng)驗(yàn)-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩73借鑒競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手經(jīng)驗(yàn)并繞開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)了解該領(lǐng)域?qū)@季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過(guò)程中研發(fā)立項(xiàng)前研究競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手是否落入自己的專(zhuān)利權(quán)利范圍,通過(guò)專(zhuān)利分析指導(dǎo)研發(fā)人員進(jìn)行后續(xù)的技術(shù)升級(jí)專(zhuān)利信息利用對(duì)于研發(fā)立項(xiàng)和產(chǎn)品上市的各個(gè)環(huán)節(jié)都非常重要!借鑒競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手經(jīng)驗(yàn)并繞開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)74反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)75本領(lǐng)域的申請(qǐng)主要來(lái)自職務(wù)發(fā)明,說(shuō)明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高,非職務(wù)發(fā)明人的技術(shù)力量難于參與到本領(lǐng)域的研發(fā)工作中來(lái)。職務(wù)發(fā)明比例高,使專(zhuān)利申請(qǐng)的技術(shù)水平得到了保證,也有利于專(zhuān)利技術(shù)的轉(zhuǎn)化實(shí)施和保護(hù)。職務(wù)發(fā)明比例本領(lǐng)域的申請(qǐng)主要來(lái)自職務(wù)發(fā)明,說(shuō)明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高,非職務(wù)76某技術(shù)領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)人的申請(qǐng)國(guó)家分布我國(guó)38%的專(zhuān)利申請(qǐng)是由國(guó)外申請(qǐng)人提出的,國(guó)外申請(qǐng)人中美國(guó)、日本、德國(guó)的比例最高,說(shuō)明這幾個(gè)國(guó)家較為重視中國(guó)市場(chǎng)。某技術(shù)領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)人的申請(qǐng)國(guó)家分布我國(guó)38%的專(zhuān)利申請(qǐng)是77國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)78國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實(shí)力優(yōu)勢(shì)。國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找79國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的技術(shù)構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領(lǐng)域的主要申請(qǐng)人的研究范圍,覆蓋的技術(shù)點(diǎn),以及各個(gè)申請(qǐng)人的重點(diǎn)側(cè)重的技術(shù)研究點(diǎn)。國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的技術(shù)構(gòu)成圖。80利用IPC分類(lèi)的年度變化來(lái)分析重點(diǎn)技術(shù)及變化趨勢(shì)國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)構(gòu)成年度申請(qǐng)量。國(guó)外的專(zhuān)利申請(qǐng)?jiān)趫D中所示五個(gè)IPC小組下的申請(qǐng)量的變化趨勢(shì),以5年為一個(gè)周期波動(dòng),總體呈上升趨勢(shì),沒(méi)有出現(xiàn)明顯技術(shù)熱點(diǎn)轉(zhuǎn)移。

利用IPC分類(lèi)的年度變化來(lái)分析重點(diǎn)技術(shù)及變化趨勢(shì)國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)81國(guó)外該技術(shù)領(lǐng)域的國(guó)別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國(guó)家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請(qǐng)為主,這與亞洲國(guó)家的研究熱點(diǎn)有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00,與中國(guó)情況有相似之處。韓國(guó)以B21D7/00為主。臺(tái)灣的情況更為特殊,超過(guò)一半的申請(qǐng)量都集中在B21D11/12小組下國(guó)外該技術(shù)領(lǐng)域的國(guó)別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國(guó)家主要以B21D11/82本領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利授權(quán)比例不高,授權(quán)專(zhuān)利僅占27%,實(shí)審中占38%,公開(kāi)占3%,視撤專(zhuān)利高達(dá)19%,終止占10%,駁回占3%。截至目前有效專(zhuān)利占27%,失效專(zhuān)利占35%,審查中占38%。授權(quán)專(zhuān)利的比例較低,說(shuō)明本領(lǐng)域的專(zhuān)利技術(shù)含量不高或撰寫(xiě)水平較差,很多專(zhuān)利申請(qǐng)達(dá)不到專(zhuān)利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析本領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利授權(quán)比例不高,授權(quán)專(zhuān)利僅占27%,實(shí)審中占3883技術(shù)路線(xiàn)分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)在各技術(shù)分支上的專(zhuān)利申請(qǐng)量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合效率的因素較多,因此業(yè)界對(duì)聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)的研究相對(duì)比較分散。鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)路線(xiàn)分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域84技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電池技術(shù)領(lǐng)域關(guān)注的焦點(diǎn)。在三個(gè)主要技術(shù)需求方面的專(zhuān)利申請(qǐng)量幾乎持平,明顯高于其余幾個(gè)方面,且保持穩(wěn)步增長(zhǎng)。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低,業(yè)界對(duì)這些技術(shù)方向保持著較高的研究熱情。技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電85專(zhuān)利布局情況三星株式會(huì)社的專(zhuān)利布局較為廣泛表明三星株式會(huì)社的目標(biāo)不僅僅是國(guó)內(nèi)而是廣闊的全球市場(chǎng)在本國(guó)的申請(qǐng)量最大,在美國(guó)和日本與其本國(guó)接近2000年后開(kāi)始關(guān)注中國(guó)市場(chǎng),對(duì)歐洲市場(chǎng)的關(guān)注度較低專(zhuān)利布局情況三星株式會(huì)社的專(zhuān)利布局較為廣泛86——專(zhuān)利訴訟在被告專(zhuān)利侵權(quán)時(shí)積極應(yīng)訴,檢索該專(zhuān)利申請(qǐng)日之前公布的可破壞其專(zhuān)利性的專(zhuān)利文獻(xiàn),并作為證據(jù)通過(guò)訴訟程序無(wú)效該專(zhuān)利,保護(hù)企業(yè)合法權(quán)益。企業(yè)利用專(zhuān)利信息的需求——專(zhuān)利訴訟企業(yè)利用專(zhuān)利信息的需求87應(yīng)用實(shí)例2011年3月29日,第39屆巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展上,瑞士公司向主辦發(fā)投訴,稱(chēng)海鷗公司侵權(quán),要求海鷗公司立刻將有關(guān)產(chǎn)品撤下展臺(tái)并接受處罰。兩天后,巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布,中國(guó)天津海鷗手表集團(tuán)公司對(duì)瑞士企業(yè)的侵權(quán)投訴提出反訴并勝訴。這是中國(guó)企業(yè)首次在世界規(guī)模的國(guó)際鐘表珠寶展上成功維權(quán)。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國(guó)第一只手表在天津誕生。他叫海鷗應(yīng)用實(shí)例2011年3月29日,第39屆巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展上882012年的展會(huì),自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國(guó)際水平的同軸陀飛輪女士腕表9日,瑞士歐米茄公司向巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)投訴,稱(chēng)海鷗表在對(duì)同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞,對(duì)歐米茄商標(biāo)構(gòu)成侵權(quán)。2012年的展會(huì),自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國(guó)際89

海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是:“海鷗”展會(huì)標(biāo)識(shí)牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機(jī)芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞,是對(duì)產(chǎn)品的描述,與商標(biāo)侵權(quán)無(wú)關(guān)。海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是:“海鷗”展會(huì)標(biāo)識(shí)牌上使9010日,巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布裁決結(jié)果,海鷗表2012年巴塞爾展會(huì)使用的標(biāo)識(shí)牌未對(duì)歐米茄注冊(cè)商標(biāo)構(gòu)成任何侵害,駁回歐米茄公司的投訴。10日,巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布裁決結(jié)果,海91專(zhuān)利質(zhì)量專(zhuān)利質(zhì)量92高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件1、技術(shù)領(lǐng)域、主題把握準(zhǔn)確2、說(shuō)明書(shū)滿(mǎn)足充分公開(kāi)的最低標(biāo)準(zhǔn)3、說(shuō)明書(shū)清楚、完整4、實(shí)施例數(shù)量能夠足夠支持權(quán)利要求5、權(quán)利要求撰寫(xiě)層次分明、概括范圍適當(dāng)6、能夠有針對(duì)性地保護(hù)技術(shù),防止侵權(quán)規(guī)避7、充分保護(hù)最佳方案,同時(shí)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手做選擇性發(fā)明高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件1、技術(shù)領(lǐng)域、主題把握準(zhǔn)確93清楚完整公開(kāi)充分形成高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件A26.3說(shuō)明書(shū)應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f(shuō)明

清楚完整公開(kāi)充分形成高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件A26.3說(shuō)明書(shū)應(yīng)94目前存在的清楚性、完整性問(wèn)題p1、由于申請(qǐng)人未理解專(zhuān)利申請(qǐng)文件清楚、完整的重要性,怠于為代理人提供足夠的技術(shù)資料

p2、申請(qǐng)人出于保密的考慮,將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來(lái),僅提供一個(gè)大致的想法p3、由于申請(qǐng)人對(duì)自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜?,將技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù),認(rèn)為不需要進(jìn)行詳細(xì)介紹目前存在的清楚性、完整性問(wèn)題95針對(duì)上述問(wèn)題的對(duì)策P2缺少申請(qǐng)人欲保密內(nèi)容能滿(mǎn)足專(zhuān)利性嗎?是否繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾?qǐng)針對(duì)上述問(wèn)題的對(duì)策P2缺少申請(qǐng)人欲保是否繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┎牧匣?6一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn):工藝中采用了一種新的氣體,提高了形成的材料的性能問(wèn)題:申請(qǐng)人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱(chēng)需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用,是否能由某一類(lèi)氣體實(shí)現(xiàn)一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn):工藝中采用了一種新的氣體,提高了形成的材料97如果能,(雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)),則可以在申請(qǐng)文件中僅提出該類(lèi)氣體,并舉出非最佳的幾種氣體(最佳氣體可以進(jìn)行保密)風(fēng)險(xiǎn):競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手受啟發(fā)研制出最佳氣體并申請(qǐng)專(zhuān)利,會(huì)讓自己陷入被動(dòng)如果能,(雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)),則可98如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn),則必須在申請(qǐng)文件中指出該特定氣體,否則就只能放棄專(zhuān)利申請(qǐng).如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn),則必須在申請(qǐng)文99注:對(duì)可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述;但是,對(duì)于與技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實(shí)現(xiàn)的內(nèi)容,則可以略寫(xiě)。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù),僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。適度描述原則注:對(duì)可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述100發(fā)明點(diǎn):對(duì)沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn),以得到

更為均勻的薄膜需要詳述的內(nèi)容:圍繞該沉積工藝;如,說(shuō)明本技術(shù)方案中所用的沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理等,沉積薄膜時(shí)所用的各種反應(yīng)氣體、載氣體等;列出沉積時(shí)所選用的各工藝條件(如溫度、氣壓、功率等)及原因,沉積過(guò)程中各工藝條件的改變對(duì)薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。發(fā)明點(diǎn):對(duì)沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn),以得到101不需要詳述的內(nèi)容:對(duì)于襯底的相關(guān)描述.如,如何利用拉晶等方式形成襯底,其的結(jié)構(gòu)有什么特點(diǎn)(如其晶向等),它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。適度描述舉例不需要詳述的內(nèi)容:對(duì)于襯底的相關(guān)描述.如,如何利用拉晶等102說(shuō)明書(shū)公開(kāi)充分

說(shuō)明書(shū)對(duì)技術(shù)內(nèi)容的公開(kāi)所需達(dá)到的程度,即需達(dá)到所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員按照說(shuō)明書(shū)記載的內(nèi)容,不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)就能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案,解決其技術(shù)問(wèn)題,并且產(chǎn)生預(yù)期的技術(shù)效果的程度。說(shuō)明書(shū)公開(kāi)充分

說(shuō)明書(shū)對(duì)技術(shù)內(nèi)容的公開(kāi)所需達(dá)到的程度,103說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

1.說(shuō)明書(shū)只描述了任務(wù)或目標(biāo),并描述了實(shí)現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)之后所取得的效果和功能,但是沒(méi)有給出任何實(shí)現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)的具體技術(shù)手段。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

1.說(shuō)明書(shū)只描述了任務(wù)104說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

例1.一種有關(guān)飛行器(飛碟)的發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng),僅僅描述了其實(shí)現(xiàn)的功能是可以垂直起降、瞬間達(dá)到10倍音速的飛行速度,可以急停急轉(zhuǎn);并且描述了借助該飛行器人類(lèi)可以實(shí)現(xiàn)自由來(lái)往于星球之間的夢(mèng)想。但是說(shuō)明書(shū)并沒(méi)有公開(kāi)該飛行器的具體結(jié)構(gòu)和如何實(shí)現(xiàn)上述超級(jí)功能的具體技術(shù)手段。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

例1.一種有關(guān)飛行器(飛105說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

2.說(shuō)明書(shū)給出了含糊不清的技術(shù)手段,本領(lǐng)域技術(shù)人員無(wú)法根據(jù)說(shuō)明書(shū)的描述實(shí)施該技術(shù)手段。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

2.說(shuō)明書(shū)給出了含糊不清的技106說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

例2.在一件涉及金屬材料處理方法的專(zhuān)利申請(qǐng)中,申請(qǐng)人公開(kāi)了在一定的溫度下對(duì)某材料進(jìn)行回火處理的步驟,但是沒(méi)有公開(kāi)具體的溫度范圍。也就是說(shuō),說(shuō)明書(shū)給出了技術(shù)手段(回火),但是該技術(shù)手段是含糊不清的,即本技術(shù)領(lǐng)域的人員并不能得知在多高的溫度下進(jìn)行回火處理會(huì)達(dá)到本發(fā)明的技術(shù)效果。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例例2.在一件涉及金屬材料處理方107說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

3.說(shuō)明書(shū)給出了技術(shù)手段,但是實(shí)施該技術(shù)手段之后,并不能解決發(fā)明或?qū)嵱眯滦退鉀Q的技術(shù)問(wèn)題,達(dá)到所需的效果。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例3.說(shuō)明書(shū)給出了技術(shù)手段,但是108說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

例3.說(shuō)明書(shū)中僅僅描述了本發(fā)明的技術(shù)方案,沒(méi)有結(jié)合本發(fā)明的具體技術(shù)方案描述其運(yùn)作原理和過(guò)程,更沒(méi)有描述其達(dá)到的技術(shù)效果。審查員從說(shuō)明書(shū)公開(kāi)的內(nèi)容中無(wú)法得知本發(fā)明的技術(shù)方案是否實(shí)現(xiàn)了發(fā)明目的,達(dá)到了發(fā)明效果,因此這也是一種典型的公開(kāi)不充分的情形。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例例3.說(shuō)明書(shū)中僅僅描述了本發(fā)明109說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

4.說(shuō)明書(shū)給出了具體的技術(shù)手段和有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的數(shù)據(jù)作為技術(shù)效果,但是未揭示發(fā)明的機(jī)理。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例4.說(shuō)明書(shū)給出了具體的技術(shù)手段110說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

4.一件發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng),涉及一種降低汽車(chē)排氣中有害物質(zhì)的方法。該申請(qǐng)公開(kāi)了詳細(xì)的技術(shù)手段,即首先將光學(xué)儲(chǔ)存介質(zhì)(CD盤(pán)片或DVD盤(pán)片)插入到玻璃、石英沙或淤泥中2~3周,然后將該處理過(guò)的盤(pán)片設(shè)置在汽車(chē)排氣管路中。同時(shí)說(shuō)明書(shū)給出了多組數(shù)據(jù)對(duì)比了設(shè)置盤(pán)片之前與之后污染物的含量變化,證明了該方法確實(shí)可以取得有益的技術(shù)效果。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例4.一件發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng),涉及一種111說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例

審查員意見(jiàn):審查員認(rèn)為說(shuō)明書(shū)中沒(méi)有公開(kāi)處理過(guò)的CD盤(pán)片與汽車(chē)尾氣之間發(fā)生了何種物理/化學(xué)變化,從而導(dǎo)致了尾氣中的有害物質(zhì)的減少,即沒(méi)有揭示本發(fā)明的工作機(jī)理,屬于公開(kāi)不充分。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例審查員意見(jiàn):審查員認(rèn)為說(shuō)明書(shū)中沒(méi)112說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例代理人認(rèn)為,只要利用了自然規(guī)律的技術(shù)方案,即使這種自然規(guī)律暫時(shí)還沒(méi)有被人類(lèi)所認(rèn)識(shí),只要技術(shù)方案完整,取得了有益效果,均符合專(zhuān)利授權(quán)的要件。另外,本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在實(shí)施該專(zhuān)利時(shí),只要按照申請(qǐng)文件中記載的技術(shù)方案進(jìn)行實(shí)施即可取得相應(yīng)的技術(shù)效果,無(wú)需付出創(chuàng)造性的勞動(dòng),更無(wú)需得知其具體的工作原理和運(yùn)作機(jī)理,因此符合充分公開(kāi)的要求。另外,代理人還舉例了審查指南中有關(guān)黑色橡膠的發(fā)明,即當(dāng)時(shí)的發(fā)明人將30%的炭黑加入到橡膠中,結(jié)果達(dá)到了預(yù)想不到的高強(qiáng)度和耐磨性,盡管當(dāng)時(shí)發(fā)明人并不知道其中原因和機(jī)理,但是本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員完全可以根據(jù)該記載實(shí)施,因此符合充分公開(kāi)的要求。說(shuō)明書(shū)未公開(kāi)充分情形及舉例代理人認(rèn)為,只要利用了自然規(guī)律的技113ThanksforlisteningThanksforlistening114演講完畢,謝謝觀(guān)看!演講完畢,謝謝觀(guān)看!115專(zhuān)利挖掘、布局及信息運(yùn)用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)中心周佳專(zhuān)利挖掘、布局及信息運(yùn)用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識(shí)產(chǎn)權(quán)116波士頓矩陣分析波士頓矩陣分析117知識(shí)產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來(lái)什么?OR企業(yè)需要知識(shí)產(chǎn)權(quán)為其帶來(lái)什么?知識(shí)產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來(lái)什么?118市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)政府獎(jiǎng)勵(lì)專(zhuān)利資本化許可賺錢(qián)企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢(qián)專(zhuān)利的作用市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)政府獎(jiǎng)勵(lì)專(zhuān)利資本化許可賺錢(qián)企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢(qián)專(zhuān)利的119知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn),通過(guò)許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來(lái)收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元,占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號(hào),AOL宣布與微軟達(dá)成協(xié)議,以10.56億美元向后者出售800件專(zhuān)利和專(zhuān)利申請(qǐng),平均每件專(zhuān)利支付125美元。4月25日消息,微軟以5.5億美元的價(jià)格把收購(gòu)的多數(shù)AOL的專(zhuān)利轉(zhuǎn)手賣(mài)給facebook知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn),通過(guò)許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來(lái)收益120知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場(chǎng)價(jià)值財(cái)務(wù)資本知識(shí)資本財(cái)務(wù)資本貨幣資本人力資本關(guān)系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負(fù)債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶(hù)關(guān)系供應(yīng)商關(guān)系專(zhuān)利商標(biāo)權(quán)著作權(quán)工作流程商業(yè)秘密知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場(chǎng)價(jià)值財(cái)務(wù)資本知識(shí)資本財(cái)務(wù)資121激勵(lì)和保護(hù)創(chuàng)新,降低經(jīng)營(yíng)風(fēng)險(xiǎn)創(chuàng)新成果一:中國(guó)聯(lián)通組織國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商和部分國(guó)外廠(chǎng)商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)的研制創(chuàng)新成果二:申請(qǐng)了一件雙模雙待相關(guān)的專(zhuān)利創(chuàng)新成果三:在運(yùn)營(yíng)商重組之前,讓雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)入實(shí)用階段研發(fā)保護(hù)實(shí)施申請(qǐng)?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱(chēng):CDMA/GSM雙模式移動(dòng)

通信的方法及通信設(shè)備申請(qǐng)人:華立集團(tuán)有限公司激勵(lì)和保護(hù)創(chuàng)新,降低經(jīng)營(yíng)風(fēng)險(xiǎn)創(chuàng)新成果一:中國(guó)聯(lián)通組織國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商122e.g.2CD的展會(huì)e.g.2CD的展會(huì)123五力模型BECDA和下游廠(chǎng)商的議價(jià)能力和供應(yīng)商的議價(jià)能力潛在競(jìng)爭(zhēng)者的競(jìng)爭(zhēng)能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對(duì)手的競(jìng)爭(zhēng)較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力五力模型BECDA和下游廠(chǎng)商和供應(yīng)商的議價(jià)能力潛在競(jìng)爭(zhēng)者的競(jìng)124同一IP管理大師的不同策略同一IP管理大師的不同策略125明確企業(yè)所需知識(shí)產(chǎn)權(quán)帶來(lái)的價(jià)值,這是企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理的魂魄!明確企業(yè)所需知識(shí)產(chǎn)權(quán)帶來(lái)的價(jià)值,這是企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理的魂魄!126專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?27專(zhuān)利挖掘技術(shù)成果技術(shù)成果專(zhuān)利申請(qǐng)素材專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?,是站在?zhuān)利的視角,對(duì)紛繁的技術(shù)成果進(jìn)行剖析、拆分、篩選以及合理推測(cè),進(jìn)而得出各技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)和專(zhuān)利申請(qǐng)技術(shù)方案的過(guò)程。專(zhuān)利挖掘技術(shù)成果技術(shù)成果專(zhuān)利申請(qǐng)素材專(zhuān)利挖掘?qū)@诰?,是站?28專(zhuān)利挖掘的意義挖掘思路對(duì)于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用,挖掘期間分析出來(lái)的所有可能存在專(zhuān)利申請(qǐng)素材的創(chuàng)新點(diǎn)都可以是進(jìn)一步研發(fā)的方向能夠從基礎(chǔ)專(zhuān)利出發(fā)梳理出所有的關(guān)聯(lián)技術(shù)點(diǎn)及其對(duì)應(yīng)的外圍專(zhuān)利,從而為基礎(chǔ)專(zhuān)利建立牢固的保護(hù)網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專(zhuān)利保護(hù)的漏洞,并且能以現(xiàn)有技術(shù)成果為基礎(chǔ),將專(zhuān)利保護(hù)的范圍延伸到所有可能具有專(zhuān)利申請(qǐng)價(jià)值的技術(shù)點(diǎn)專(zhuān)利挖掘的意義挖掘思路對(duì)于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用,挖掘期129專(zhuān)利法所稱(chēng)的技術(shù)方案:運(yùn)用自然規(guī)律解決人類(lèi)生產(chǎn)、生活中某一特定技術(shù)問(wèn)題的具體構(gòu)思,是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案,是利用自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實(shí)驗(yàn)中各種問(wèn)題的技術(shù)解決方案。方法專(zhuān)利挖掘的對(duì)象

技術(shù)方案

產(chǎn)品專(zhuān)利法所稱(chēng)的技術(shù)方案:運(yùn)用自然規(guī)律解決人類(lèi)生產(chǎn)、130專(zhuān)利挖掘的對(duì)象

產(chǎn)品

方法

新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法

已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品改進(jìn)后的產(chǎn)品

結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品

材料發(fā)生改變的產(chǎn)品

組合而成的產(chǎn)品專(zhuān)利挖掘的對(duì)象產(chǎn)品方法新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法已有131可申請(qǐng)專(zhuān)利研發(fā)成果的典型特點(diǎn)技術(shù)效果技術(shù)問(wèn)題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術(shù)沒(méi)能解決的技術(shù)問(wèn)題采用的技術(shù)實(shí)現(xiàn)過(guò)程與現(xiàn)有技術(shù)不同取得的技術(shù)效果比現(xiàn)有技術(shù)有進(jìn)步技術(shù)方案可申請(qǐng)專(zhuān)利研發(fā)成果的典型特點(diǎn)技術(shù)效果技術(shù)問(wèn)題C1C2C3解決132誤區(qū)一:專(zhuān)利的技術(shù)含量必須很高能夠獲得專(zhuān)利的依據(jù)是專(zhuān)利法對(duì)于

專(zhuān)利的審查標(biāo)準(zhǔn)(新穎性和創(chuàng)造性

等),不是該專(zhuān)利能否符合國(guó)家的

技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)要求,也不是技術(shù)含量

的高低。專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)一:專(zhuān)利的技術(shù)含量必須很高專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)133案例一:用于干燥長(zhǎng)條形面食的桿技術(shù)問(wèn)題:面條掛在桿上送入干燥室,面條容易粘在桿的表面,桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。

專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例一:用于干燥長(zhǎng)條形面食的桿專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)134誤區(qū)二:簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)不能專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)135專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例1:一種噴嘴技術(shù)問(wèn)題:現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴,噴射低壓條件下的粘稠液體時(shí)容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象,維護(hù)麻煩。專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例1:一種噴嘴136專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例2:朗科的U盤(pán)專(zhuān)利快閃存儲(chǔ)器通用串行總線(xiàn)

快閃存儲(chǔ)器的外存儲(chǔ)使用方式簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該利用專(zhuān)利保護(hù),防

止競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手仿制專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)案例2:朗科的U盤(pán)專(zhuān)利快閃存儲(chǔ)器通用串行總137專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)三:制作出樣品才能申請(qǐng)專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)三:制作出樣品才能申請(qǐng)專(zhuān)利138專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)發(fā)明、實(shí)用新型和外觀(guān)設(shè)計(jì)保護(hù)的是什么?對(duì)于機(jī)械、機(jī)電、電子類(lèi)產(chǎn)品而言,技術(shù)內(nèi)涵可通過(guò)構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來(lái)表達(dá)樣機(jī)、樣品制作耗時(shí)專(zhuān)利申報(bào)的原則專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)139專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)四:一件產(chǎn)品一個(gè)專(zhuān)利專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)誤區(qū)四:一件產(chǎn)品一個(gè)專(zhuān)利140專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)手機(jī)外觀(guān)結(jié)構(gòu)芯片外觀(guān)或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋(píng)果三星專(zhuān)利挖掘常見(jiàn)的誤區(qū)手機(jī)外觀(guān)結(jié)構(gòu)芯片外觀(guān)或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝141專(zhuān)利布局專(zhuān)利布局142專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹(shù)底下種草農(nóng)村包圍城市專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:AAAAAAAA大樹(shù)底下種草143高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比,定義了細(xì)長(zhǎng)的幾何高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有144權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求145下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略146專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求專(zhuān)利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求147專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:ALEDCHIPABCDABCHLEDPACKAGEPOWERLEDPACKAGEABCFABCE大樹(shù)底下種草農(nóng)村包圍城市BACKLIHTDEVICESCANNINGDEVICEILLUMINATEDEVICE專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:ALEDAALEDLEDAA大148專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:B權(quán)利要求同時(shí)布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:B權(quán)利要求同時(shí)布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉149專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:C權(quán)利要求同時(shí)從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高模塊設(shè)備專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略:C權(quán)利要求同時(shí)從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)150LG’sUS5835139LG’sUS5835139151試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班152傳統(tǒng)的做法,用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框,鎖的很牢,但是造成外板太厚……傳統(tǒng)的做法,用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框,鎖的很牢,但153上框套在下框內(nèi)把4個(gè)螺絲改從側(cè)邊通過(guò)下框鎖住上框。easy上框套在下框內(nèi)154解決方案解決方案155專(zhuān)利主題:液晶顯示器螺絲在這專(zhuān)利主題:液晶顯示器螺絲在這156由7件專(zhuān)利構(gòu)成專(zhuān)利布局

-Filedfrom3JUL1997to28DEC200135個(gè)權(quán)利要求獨(dú)立項(xiàng)

-ALCD-AmethodofmakingaLCDdevice-Aportablecomputer-Amethodofmakingaportablecomputer-Akitforassemblingadisplaymodule-housingassemblyforaLCDmodule專(zhuān)利布局由7件專(zhuān)利構(gòu)成專(zhuān)利布局專(zhuān)利布局157目的

-簡(jiǎn)單的創(chuàng)意,獨(dú)特的發(fā)明,強(qiáng)大的專(zhuān)利布局

-擴(kuò)大訴訟之求償基礎(chǔ)與許可談判之能力

-獲取的權(quán)利金遠(yuǎn)超過(guò)專(zhuān)利申請(qǐng)費(fèi)用專(zhuān)利布局目的專(zhuān)利布局158LPLvs

中華映管VSLPL于2002年8月在美國(guó)加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專(zhuān)利(US6002457,US5926237,US6373537,US6020942),與二件方法專(zhuān)利(US4624737,US5825449)LPLvs中華映管VSLPL于2002年8月在美國(guó)加州控159TOP10PATENTAWARDIN2006TOP10PATENTAWARDIN2006160尋找訴訟對(duì)象尋找訴訟對(duì)象161他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù),并非LCD相關(guān)的核心技術(shù),而是周邊的應(yīng)用技術(shù);側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)只是周邊的應(yīng)用技術(shù),但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段;側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)并非LCD相關(guān)產(chǎn)品的核心技術(shù),但卻可以拿到專(zhuān)利權(quán),并經(jīng)過(guò)良好的撰寫(xiě),使得可以得到很大的專(zhuān)利范圍;經(jīng)過(guò)不斷的回避設(shè)計(jì),可以形成完整的專(zhuān)利組合,阻卻別人使用或者進(jìn)入。他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount162專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時(shí)從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組件應(yīng)用產(chǎn)品侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高成品專(zhuān)利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時(shí)從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組163從一件專(zhuān)利看專(zhuān)利布局從一件專(zhuān)利看專(zhuān)利布局164試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班165試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班166試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班167試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班168試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班169試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班170試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班171試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班172試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班173試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班174試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班175試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班176試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班177試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班178試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班179試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班180試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班181全球?qū)@季秩驅(qū)@季?82試點(diǎn)單位專(zhuān)利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班183專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)從法律所給予專(zhuān)利的權(quán)利進(jìn)行思考-中國(guó)專(zhuān)利法第十一條發(fā)明和實(shí)用新型專(zhuān)利權(quán)被授予后,除本法另有規(guī)定的以外,任何單位或個(gè)人未經(jīng)專(zhuān)利權(quán)人許可,都不得實(shí)施其專(zhuān)利,即不得為生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)目的制造、使用、銷(xiāo)售、許諾銷(xiāo)售、進(jìn)口其專(zhuān)利產(chǎn)品,或者使用其專(zhuān)利方法以及使用、許諾銷(xiāo)售、銷(xiāo)售、進(jìn)口依照該專(zhuān)利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷(xiāo)售地區(qū)、出口地區(qū)等,都應(yīng)該進(jìn)行專(zhuān)利布局。專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)從法律所給予專(zhuān)利的權(quán)利進(jìn)行思考184專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)優(yōu)先從銷(xiāo)售量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-賠償金較高-和解金、許可費(fèi)、權(quán)利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-賠償金較高再次由訴訟費(fèi)用高、賠償金額大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費(fèi)專(zhuān)利布局的地區(qū)(國(guó)家)優(yōu)先從銷(xiāo)售量大的地區(qū)進(jìn)行專(zhuān)利布局185信息利用信息利用186世界上90%至95%的發(fā)明成果在專(zhuān)利文獻(xiàn)中都有記載如果能夠有效利用專(zhuān)利信息,可以縮短60%的研發(fā)周期,節(jié)省40%的研發(fā)費(fèi)用。世界上90%至95%的發(fā)明成果在專(zhuān)利文獻(xiàn)中都有記載187比亞迪的經(jīng)驗(yàn)-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上,在繼承的基礎(chǔ)上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專(zhuān)利,突破西方企業(yè)的專(zhuān)利封鎖是極為關(guān)鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開(kāi)發(fā),60%來(lái)自公開(kāi)文獻(xiàn),30%來(lái)自現(xiàn)成樣品,自身的研究實(shí)際上只有5%左右。我們大量使用非專(zhuān)利的技術(shù),把專(zhuān)利技術(shù)剔除掉,非專(zhuān)利技術(shù)的組合就是我們的創(chuàng)新。專(zhuān)利需要尊重,但可以回避。比亞迪的經(jīng)驗(yàn)-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩188借鑒競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手經(jīng)驗(yàn)并繞開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)了解該領(lǐng)域?qū)@季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過(guò)程中研發(fā)立項(xiàng)前研究競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手是否落入自己的專(zhuān)利權(quán)利范圍,通過(guò)專(zhuān)利分析指導(dǎo)研發(fā)人員進(jìn)行后續(xù)的技術(shù)升級(jí)專(zhuān)利信息利用對(duì)于研發(fā)立項(xiàng)和產(chǎn)品上市的各個(gè)環(huán)節(jié)都非常重要!借鑒競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手經(jīng)驗(yàn)并繞開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)189反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)190本領(lǐng)域的申請(qǐng)主要來(lái)自職務(wù)發(fā)明,說(shuō)明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高,非職務(wù)發(fā)明人的技術(shù)力量難于參與到本領(lǐng)域的研發(fā)工作中來(lái)。職務(wù)發(fā)明比例高,使專(zhuān)利申請(qǐng)的技術(shù)水平得到了保證,也有利于專(zhuān)利技術(shù)的轉(zhuǎn)化實(shí)施和保護(hù)。職務(wù)發(fā)明比例本領(lǐng)域的申請(qǐng)主要來(lái)自職務(wù)發(fā)明,說(shuō)明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高,非職務(wù)191某技術(shù)領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)人的申請(qǐng)國(guó)家分布我國(guó)38%的專(zhuān)利申請(qǐng)是由國(guó)外申請(qǐng)人提出的,國(guó)外申請(qǐng)人中美國(guó)、日本、德國(guó)的比例最高,說(shuō)明這幾個(gè)國(guó)家較為重視中國(guó)市場(chǎng)。某技術(shù)領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)人的申請(qǐng)國(guó)家分布我國(guó)38%的專(zhuān)利申請(qǐng)是192國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)193國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實(shí)力優(yōu)勢(shì)。國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找194國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的技術(shù)構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領(lǐng)域的主要申請(qǐng)人的研究范圍,覆蓋的技術(shù)點(diǎn),以及各個(gè)申請(qǐng)人的重點(diǎn)側(cè)重的技術(shù)研究點(diǎn)。國(guó)內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的技術(shù)構(gòu)成圖。195利用IPC分類(lèi)的年度變化來(lái)分析重點(diǎn)技術(shù)及變化趨勢(shì)國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)構(gòu)成年度申請(qǐng)量。國(guó)外的專(zhuān)利申請(qǐng)?jiān)趫D中所示五個(gè)IPC小組下的申請(qǐng)量的變化趨勢(shì),以5年為一個(gè)周期波動(dòng),總體呈上升趨勢(shì),沒(méi)有出現(xiàn)明顯技術(shù)熱點(diǎn)轉(zhuǎn)移。

利用IPC分類(lèi)的年度變化來(lái)分析重點(diǎn)技術(shù)及變化趨勢(shì)國(guó)外某技術(shù)領(lǐng)196國(guó)外該技術(shù)領(lǐng)域的國(guó)別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國(guó)家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請(qǐng)為主,這與亞洲國(guó)家的研究熱點(diǎn)有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00,與中國(guó)情況有相似之處。韓國(guó)以B21D7/00為主。臺(tái)灣的情況更為特殊,超過(guò)一半的申請(qǐng)量都集中在B21D11/12小組下國(guó)外該技術(shù)領(lǐng)域的國(guó)別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國(guó)家主要以B21D11/197本領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利授權(quán)比例不高,授權(quán)專(zhuān)利僅占27%,實(shí)審中占38%,公開(kāi)占3%,視撤專(zhuān)利高達(dá)19%,終止占10%,駁回占3%。截至目前有效專(zhuān)利占27%,失效專(zhuān)利占35%,審查中占38%。授權(quán)專(zhuān)利的比例較低,說(shuō)明本領(lǐng)域的專(zhuān)利技術(shù)含量不高或撰寫(xiě)水平較差,很多專(zhuān)利申請(qǐng)達(dá)不到專(zhuān)利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析本領(lǐng)域中國(guó)專(zhuān)利授權(quán)比例不高,授權(quán)專(zhuān)利僅占27%,實(shí)審中占38198技術(shù)路線(xiàn)分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)在各技術(shù)分支上的專(zhuān)利申請(qǐng)量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合效率的因素較多,因此業(yè)界對(duì)聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)的研究相對(duì)比較分散。鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)路線(xiàn)分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域199技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電池技術(shù)領(lǐng)域關(guān)注的焦點(diǎn)。在三個(gè)主要技術(shù)需求方面的專(zhuān)利申請(qǐng)量幾乎持平,明顯高于其余幾個(gè)方面,且保持穩(wěn)步增長(zhǎng)。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低,業(yè)界對(duì)這些技術(shù)方向保持著較高的研究熱情。技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場(chǎng)聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電200專(zhuān)利布局情況三星株式會(huì)社的專(zhuān)利布局較為廣泛表明三星株式會(huì)社的目標(biāo)不僅僅是國(guó)內(nèi)而是廣闊的全球市場(chǎng)在本國(guó)的申請(qǐng)量最大,在美國(guó)和日本與其本國(guó)接近2000年后開(kāi)始關(guān)注中國(guó)市場(chǎng),對(duì)歐洲市場(chǎng)的關(guān)注度較低專(zhuān)利布局情況三星株式會(huì)社的專(zhuān)利布局較為廣泛201——專(zhuān)利訴訟在被告專(zhuān)利侵權(quán)時(shí)積極應(yīng)訴,檢索該專(zhuān)利申請(qǐng)日之前公布的可破壞其專(zhuān)利性的專(zhuān)利文獻(xiàn),并作為證據(jù)通過(guò)訴訟程序無(wú)效該專(zhuān)利,保護(hù)企業(yè)合法權(quán)益。企業(yè)利用專(zhuān)利信息的需求——專(zhuān)利訴訟企業(yè)利用專(zhuān)利信息的需求202應(yīng)用實(shí)例2011年3月29日,第39屆巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展上,瑞士公司向主辦發(fā)投訴,稱(chēng)海鷗公司侵權(quán),要求海鷗公司立刻將有關(guān)產(chǎn)品撤下展臺(tái)并接受處罰。兩天后,巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布,中國(guó)天津海鷗手表集團(tuán)公司對(duì)瑞士企業(yè)的侵權(quán)投訴提出反訴并勝訴。這是中國(guó)企業(yè)首次在世界規(guī)模的國(guó)際鐘表珠寶展上成功維權(quán)。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國(guó)第一只手表在天津誕生。他叫海鷗應(yīng)用實(shí)例2011年3月29日,第39屆巴塞爾國(guó)際鐘表珠寶展上2032012年的展會(huì),自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國(guó)際水平的同軸陀飛輪女士腕表9日,瑞士歐米茄公司向巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)投訴,稱(chēng)海鷗表在對(duì)同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞,對(duì)歐米茄商標(biāo)構(gòu)成侵權(quán)。2012年的展會(huì),自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國(guó)際204

海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是:“海鷗”展會(huì)標(biāo)識(shí)牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機(jī)芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞,是對(duì)產(chǎn)品的描述,與商標(biāo)侵權(quán)無(wú)關(guān)。海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是:“海鷗”展會(huì)標(biāo)識(shí)牌上使20510日,巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布裁決結(jié)果,海鷗表2012年巴塞爾展會(huì)使用的標(biāo)識(shí)牌未對(duì)歐米茄注冊(cè)商標(biāo)構(gòu)成任何侵害,駁回歐米茄公司的投訴。10日,巴塞爾國(guó)際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布裁決結(jié)果,海206專(zhuān)利質(zhì)量專(zhuān)利質(zhì)量207高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件1、技術(shù)領(lǐng)域、主題把握準(zhǔn)確2、說(shuō)明書(shū)滿(mǎn)足充分公開(kāi)的最低標(biāo)準(zhǔn)3、說(shuō)明書(shū)清楚、完整4、實(shí)施例數(shù)量能夠足夠支持權(quán)利要求5、權(quán)利要求撰寫(xiě)層次分明、概括范圍適當(dāng)6、能夠有針對(duì)性地保護(hù)技術(shù),防止侵權(quán)規(guī)避7、充分保護(hù)最佳方案,同時(shí)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手做選擇性發(fā)明高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件1、技術(shù)領(lǐng)域、主題把握準(zhǔn)確208清楚完整公開(kāi)充分形成高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件A26.3說(shuō)明書(shū)應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f(shuō)明

清楚完整公開(kāi)充分形成高質(zhì)量專(zhuān)利申請(qǐng)文件A26.3說(shuō)明書(shū)應(yīng)209目前存在的清楚性、完整性問(wèn)題p1、由于申請(qǐng)人未理解專(zhuān)利申請(qǐng)文件清楚、完整的重要性,怠于為代理人提供足夠的技術(shù)資料

p2、申請(qǐng)人出于保密的考慮,將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來(lái),僅提供一個(gè)大致的想法p3、由于申請(qǐng)人對(duì)自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜?,將技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù),認(rèn)為不需要進(jìn)行詳細(xì)介紹目前存在的清楚性、完整性問(wèn)題210針對(duì)上述問(wèn)題的對(duì)策P2缺少申請(qǐng)人欲保密內(nèi)容能滿(mǎn)足專(zhuān)利性嗎?是否繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾?qǐng)針對(duì)上述問(wèn)題的對(duì)策P2缺少申請(qǐng)人欲保是否繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┎牧匣?11一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn):工藝中采用了一種新的氣體,提高了形成的材料的性能問(wèn)題:申請(qǐng)人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱(chēng)需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用,是否能由某一類(lèi)氣體實(shí)現(xiàn)一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn):工藝中采用了一種新的氣體,提高了形成的材料212如果能,(雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)),則可以在申請(qǐng)文件中僅提出該類(lèi)氣體,并舉出非最佳的幾種氣體(最佳氣體可以進(jìn)行保密)風(fēng)險(xiǎn):競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手受啟發(fā)研制出最佳氣體并申請(qǐng)專(zhuān)利,會(huì)讓自己陷入被動(dòng)如果能,(雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)),則可213如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn),則必須在申請(qǐng)文件中指出該特定氣體,否則就只能放棄專(zhuān)利申請(qǐng).如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn),則必須在申請(qǐng)文214注:對(duì)可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述;但是,對(duì)于與技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實(shí)現(xiàn)的內(nèi)容,則可以略寫(xiě)。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù),僅提到在技

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