2022年行業(yè)分析光刻機行業(yè)現(xiàn)狀

光刻機行業(yè)現(xiàn)狀光刻機從2022年到2025年的復合年增長率將達到為15.8%。目前光刻工藝是IC制造中最關鍵也是最簡單步驟，光刻機是目前成本最高的半導體設備，光刻工藝也是制造中占用時間比最大的步驟。以下對光刻機行業(yè)現(xiàn)狀分析。

光刻機設備市場龍頭集中，EUV光刻機被ASML壟斷。全球光刻機出貨量99%集中在ASML，尼康和佳能。光刻機行業(yè)分析指出，其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端EUV光刻機市場。ASML技術先進離不開高投入，其研發(fā)費用率始終維持在15%-20%，遠高于Nikon和Canon。

光刻機廠商市場份額

光刻機用途廣泛，除了高端大氣上檔次的前道光刻機之外，還有用于LED制造領域投影光刻機和用于芯片封裝的后道光刻機，雖然在前道光刻機上國內(nèi)廠商和ASML差距猶如鴻溝，但后道光刻機和封裝光刻機國內(nèi)廠商不僅都能制造，還占據(jù)了不低的市場份額。現(xiàn)從三大市場狀況來分析光刻機行業(yè)現(xiàn)狀。

上海微電子的90nm光刻機：目前我國能整機制造光刻機的只有上海微電子，2022年起家開頭做這方面的討論，從零起步，目前其制造工藝已經(jīng)能達到90nm，2022年時上海微電子產(chǎn)的光刻機已經(jīng)完成驗收。光刻機行業(yè)現(xiàn)狀根據(jù)科技領域的研發(fā)狀況，使用一代，研發(fā)一代，再預備一代，上海微電子基本上也是這個流程，搞定90nm工藝后，現(xiàn)階段已經(jīng)完成了65nm工藝的研發(fā)和驗證，已經(jīng)再預備后續(xù)28nm的工藝了。另有消息稱我國已經(jīng)在加緊研制14nm的制造工藝，前期預備工作(相關技術)已經(jīng)通過驗證和審核。

上海微電子只是系統(tǒng)制造商：雖然上海微電子能做光刻機整機設備，但并不意味著這家企業(yè)能自己獨立生產(chǎn)光刻機中的全部零配件，它只是一個系統(tǒng)制造商。光刻機行業(yè)現(xiàn)狀分析，想要制造一臺完整的光刻機需要全球選購零配件，尤其是核心精密零部件更是依靠國外廠商，比如的光柵、德國鏡頭、瑞典軸承等等。當然，全球選購是目前光刻機廠商通用的做法，也是很無奈的做法，由于沒有任何一家企業(yè)有實力完成全部零配件的生產(chǎn)，能獨立完成光刻機的制造。荷蘭ASML也一樣全球選購然后生產(chǎn)制造。

提高光刻機技術核心是材料學：前面說了制造光刻機需要各種精密配件，上海微電子僅的光刻機就得幾萬的配件。光刻機行業(yè)現(xiàn)狀分析，想要提高我國光刻機的整體工藝水平，光靠上海微電子一家廠商是不行的，需要全國整體的制造業(yè)水平上去，能夠制造出我國自己的光柵、鏡頭、軸承、閥件等等。而想要制造出高質(zhì)量的配件，最終又將歸結于材料學的討論，許多東西目前其實我們能造，但是使用的材料不過關，精度和質(zhì)量達不到國外廠商的水準。因此，這就需要我國全部相關企業(yè)都能努力提高。

作為集成電路產(chǎn)業(yè)的核心裝備，有人稱光刻機為“人類最精密簡單的機器”。工件臺系統(tǒng)是光刻機的重要子系統(tǒng)，工件臺系統(tǒng)的運行速度、加速度、系統(tǒng)穩(wěn)定性和系統(tǒng)的定位建立時間對光刻機的生產(chǎn)精度和效率起著至關重要的作用。本次“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”項目驗收