標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB 7667-1996 電子顯微鏡X射線泄漏劑量》這一國家標(biāo)準(zhǔn)主要規(guī)定了電子顯微鏡在運行過程中可能產(chǎn)生的X射線泄漏劑量的安全限值和技術(shù)要求，旨在保護(hù)操作人員及環(huán)境免受X射線輻射的潛在危害。具體內(nèi)容包括：

  1. 適用范圍：該標(biāo)準(zhǔn)適用于安裝有X射線源的電子顯微鏡設(shè)備，包括透射電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，明確了這些設(shè)備在設(shè)計、制造、使用和維護(hù)過程中關(guān)于X射線防護(hù)的具體要求。

  2. 定義與術(shù)語：標(biāo)準(zhǔn)首先對相關(guān)專業(yè)術(shù)語進(jìn)行了界定，如“X射線泄漏劑量”、“主束光闌”、“防護(hù)屏蔽”等，為后續(xù)條款的準(zhǔn)確理解和執(zhí)行提供了基礎(chǔ)。

  3. 安全要求：明確規(guī)定了電子顯微鏡X射線源在正常工作狀態(tài)和非正常工作狀態(tài)下（如故障時）的X射線泄漏劑量限值，確保其不超過國家規(guī)定的輻射安全標(biāo)準(zhǔn)，保障人員健康安全。

  4. 檢測方法：詳細(xì)說明了如何測量電子顯微鏡X射線泄漏劑量的方法和步驟，包括測量點的選擇、測量儀器的要求、測量條件以及數(shù)據(jù)處理等，以確保測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可比性。

  5. 防護(hù)措施：提出了電子顯微鏡應(yīng)采取的有效防護(hù)措施，比如設(shè)置防護(hù)屏蔽、安裝連鎖裝置、合理布局實驗室空間、提供個人防護(hù)裝備等，以減少X射線的泄漏并有效控制輻射水平。

  6. 標(biāo)志與說明書：要求制造商在電子顯微鏡上明確標(biāo)示X射線警告標(biāo)志，并隨設(shè)備提供詳細(xì)的使用說明書，說明書中應(yīng)包含安全操作規(guī)程、維護(hù)保養(yǎng)方法以及緊急應(yīng)對措施等內(nèi)容，確保用戶能夠正確安全地使用設(shè)備。

  7. 監(jiān)督與管理：強(qiáng)調(diào)了對電子顯微鏡X射線防護(hù)的監(jiān)督管理要求，包括定期進(jìn)行安全檢查、維護(hù)校驗，以及建立相應(yīng)的安全管理規(guī)章制度，確保標(biāo)準(zhǔn)得到持續(xù)有效的實施。


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  • 廢止
  • 已被廢除、停止使用，并不再更新
  • 1996-08-13 頒布
  • 1996-12-01 實施
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53700中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)CB7667-1996電子顯微鏡×射線泄漏劑量ThedoseofX-raysleakagefromelectronmicroscope1996-08-13發(fā)布1996-12-01實施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)cB7667—1996電子顯微鏡X射線泄漏劑量代替GB7667-87ThedoseofX-raysleakagefromeleetronmicroscope1.主題內(nèi)客與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子顯微鏡(以下簡稱電鏡)X射線泄漏劑量、試驗方法及檢驗規(guī)則。本標(biāo)準(zhǔn)適用于透射、掃描、反射、透射掃描和電子探針等不同類型的電鏡。技術(shù)要求電鏡X射線泄漏的空氣吸收劑量率不應(yīng)大于2.5″Gy/h.3試驗方法3.1試驗設(shè)備帶有修正因子(指校正X射線)X射線劑量率儀，其等級為二級。最小檔刻度值不能太于1Gy/h。3.2試驗步驃3.2.1將加速電壓調(diào)到最高檔，選用最大正常工作束流和最大束斑。3.2.2將聚光鏡調(diào)整到正常工作狀態(tài)，放大倍率調(diào)到最低檔，并將活動光麗全部退出。對掃描電鏡和電子探針等則應(yīng)以鴿為樣品將吸收電流調(diào)到最大值。3.2.3試驗部位為照相室、觀察室、樣品室、活動光闌、電子槍(電鏡加速電壓等于大于400kV的電子槍被測部位指隔離層）真空管道、顯像管、鏡簡及其附屬裝置。在試驗樣品室以上的部位時,則應(yīng)將物鏡活動光闌插入電子束通道。3.2.4將X射線劑量率儀在離開試驗部位50mm處作緩饅移動,測出其X射線最大泄漏的空氣吸收劑量率。4檢驗規(guī)則產(chǎn)品檢驗抽樣方案按逐臺檢驗方案進(jìn)行。附加說明：本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國機(jī)械工業(yè)部提出。本標(biāo)準(zhǔn)由上海電子光學(xué)技術(shù)研究所負(fù)責(zé)

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