標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 14146-2009 硅外延層載流子濃度測定 汞探針電容-電壓法》相比于其前版《GB/T 14146-1993 硅外延層載流子濃度測定 汞探針電容-電壓法》,主要在以下幾個方面進行了修訂和完善:
-
技術(shù)內(nèi)容更新:2009版標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)近年來硅外延層技術(shù)和測試方法的發(fā)展,對測量原理、試驗條件、儀器設(shè)備要求等方面進行了修訂,以更準(zhǔn)確地反映當(dāng)前技術(shù)水平和測試需求。
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測量精度提升:新標(biāo)準(zhǔn)可能引入了更精確的校準(zhǔn)方法和數(shù)據(jù)處理技術(shù),旨在提高載流子濃度測定的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,減少測量誤差。
-
術(shù)語和定義明確化:針對行業(yè)內(nèi)術(shù)語的發(fā)展變化,2009版標(biāo)準(zhǔn)對關(guān)鍵術(shù)語和定義進行了修訂或新增,以確保標(biāo)準(zhǔn)語言的清晰度和專業(yè)性。
-
試驗方法優(yōu)化:詳細規(guī)定了實驗步驟和操作流程,可能包括了對汞探針的使用、電容-電壓特性曲線的獲取及分析方法的改進,使得測試過程更加標(biāo)準(zhǔn)化和可操作性增強。
-
安全與環(huán)保要求:鑒于汞探針使用中的特殊性,新版標(biāo)準(zhǔn)可能加強了對實驗安全和環(huán)境保護的要求,提供了更詳細的安全操作指南和廢棄物處理規(guī)定。
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適用范圍調(diào)整:可能根據(jù)行業(yè)應(yīng)用的擴展,調(diào)整了標(biāo)準(zhǔn)的適用范圍,涵蓋了更廣泛的硅基材料和外延層類型。
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參考文獻更新:引用了最新的科研成果和技術(shù)文獻,為標(biāo)準(zhǔn)提供了更堅實的理論基礎(chǔ)和實踐支持。
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一致性與國際接軌:2009版標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中可能考慮了與國際相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的協(xié)調(diào)一致,提高了中國標(biāo)準(zhǔn)的國際認可度和兼容性。
這些變動反映了標(biāo)準(zhǔn)隨技術(shù)進步和市場需求而進行的適時調(diào)整,旨在為硅外延層載流子濃度的測定提供更為科學(xué)、精確和適用的方法指導(dǎo)。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 14146-2021
- 2009-10-30 頒布
- 2010-06-01 實施



文檔簡介
犐犆犛29.045
犎80
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜14146—2009
代替GB/T14146—1993
硅外延層載流子濃度測定
汞探針電容電壓法
犛犻犾犻犮狅狀犲狆犻狋犪狓犻犪犾犾犪狔犲狉狊犱犲狋犲狉犿犻狀犪狋犻狅狀狅犳
犮犪狉狉犻犲狉犮狅狀犮犲狀狋狉犪狋犻狅狀犿犲狉犮狌狉狔狆狉狅犫犲狏狅犾狋犪犵犲狊犮犪狆犪犮犻狋犪狀犮犲犿犲狋犺狅犱
20091030發(fā)布20100601實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
書
犌犅/犜14146—2009
前言
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T14146—1993《硅外延載流子濃度測定汞探針電容電壓法》。
本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T14146—1993相比,主要有如下變動:
———測量范圍由原1013cm-3~1018cm-3改為4×1013cm-3~8×1016cm-3,并增加了對外延層厚
度的測試要求和拋光片的測試適用性;
———增加了引用標(biāo)準(zhǔn);
———增加了干擾因素;
———試劑中氫氟酸(ρ1.15g/mL)改為氫氟酸(分析純),刪除硝酸(ρ1.4g/mL),增加雙氧水(分析
純),去離子水電阻率由大于2MΩ·cm改為大于10MΩ·cm;
———對“測量儀器及環(huán)境”,“樣品處理”,“儀器校準(zhǔn)”,“測量步驟”的內(nèi)容進行了全面修改;
———刪除“測量結(jié)果的計算”;
———增加了重復(fù)性和再現(xiàn)性;
———增加了附錄“硅片接觸良好測試”的判定指標(biāo)。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為規(guī)范性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:南京國盛電子有限公司、寧波立立電子股份有限公司、信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量
監(jiān)督檢驗中心。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:馬林寶、唐有青、劉培東、李靜、金龍、呂立平。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB/T14146—1993。
Ⅰ
書
犌犅/犜14146—2009
硅外延層載流子濃度測定
汞探針電容電壓法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅外延層載流子濃度汞探針電容電壓測量方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于同質(zhì)的硅外延層載流子濃度測量。測量范圍為:4×1013cm-3~8×1016cm-3。
本標(biāo)準(zhǔn)測試的硅外延層的厚度必須大于測試偏壓下耗盡層的深度。
本標(biāo)準(zhǔn)也可適用于硅拋光片的載流子濃度測量。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T1550非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類型測試方法
GB/T1552硅、鍺單晶電阻率測定直排四探針法
GB/T14847重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法
3方法原理
汞探針與硅外延片表面接觸,形成一個肖特基勢壘。在汞探針與硅外延片之間加一反向偏壓,結(jié)的
勢壘寬度向外延層中擴展。結(jié)的勢壘電容(犆)及其電壓(犞)的變化率(d犆/d犞)與勢壘擴展寬度(狓)及
其相應(yīng)的載流子濃度[犖(狓)]有如式(1)和式(2)關(guān)系:
犆31
犖(狓)=2×…………(1)
εε0犲犃d犆
-
(d犞)
狓=ε·ε0·犃/犆…………(2)
式中:
狓———勢壘擴展寬度,單位為厘米(cm);
犖(狓)———載流子濃度,單位為每立方厘米(cm-3);
犆———勢壘電容,單位為法(F);
犲———電子電荷,1.602×10-19,單位為庫侖(C);
ε———相對介電常數(shù),其值為11.75;
-14
ε0———真空介電常數(shù),其值為8.859×10,單位為法每厘米(F/cm);
犃———汞硅接觸面積,單位為平方厘米(cm2)。
只要測得犆,d犆/d犞和犃,便可由式(1)和式(2)計算得到勢壘擴展寬度狓
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