標準解讀

GB/T 20175-2006是一項關(guān)于表面化學分析中濺射深度剖析的技術(shù)標準，重點介紹了使用層狀膜系作為參考物質(zhì)來優(yōu)化分析過程的方法。該標準旨在為材料科學、半導(dǎo)體技術(shù)、微電子學等領(lǐng)域中的表面分析提供精確、可重復(fù)的測量指導(dǎo)。

標準核心內(nèi)容

  1. 范圍：規(guī)定了在進行濺射深度剖析時，如何選擇和使用層狀參考物質(zhì)來校準和優(yōu)化分析儀器，確保分析結(jié)果的準確性和可靠性。適用于使用離子束濺射技術(shù)進行表面微區(qū)成分分析的情況。

  2. 術(shù)語和定義：明確了與濺射深度剖析相關(guān)的專業(yè)術(shù)語，包括濺射速率、參考物質(zhì)、層狀膜系等，為讀者提供了清晰的概念基礎(chǔ)。

  3. 參考物質(zhì)的選擇與制備：詳細說明了用于校準的參考物質(zhì)應(yīng)具備的特性，如均勻性、穩(wěn)定性、已知的層結(jié)構(gòu)和成分等。同時，介紹了參考物質(zhì)的制備方法，強調(diào)了清洗、沉積技術(shù)和表征的重要性。

  4. 儀器校準：闡述了如何利用選定的層狀膜系參考物質(zhì)對濺射深度剖析儀器進行校正，包括濺射速率的測定、質(zhì)量靈敏度因子的確定等，確保分析過程中參數(shù)設(shè)置的準確性。

  5. 數(shù)據(jù)分析方法：提供了數(shù)據(jù)處理和分析的推薦步驟，包括如何根據(jù)參考物質(zhì)的濺射特性校正實驗數(shù)據(jù)，以及如何通過這些校正提高深度剖析結(jié)果的精度和置信度。

  6. 質(zhì)量控制：強調(diào)了在分析過程中實施質(zhì)量控制措施的重要性，包括定期重復(fù)校準、監(jiān)控參考物質(zhì)的穩(wěn)定性和記錄詳細的實驗條件，以維持分析結(jié)果的一致性和可靠性。

  7. 附錄：包含了額外的信息和示例，如參考物質(zhì)的認證程序、特定分析技術(shù)的注意事項等，為實際操作提供了進一步的指導(dǎo)和支持。

實施意義

本標準通過標準化濺射深度剖析中參考物質(zhì)的選擇、儀器校準及數(shù)據(jù)分析流程，提升了表面化學分析的標準化水平和結(jié)果的互換性。它為科研人員和工業(yè)界提供了一套系統(tǒng)的方法論，有助于提高材料表面分析的準確度和效率，對于新材料開發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量控制以及科學研究具有重要意義。


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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2006-03-27 頒布
  • 2006-11-01 實施
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GB/T 20175-2006表面化學分析濺射深度剖析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法-免費下載試讀頁

文檔簡介

ICS71.040.40N33中華人民共和國國家標準GB/T20175-2006/ISO14606：2000表面化學分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法Surfacechemicalanalysis-Sputterdepthprofiling-Optimizationusinglayeredsystemasreferencematerials（ISO14606:2000,IDT)2006-03-27發(fā)布2006-11-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標準化管理委員會

GB/T20175-2006/ISO14606:2000次前言引言1范圍2術(shù)語和定義3符號和縮略語4藏射深度部析的參數(shù)設(shè)定5誠射深度部析時理想突變界面的深度分辨6參數(shù)設(shè)定優(yōu)化的步驃附錄A（資料性附錄）影響深度分辨的因素附錄B（資料性附錄)典型單層膜系參考物質(zhì)附錄C（資料性附錄)典型多層膜系參考物質(zhì)附錄D（資料性附錄)多層膜系的使用參考文獻

GB/T20175-2006/ISO14606:2000前本標準等同采用ISO14606:2000《表面化學分析濺射深度部析用用層狀膜系作為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法》。本標準附錄A、附錄B、附錄C、附錄D為資料性附錄本標準由全國徽束標準化技術(shù)委員會提出。本標準由全國微束標準化技術(shù)委員會歸口本標準負責起草單位：清華大學電子工程系。本標準主要起草人：查良鎮(zhèn)、陳旭、王光普、黃雁華、黃天斌、劉林、葛欣、桂東

GB/T20175-2006/ISO14606:2000在硅片、多層膜器件(如AIGaAs雙異質(zhì)結(jié)激光器,各種高電子遷移率晶體管)和車體防腐作用合金-鍍鋅鋼等材料中，參考物質(zhì)用于優(yōu)化濺射部析方法的深度分辨本標準的具體應(yīng)用范圍如下：“）在俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定時.用襯底上單層和多層膜系為參考物質(zhì)來優(yōu)化深度分辨。用這些膜系來說明濮射弧坑的平滑度、弧坑底的傾斜度、樣品漂移以及各種濮射條件(如離子?xùn)|流密度)的漂移等因素對深度分辨的影響。用用這些膜系來說明濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度和濾射誘導(dǎo)的原子混合等因素對深度分辨的影響，用這些膜系為儀器供應(yīng)者和用戶來評估儀器的性能。本標準是適時的，可成為進一步發(fā)展濮射深度部析的基礎(chǔ)在參考文獻-中給出與本標準相關(guān)ISO指南的目錄。注：在本標準制定過程中.用多層摻雜膜系參考物質(zhì)評估深度分辨參數(shù)的方法已在二次離子質(zhì)譜學中退速發(fā)展和廣泛應(yīng)用,并由ISO/SC6二次離子質(zhì)譜分委員會立項制定相關(guān)的ISO標準。ISO20341國際標準（表面化學分析二次離子質(zhì)譜用多6層參考物質(zhì)評估深度分養(yǎng)參數(shù)的方法)已于2003年7月15日頒布

GB/T20175—2006/IS014606:2000表面化學分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法1范圍為使俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質(zhì)譜的儀器設(shè)定達到深度分辨的優(yōu)化目的.本標準采用適當?shù)膯螌雍投鄬幽は祬⒖嘉镔|(zhì)，提供優(yōu)化灘射深度部析參數(shù)的指南。特殊多層膜系(如各種摻雜層膜系)的使用不包括在本標準內(nèi)。術(shù)語和定義本標準采用下列術(shù)語和定義住1：本標準采用的術(shù)語主要引自ASTME673—97。術(shù)語的定義做了一些修改以便與正由ISO/TC201/SC1制定的術(shù)語保持一致。住2：ISO18115表面化學分析術(shù)語國際標準已于2001年7月15日頒布2.1分析面積analysisarca被測平面內(nèi)樣品表面的二維區(qū)域,從此區(qū)域內(nèi)檢測到全部或指定百分比的信號22弧坑邊緣效應(yīng)Crateredgeeffect來自弧坑邊緣的信號，通常是在深度部析時由于弧坑邊緣比弧坑中心區(qū)淺而引起的23誠射深度刮析sputterdepthprofile當材料被濺射剝離時測量表面成分得到的成分深度分布2.4誠射速率Sputteringrate單位時間經(jīng)粒子轟擊而導(dǎo)致樣品材料被剝離的總量。?。涸撍俾士捎盟俣?、單位時間單位面積的質(zhì)量或單位時間測得的其他量來度量2.5門區(qū)域gatedarea在較大區(qū)域內(nèi)從中可獲取信號的指定區(qū)域2.6入射角angleofincidence人射束與該處或平均表面法線間的夾角。27深度分瓣depthresolution當部析兩介質(zhì)間理想突變界面時，信號強度增加或減少指定量值的深度范圍注1：按常規(guī).深度分辨常用兩媒質(zhì)各

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