WET濕刻簡介培訓(xùn)

濕刻簡介WETteam2010年10月5日TFT簡易流程濕刻設(shè)備構(gòu)成刻蝕方式搬送線類型刻蝕反應(yīng)原理藥液濃度控制Taper角CDloss刻蝕后的關(guān)聯(lián)檢測SummaryTFT簡易流程清洗成膜PRcoating顯影WET

EtchStripper單層膜完成成膜順序GateA1WET300ACTS/DA1WET200PassITOA1WET100TEST濕刻設(shè)備構(gòu)成：INCVAPNCVETCHZONEDIRINSEUNITA/Kdry2dry1液刀風(fēng)簾干燥風(fēng)刀置換液刀OutCV設(shè)備主要工藝單元：EUVunit:祛除玻璃表面有機(jī)殘留物。Etchzone:刻蝕區(qū)域Rinseunit:水洗單元Dryunit：干燥單元液刀：主要起預(yù)濕（置換），沖刷的效果。風(fēng)簾：主要是吹掉玻璃上殘余的藥液風(fēng)刀：干燥的玻璃的效果。濕刻設(shè)備構(gòu)成：WETEtcher

工程概念圖刻蝕帶出藥液處理風(fēng)刀水洗干燥風(fēng)刀PumpChemicalTank刻蝕的方式Spraymode:通過噴嘴將藥液均勻的噴灑在玻璃上方進(jìn)行蝕刻。有沖刷的效果，刻蝕速率快。Dipmode：將玻璃完全浸泡在藥液里進(jìn)行蝕刻。反應(yīng)生成物帶走較慢，刻蝕速率慢。Taper比較好.混合模式：以上2種模式一起使用的刻蝕方式。根據(jù)需要采用混合模式，可以改善taper刻蝕時(shí)最重要的工藝是控制刻蝕速率?？涛g的模式，藥液噴淋的流量，濃度的變化都會影響刻蝕的速率。主溶液glassdepo光阻光阻化學(xué)反應(yīng)chemicalchemical搬送線類型：設(shè)備Etchzone的搬送線為水平搬送線。在spraymode下藥液沖刷的效果不好。沖刷效果不好，藥液積累在中間區(qū)域，在噴嘴的作用下，中間區(qū)域反應(yīng)較快。容易出現(xiàn)殘留，側(cè)蝕較大。沖刷效果好，刻蝕均勻,側(cè)蝕小，不容易出現(xiàn)殘留?？涛g反應(yīng)原理：Al一般Ａｌ蝕刻液是由硝酸、磷酸、醋酸的混合酸組成。某些公司會增加一些添加劑起輔助蝕刻的作用。

第一階段（生成活性酸素）２ＨＮＯ３?２ＮＯ２＋（Ｏ）＋Ｈ２Ｏ???（ＨＮＯ３濃度高時(shí)）２ＨＮＯ３?２ＮＯ＋３（Ｏ）＋Ｈ２Ｏ???（ＨＮＯ３濃度低時(shí)）

第二階段（生成中間體）２Ａｌ＋３（Ｏ）?Ａｌ２Ｏ３?????（反應(yīng)停止）

氧化鋁有抗腐蝕性，此時(shí)反應(yīng)會停止這種反應(yīng)，在醋酸的［Ｈ＋］沒有共存的時(shí)候發(fā)生，在金屬表面形成不動態(tài)，反應(yīng)停止?！趸郏龋荽罅看嬖诘膱龊?，不會生成不動態(tài)。Ａｌ＋［Ｈ＋］＋２（Ｏ）?ＨＡｌＯ２－????（活性劑）Ａｌ２Ｏ３＋2［Ｈ＋］?ＨＡｌＯ２－＋２（Ｏ）?（緩沖）共存醋酸?［Ｈ＋］的緩沖效果和對于金屬表面起到活性劑的作用?！扇诤衔?。

第三階段（中間態(tài)和酸的反應(yīng)）ＨＡｌＯ２－＋３ＨＮＯ３?Ａｌ（ＮＯ）３＋２Ｈ２Ｏ????ＨＡｌＯ２－＋Ｈ３ＰＯ４?ＡｌＰＯ４＋２Ｈ２Ｏ?????—————————————————————————溶解在磷酸里最終生成物：ＮＯ－?ＮＯ２－?ＨＡｌＯ２－?Ａｌ（ＮＯ３）３?ＡｌＰＯ４ｅｔｃ溶解在H3PO4反應(yīng)主要消耗HNO3CH3COOH刻蝕反應(yīng)原理：Al藥液濃度控制從上述反應(yīng)過程可以看出，刻蝕反應(yīng)主要是依靠硝酸和醋酸。因此需要EMS對藥液進(jìn)行濃度控制?？刂品绞绞峭ㄟ^補(bǔ)充醋酸和硝酸的消耗來維持藥液濃度的平衡。當(dāng)濃度偏差太大時(shí)會影響蝕刻的效果，出現(xiàn)殘留等defect.不做濃度控制是各酸的濃度變化濃度的變化對制品的影響刻蝕速率對HNO3的濃度比較敏感，所以需要精確控制。如圖1所示：HNO3↑H3PO4↓的情況如圖2所示：HNO3↓H3PO4↑的情況CH3COOH達(dá)到一定濃度后，對Etchrate影響不大。附：PR拈附性不良也會造成圖1的情況圖1圖2草酸（英文學(xué)名：Oxalicacid）也稱乙二酸，是一種強(qiáng)有機(jī)酸，化學(xué)式為HOOC-COOH。常見的草酸通常含有兩分子的結(jié)晶水（H2C2O4·2H2O）。乙二酸是一種無水透明晶體或粉末，味酸，易溶于水，微溶于乙醚，不容于苯。草酸溶液并不會腐蝕玻璃(SiO2)，但是一些純度不高的玻璃，因?yàn)楹需F、鈉等金屬離子，這些金屬離子可以與草酸結(jié)合而溶出，導(dǎo)致玻璃的透明度差，毛玻璃就是利用這樣的原理，但是實(shí)際上草酸是溶出玻璃中的金屬雜質(zhì)，而非腐蝕玻璃。ITO刻蝕就是使用濃度為3.3％～3.5％的草酸在一定濃度范圍內(nèi)，腐蝕速率基本保持不變3.4%濃度SEM不含添加劑時(shí)，帶有微晶體殘留含有添加劑時(shí)，無微晶體殘留TaperTaper:指蝕刻后的斷面傾斜度，影響后續(xù)沉積薄膜的覆蓋性。一般OverEtch越大，taper角度越大藥液中的添加劑的作用是改善taper,以及在雙層膜蝕刻時(shí)保持時(shí)刻速率覆蓋性差基板基板覆蓋性良好CDloss刻蝕前刻蝕后單邊CDlossChemicalEtchrate↑CDloss↑GLASSFILMPRGLASSFILMPROverEtch↑CDloss↑CDloss左圖上顯示的是一段時(shí)間內(nèi)5.6”S/DCD的統(tǒng)計(jì)值，要求管控CD均值為5.00實(shí)際的CD均值均大于5,相應(yīng)的下圖CDLoss則均大于要求管控的2.00,對此情況，就要做出調(diào)整，以保證產(chǎn)品的質(zhì)量，實(shí)際生產(chǎn)線上，WET200調(diào)整了相應(yīng)的RecipeCDC200：檢測刻蝕后的CD

產(chǎn)品首檢：更換不同尺寸的產(chǎn)品，需要先對第一片基板檢測CD，以確定機(jī)臺的狀態(tài)，保證后續(xù)產(chǎn)品的質(zhì)量正常產(chǎn)品抽檢：在生產(chǎn)中對產(chǎn)品按一定規(guī)則進(jìn)行抽檢，對生產(chǎn)狀態(tài)監(jiān)