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文檔簡(jiǎn)介
磨板&PTH培訓(xùn)教材A版磨板&沉銅工序培訓(xùn)內(nèi)容1、簡(jiǎn)介2、磨板機(jī)原理及作用3、各藥水缸的作用及反應(yīng)機(jī)理4、常見問題分析及處理簡(jiǎn)介一、磨板的作用:去除孔口披鋒,清潔板面,以利于后制程的生產(chǎn)。二、沉銅的作用:沉銅也稱化學(xué)鍍銅它的作用是在孔壁非導(dǎo)電體(絕緣體)表面沉積一層銅,以確保內(nèi)層導(dǎo)體與電路的可靠連接。磨板機(jī)器設(shè)備粗磨板機(jī)幼磨板機(jī)宇宙磨板機(jī)器設(shè)備生產(chǎn)線流程圖-粗磨機(jī)放板磨板段清洗段超聲波水洗段接板烘干高壓水洗段磨板作用a.除去板面的氧化,油污,手指印,及其它污物,在板面上形成微觀粗糙表面。b.利用磨板機(jī)的超音波水洗及高壓水洗沖洗孔內(nèi)起到清潔孔壁,減少孔內(nèi)披鋒。附效果圖:磨板前板磨板后板板面氧化.油污.手指印等磨板C、磨痕測(cè)試磨痕測(cè)試結(jié)果可以直接反映磨板機(jī)工作情況,由此可以分析到鋼轆與磨轆是否平行,磨轆是否到使用壽命,功率表數(shù)據(jù)是否有太大偏差,避免磨板過度或磨板不良。D、用水噴淋磨轆作用洗去磨轆上的銅粉,冷卻濕潤(rùn)磨轆,防止尼龍絲過熱而熔化。要求:噴淋角度在板與磨轆之間45O處。E、磨板后質(zhì)量檢查
a.目檢板面是否有氧化、水跡、污物.板面清潔度。b.水膜測(cè)試測(cè)試方法:取板面清潔處理后的板,用水浸濕板面并垂直放置,用秒表測(cè)量水膜破裂的時(shí)間,一般在幼磨時(shí)采用水膜破裂為≥15s為OK。c.板面粗糙度:經(jīng)磨板后的板面粗糙程度2.0um左右。*行業(yè)界人員定義一些參數(shù)衡量粗糙度如Ra;表面取樣長(zhǎng)度內(nèi)基準(zhǔn)線上所有距離絕對(duì)值的算術(shù)平均值;一般0.2-0.4um.Rt;表面取樣長(zhǎng)度內(nèi)最高峰頂和最低谷度之間的距離1.5-3.0um一般用目視法估計(jì),較少用科學(xué)儀器檢測(cè)。粗糙度由:磨刷材料,磨料粒度,磨板時(shí)的功率等共同決定。F、影響磨板質(zhì)量的主要因素1、磨轆型號(hào)及材料。2、磨輪轉(zhuǎn)速(線速度相對(duì)穩(wěn)定,大約12m/Sec,轉(zhuǎn)速與磨轆的直徑有關(guān))。3、輸送速度4、功率或磨痕5、磨轆、鋼轆及運(yùn)輸輪的水平。6、搖擺(3-10mm)搖擺可以減少板面粗糙度的方向性改善板面質(zhì)量,延長(zhǎng)磨轆的使用壽命)。錯(cuò)誤的接板方式
操作規(guī)范正確的接板方式
NGOKNG正確的放板方式錯(cuò)誤的接板方式OK龍門式自動(dòng)沉銅線競(jìng)銘機(jī)械股份有限公司上板→膨松→水洗→水洗→除膠→水洗→回收水洗→預(yù)中和→水洗→中和→水洗→水洗→除油→水洗→水洗→微蝕→水洗→酸洗→水洗→水洗→預(yù)浸→活化→水洗→水洗→加速→水洗→沉銅→水洗→水洗→下板二、沉銅流程
(1)膨松缸(需機(jī)械搖擺、循環(huán)過濾)作用:使孔壁上的膠渣軟化,并滲入樹脂聚合后之交處,以降低其鍵結(jié)的能量;使易于進(jìn)行樹脂的溶蝕;藥水成份:W-201,開缸量為30-40%(V/V),最佳值為35%(V/V),
生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加W-201膨松劑2.5L。NaOH,開缸量為5-10(g/L),最佳值為7(g/L),溫度:60-70℃
時(shí)間:5-10min(標(biāo)準(zhǔn)8min)。三、PTH各藥水缸成份及其作用
(2)除膠缸(需空氣攪拌、機(jī)械攪拌、機(jī)械搖擺或循環(huán)過濾)
作用:利用高錳酸鉀的強(qiáng)氧化性,使板在此堿性槽中將已被軟化的膠渣及其局部的樹脂進(jìn)行氧化反應(yīng),分解溶去;反應(yīng)方程式:
4MnO4-+有機(jī)樹脂+4OH-→4MnO42-+CO2↑+2H2O2MnO42-+[1/2O2]+H2O2MnO4-+2OH-藥水成份:NaOH,開缸量為40-60g/L,最佳值為50g/L,生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加NaOH0.3kg;W-202,開缸量為40-60g/L,最佳值為50g/L,生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加W-202
1kg;溫度:75-85℃時(shí)間:12-18min(標(biāo)準(zhǔn)為15min)(4)中和缸(需機(jī)械搖擺和循環(huán)過濾)作用:清洗殘留的高錳酸鉀;藥水成份:1、W-203開缸量為15-25%(V/V),最佳值20%(V/V)
生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加W-203中和劑5L;
2、CP級(jí)H2SO4
開缸時(shí)酸當(dāng)量為5-15%,最佳值為10%
生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加H2SO43L;溫度:30-45℃;處理時(shí)間:6-8min(標(biāo)準(zhǔn)為7min);換槽:處理300-400尺/L時(shí)即可更換新缸;(5)堿性除油缸(又名條件劑和清潔劑,需機(jī)械搖擺和循環(huán)過濾)作用:清潔和調(diào)整孔壁電荷,能有效去除板面上的油脂
氧化物及粉塵;藥水成份:CH-618,開缸8-12%,最佳值10%,生產(chǎn)每千尺需補(bǔ)加CH-618堿性除油劑1L;溫度:55-65℃處理時(shí)間:6-8min(標(biāo)準(zhǔn)7min)換槽:生產(chǎn)300-400尺/L時(shí)就應(yīng)更重開新缸(6)微蝕缸(又名粗化)作用:清潔、粗化銅面,確?;呐c銅的結(jié)合力;藥水成份:1、硫酸,開缸量為3-7%(V/V),最佳值為5%(V/V),生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加硫酸1L;
2、雙氧水,開缸量為3-5(V/V),最佳值為4%(V/V),生產(chǎn)每千尺板需補(bǔ)加雙氧水1.5L;溫度:20-40℃
處理時(shí)間:1-3min(標(biāo)準(zhǔn)1.5min);微蝕速率:1-2um/min換槽:銅離子≥40g/L時(shí)更換掉4/5的工作液;(8)一、活化缸(需機(jī)械攪拌和循環(huán)過濾)
作用:在孔壁上布滿負(fù)電性的鈀膠團(tuán);藥水成份:1、CH-628R
開缸量為180-240g/L,最佳值為220g/L,生產(chǎn)千尺由分析需要時(shí)補(bǔ)加;
2、HCL開缸量為30-40(ml/L),最佳值為35(ml/L),生產(chǎn)時(shí)分析補(bǔ)加;
3、CH-638
開缸量為1.0-1.5%,最佳值為1.3%,生產(chǎn)每千尺需補(bǔ)加CH-6380.5L;(8)二、活化缸(需機(jī)械攪拌和循環(huán)過濾)溫度:30-40℃處理時(shí)間:5-8min(標(biāo)準(zhǔn)7min)反應(yīng)方程式:PdCl2+SnCl2→PdSnCl4(中間態(tài))PdSnCl4→變成綠色錫離子
PdSnCl4+6PdCl2→SnPd7Cl16(催化劑)負(fù)反應(yīng):Pd2++Sn2+→Pd0+Sn4+
(在酸液及氯離子保護(hù)下,才能穩(wěn)定)Sn4++9H2O→H2SnO3·6H2O+4H+
不能帶入水,否則會(huì)水解。錫酸(10)二、化學(xué)銅缸(需機(jī)械搖擺、空氣攪拌和循環(huán)過濾)
化學(xué)反應(yīng)方程式:
1、正反應(yīng):Pd催化及堿性條件下,甲醛分離(解)下(氧化)而產(chǎn)生甲酸根陰離子
HCHO+OH-H2↑+HCOO-(甲酸)接著是銅離子被還原
Cu2++H2+2OH-→Cu+2H2OPd(10)三、化學(xué)銅缸(需機(jī)械搖擺、空氣攪拌和循環(huán)過濾)所鍍出的化學(xué)銅層又可作為自我催化的基地,
Cu2+又在此已催化的基礎(chǔ)上被電子還原成金屬銅,如此不斷,直至減弱
H-C-H+OH-[H-C-H]-
→H-C-OH+H-Cu2++2H-
→Cu↓
2、負(fù)反應(yīng):催化OHO(10)四、化學(xué)銅缸(需機(jī)械搖擺、空氣攪拌和循環(huán)過濾)①2Cu2++HCHO+5OH-→Cu2O↓+HCOO-+3H2O;
②“康尼查羅”反應(yīng)
2HCHO+NaOH→HCOONa+CH3OH生成甲酸、甲醇;③甲醇可使
Cu2+→Cu+Cu2O→2Cu++2OH-Cu2O+H2O→Cu↓+Cu2++2OH-
2Cu+→2Cu2++Cu↓A、銅離子Cu2+濃度
化學(xué)鍍銅速率隨鍍液中Cu2+濃度增加加快,當(dāng)Cu2+含量為2g/L以下時(shí),幾乎是成正比例增加,當(dāng)Cu2+含量超過3g/l以后化學(xué)鍍銅速率不再增加,反而會(huì)造成副反應(yīng)增加,使化學(xué)鍍銅液不穩(wěn)定。B、絡(luò)合劑
影響化學(xué)鍍銅速率最關(guān)鍵的因素是絡(luò)合劑的化學(xué)結(jié)構(gòu)。
C、還原劑濃度
甲醛在鍍液中含量的增加甲醛的還原電位升高,甲醛的濃度控制在4-7g/l。四、影響化學(xué)銅速率的因素D、PH
化學(xué)鍍銅反應(yīng)在有一定的PH值條件下才能產(chǎn)生;由于不同的絡(luò)合劑對(duì)銅的絡(luò)合常數(shù)不同,而且絡(luò)合常數(shù)隨溶液的PH而變化,銅離子的氧化電位也有所差別,這種差別造成了化學(xué)鍍銅反應(yīng)所需要的PH值也不同。
PH值增加化學(xué)銅速率加快,在PH為12.5時(shí)沉積速率最快,而且化學(xué)鍍銅層外觀最好。
E、添加劑
(穩(wěn)定劑)添加劑具有穩(wěn)定化學(xué)鍍銅液的作用。
F、溫度提高化學(xué)鍍銅液的溫度可以提高化學(xué)鍍銅速率。
G、溶液攪拌化學(xué)鍍銅過程中快速激烈的攪拌能提高沉積速率。
五、沉銅常見問題產(chǎn)生原因及解決方法孔粗產(chǎn)生原因:
1、鉆孔引起的,前工序漏波。
2、除膠過度引起。
3、銅缸沉積速度過快,使孔壁結(jié)銅渣。
解決方法:
1、控制來料,及時(shí)知會(huì)鉆孔工序作出改善。
2、調(diào)整除膠各缸參數(shù),如除膠溫度,濃度,時(shí)間等是否在WI文件要求范圍內(nèi)。
3、知會(huì)PE部化驗(yàn)室調(diào)整銅缸各參數(shù)達(dá)到最佳值。背光不良
產(chǎn)生原因:
1、鉆孔引起的焦體物被附在孔壁上。
2、沉銅拉各缸均有不同程度會(huì)產(chǎn)生背光不良。解決方法
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