單鏡實體化操作記錄

原文在“D:\PWC實用化技術(shù)\貼17--仿形設(shè)計的PWC方法\1-原態(tài).ZMX”實體光在“D:\PWC實用化技術(shù)\貼17--仿形設(shè)計的PWC方法\1-例1\2-各單鏡\架構(gòu).ZMX”架構(gòu)光路如上文件是像差初步平衡好后的文操作集檢見“D:\PWC實用化技術(shù)\貼17--仿形設(shè)計的PWC方法\1-例1\2-各單鏡\3--ZEMAX中理想單鏡PWC法求解檢查.docx經(jīng)過檢查，該操作集與mathmeticaD:\PWC實用化技術(shù)\貼17--仿形設(shè)計的PWC方法\1-例1\2-各單鏡透鏡系 和.xlsx”得下表表1上表是全系統(tǒng)和分布，下表是只有單鏡時的和值。由于全系統(tǒng)和很小，可以人為像差處于平衡好后的狀態(tài)，那么只有單鏡的系統(tǒng)，其像差只與”棱鏡+保護(hù)玻璃”的像差相抵消，這樣架構(gòu)算出的初級像差和，其單色像差應(yīng)等于下表最后一行數(shù)，其色差應(yīng)等于下表最后一行數(shù)的相反數(shù)（理工的架構(gòu)和數(shù)計算色差的結(jié)果，與ZEMAX計算結(jié)果像差一個負(fù)號據(jù)上表紅色數(shù)據(jù)系統(tǒng)和設(shè)置在電子表格（即作為了像差校正的目標(biāo)值D:\PWC實用化技術(shù)\貼17--仿形設(shè)計的PWC方法\1-例1\2-各單鏡\6-架構(gòu)優(yōu)化1.ZMX透鏡系--2.6E----由表可見透鏡系統(tǒng)的初級像差基本上得到了校正單鏡開方數(shù)，三Q選取原則見圖 超半球檢查與調(diào)先觀察下表3，無超半球（半徑<1.1*對應(yīng)透鏡口徑高+0.5時超半球單鏡實體據(jù)表3有各單鏡口徑，焦距。材料、半徑（材料小數(shù)可取少些，因為，8-6.ZMX初步系統(tǒng)實體由表4可將6個單鏡組合成實體初步實體化后得“9-合并單鏡.ZMX這個系統(tǒng)像差較大，畸變達(dá)100%兩鏡產(chǎn)生位置，手動使其恰不。此時各鏡焦距和材料并沒改變，即系統(tǒng)架構(gòu)是合理的，它是系統(tǒng)校像差潛力的主要表征。在ZEMAX中初步優(yōu)化后得“10-ZEMAX中初步優(yōu)化.ZMX上面的結(jié)果看焦距分配沒變，材料分配沒變，所改變的是彎曲形狀，第鏡的彎曲有利于減小軸外光線在其上的角度，倒數(shù)第2對稱性，有利于軸外像差的平衡，這再一次驗證了系統(tǒng)架構(gòu)（包括材料分配決定了系統(tǒng)校像差的潛力。間隔，材料變動對校像差影響大，CODEV在平衡像差上比ZEMAX有優(yōu)勢即快又好CODEVZEMAX反復(fù)校像差，得“11ZEMAXCODEV反復(fù)優(yōu).zmx上面的遠(yuǎn)心角應(yīng)校正到3°以內(nèi)，可以再在CODEVZEMAX繼續(xù)優(yōu)化即原始系統(tǒng)有棱鏡，系統(tǒng)各參數(shù)與原系統(tǒng)一樣，但傳函MTF提高了0.13單鏡實體化操作集作由用單鏡實體化操作集優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)來看，沒有要求原系統(tǒng)有光線，因此可對現(xiàn)場測繪系統(tǒng)（不必知到材料）進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計可對網(wǎng)上無光線系統(tǒng)進(jìn)行仿真設(shè)計當(dāng)現(xiàn)場光學(xué)系統(tǒng)已進(jìn)行批量生產(chǎn)后，可先求出系統(tǒng)原透鏡PWC單鏡實體化操作集與雙膠鏡實體化操作集結(jié)合使用，可適應(yīng)任何經(jīng)典透鏡的光學(xué)設(shè)計（包括變焦系統(tǒng)。光路總長對系統(tǒng)象質(zhì)的影圖6光學(xué)系統(tǒng)總長=65.9，全部是球面，W0=20°，F(xiàn)#=1.7，MTF=0.62圖7是貼15時，光學(xué)系統(tǒng)總長=21.5，最后是兩面為非球面的單鏡，系W0=20°，F(xiàn)#=1.