全口義齒整理

1、頜位關(guān)系記錄：是指用禾托來確定并記錄在患者面部下1/3的適宜高度和兩側(cè)髁突在下頜關(guān)節(jié)凹生理位置時的上下頜位置關(guān)系，以便在這個上下頜骨的位置關(guān)系上，用全口義齒來重建無牙頜患者的正中禾關(guān)系。2、全口義齒的平衡禾：全口義齒的平衡禾是指下頜在正中禾及前伸、側(cè)方運(yùn)動時，上下頜相關(guān)的牙齒都是能同時接觸的一種咬合關(guān)系。3、無牙頜印模：是用可塑性印模材料取得的無牙上、下頜牙槽嵴和周圍軟硬組織的陰模。一、填空：全口義齒是為牙列缺失患者制作的義齒（修復(fù)體）。全口義齒的修復(fù)對象是牙列缺失的患者，是為無牙頜患者解決全部天然牙的缺失和部分軟、硬組織吸收與改變而制作的修復(fù)體。全口義齒由人工牙和基托兩部分組成。牙列缺失是指患者上頜、下頜或上下頜的天然牙全部缺失，是臨床上常見的修復(fù)病例，多見于老年人。牙列缺失的最常見病因是齲病和牙周病。牙列缺失患者的上下頜稱為無牙頜。在口腔前庭，唇、頰系帶之間區(qū)域為前弓區(qū)，頰系帶以后為后弓區(qū)。前顫動線為硬腭與軟腭腱膜結(jié)合的部位；后顫動線又稱為“啊”線，約從一側(cè)翼上頜切跡延伸至對側(cè)的翼上頜切跡。前后顫動線之間的區(qū)域，稱為后堤區(qū)。作為上頜全口義齒后緣的封閉區(qū)，義齒基托組織面在此區(qū)域應(yīng)向黏膜方向突起。后堤區(qū)前后向?qū)挾纫螂癫康男螒B(tài)不同可分為以下三種，即硬腭平坦形、硬腭高拱形、中間形。9?牙列缺失后，會出現(xiàn)牙槽嵴的吸收。吸收在缺失后前3個月最快，3?5個月吸收速度減慢，大約6個月后吸收速度顯著下降，拔牙后2年吸收速度趨于穩(wěn)定，每年以0.5mm的水平吸收，將終生持續(xù)。因此，全口義齒修復(fù)的時機(jī)應(yīng)在拔牙后3?5個月；確實(shí)急需的，最早也應(yīng)在拔牙后1個月進(jìn)行。一般情況下，一副普通的全口義齒，使用3?4年后應(yīng)進(jìn)行必要的調(diào)禾和襯層處理，使用7?8年后應(yīng)予以重新修復(fù)。牙列缺失后，牙槽嵴吸收多少與骨質(zhì)致密度直接關(guān)系，由于上下頜骨內(nèi)外側(cè)骨板的密度不一，結(jié)果上頜牙槽嵴吸收方向向上向內(nèi)，上頜牙弓逐漸變??；下頜牙槽嵴吸收方向向下向外，下頜牙弓逐漸變大。根據(jù)無牙頜的組織和全口義齒的關(guān)系，將無牙頜分成四個區(qū)，即主承托區(qū)、副承托區(qū)、邊緣封閉區(qū)和緩沖區(qū)義齒有三個表面，即組織面、磨光面、咬合面，對義齒的穩(wěn)定和舒適有很大的影響。全口義齒能附著在上下頜骨上是由于大氣壓力和吸附力等物理作用的結(jié)果。吸附力包括附著力和粘著力。附著力是指不同分子之間的吸引力。粘著力是指同分子之間的內(nèi)聚力。全口義齒的基托組織面和黏膜緊密貼合，其間有一薄層的唾液基托組織面與唾液，唾液與黏膜之間產(chǎn)生附著力，唾液本身分子之間產(chǎn)生粘著力。在全口義齒分類方法中，按牙列缺失情況分為全頜全口義齒和單頜全口義齒；按牙列缺失后開始修復(fù)的時間分為長期型全口義齒、即刻全口義齒、過渡性全口義齒；按義齒結(jié)構(gòu)和支持形式分為黏膜支持式全口義齒、混合支持式全口義齒、根支持式全口義齒。獲取無牙頜的印模有多種方法，主要有：①根據(jù)取印模的次數(shù)，分為一次印模法和二次印模法；②根據(jù)取印模時患者張口或閉口，分為開口式印模和閉口式印模③根據(jù)取印模時是否對黏膜造成壓力，分為黏膜靜止式印模和黏膜運(yùn)動式印模。臨床上常用的印模方法為一次印模法和二次印模法。托盤是承載印模材料在口內(nèi)取得印模的工具，主要有成品托盤和個別托盤兩種。上頜托盤的寬度應(yīng)比上頜牙槽嵴寬2?3mm,周圍邊緣高度應(yīng)離開黏膜皺襞約2mm,唇頰系帶處呈切跡，托盤后緣兩側(cè)需蓋過翼上頜切跡，后緣連線位應(yīng)超過顫動線3?4mm；下頜托盤的高度和寬度應(yīng)與上頜的托盤相同，后緣兩側(cè)應(yīng)蓋過磨牙后墊,舌側(cè)沿舌溝前行。印模材料的種類較多,常用的印模材料有藻酸鹽類印模材料、硅橡膠印模材料、印模石膏、印模膏等。目前最常用的是藻酸鹽類印模材料,這種材料目前在國內(nèi)被廣泛采用。在無牙頜初印模上灌注石膏形成初模型,用來制作個別托盤。在無牙頜終印模上灌注石膏或人造石形成終模型（又稱工作模型）。調(diào)拌石膏的方法為旋轉(zhuǎn)調(diào)拌,調(diào)拌速度為每分鐘30轉(zhuǎn)左右,調(diào)拌時間大約1分鐘,到石膏調(diào)拌均勻細(xì)膩時開始灌注,灌模后靜置約半個小時,石膏發(fā)熱凝固后可立即脫模。模型形成的方法有圍模灌注法和一般灌注法。模型邊緣厚度以3?5mm為宜，模型最薄處也不能少于10mm。模型后緣應(yīng)在腭小凹后不少于2mm,下頜模型在磨牙后墊自其前緣起向后不少于10mm。模型修整后底面要平，底座部分應(yīng)為工作部分的1/2。當(dāng)天然牙列存在時,上下頜骨的位置關(guān)系由緊密接觸的上下牙列來保持的。有兩個穩(wěn)定的參考位,即正中禾位、正中關(guān)系位。當(dāng)天然牙列缺失后,隨之喪失正中禾位,唯一穩(wěn)定參考位就是正中關(guān)系位了。頜位關(guān)系記錄包括了垂直關(guān)系記錄和水平關(guān)系記錄兩部分。禾托由基托與禾堤兩部分組成。確定處置距離的方法有息止頜位法面部比例測定法面部外形觀察法。確定水平頜位關(guān)系的方法很多,一般歸納為以下三類,即哥特式弓描記法、直接咬合法、肌監(jiān)控儀法。直接咬合法是指利用禾堤及禾間記錄材料,囑患者下頜后退并直接咬合在一起的方法。包括卷舌后舔法、吞咽咬合法、后牙咬合法、鼓腮咬合法。常用的暫基托材料有基托蠟片、自凝材料和光固化基托塑料板。制上禾堤,放入口內(nèi)調(diào)改禾平面。要求禾平面的前部在上唇下緣以下約2mm,且與瞳孔連線平行；禾平面的后部,從側(cè)面觀要與鼻翼耳屏線平行。禾堤的唇面要充分襯托出上唇,使上唇豐滿而自然,禾堤后端整修成斜坡狀。檢查正中關(guān)系是否是正確方法有捫測顳肌法、捫測髁突動度法、面部外形觀察法。禾堤唇面畫標(biāo)志線包括中線、口角線、唇高線和唇低線。禾架的種類有四,分別是簡單禾架、平均值禾架、半可調(diào)節(jié)禾架、全可調(diào)節(jié)禾架。人工牙根據(jù)所使用的材料主要有兩大類樹脂牙和瓷牙。根據(jù)后牙禾面形態(tài)分為兩大類解剖式禾面形態(tài)和非解剖式禾面形態(tài)。平衡禾的分類包括正中平衡禾、前伸平衡禾、側(cè)方平衡禾。在非正中平衡禾中,根據(jù)上下牙接觸的數(shù)目,分為三點(diǎn)接觸禾平衡、多點(diǎn)接觸禾平衡、完全接觸的禾平衡。與平衡禾有關(guān)的五因素為髁導(dǎo)斜度、切導(dǎo)斜度、牙尖工作斜面的斜度、補(bǔ)償曲線曲度、定位平面斜度。在前伸平衡禾的調(diào)整中，前牙切緣接觸而后牙無禾接觸，表明切導(dǎo)斜度過大或牙尖斜度過小，在這種情況下，首先考慮增加補(bǔ)償曲線曲度使牙尖工作斜面斜度加大，其次考慮在不影響美觀和功能的原則之下，適當(dāng)減小前牙的切道斜度；前牙切緣無接觸而后牙有接觸時，表明切導(dǎo)斜度過小，或牙尖斜度過大。一般調(diào)整后牙的遠(yuǎn)近中向傾斜度，以減小補(bǔ)償曲線曲度。在側(cè)向平衡禾的調(diào)整中，工作側(cè)早接觸而平衡側(cè)無接觸，主要是通過加大平衡側(cè)橫禾曲線的方法來調(diào)整；平衡側(cè)早接觸而工作側(cè)無接觸時，可用減小平衡側(cè)橫禾曲線的方法來調(diào)整。全口義齒的蠟型塑型包括基托塑形、牙齦、牙根及腭皺襞的塑形。全口義齒的裝盒采用反裝法，即將模型包埋固定于下半型盒內(nèi)，人工牙、基托完全暴露，翻到上半盒內(nèi)。型盒由上層型盒、下層型盒和型盒蓋三部分組成。模型距型盒頂部至少應(yīng)有1cm。裝盒前，將完成蠟型的模型從禾架上取下，浸泡在冷水中約10分鐘，使其吸足水分，以免裝盒時吸收裝盒石膏中的水分加快凝固速度及膨脹，不利于操作，導(dǎo)致裝盒包埋不實(shí)。裝盒時，下層型盒的邊緣應(yīng)完全露出，以便與上層型盒吻合。待石膏結(jié)固（約30分鐘）后，其表面均勻涂一層分離劑。將上層型盒罩在其上檢查，要求上下兩層型盒的邊緣吻合良好，調(diào)石膏注入上層型盒內(nèi)，為防止牙頸部和牙間隙處產(chǎn)生氣泡，可用排筆蘸石膏漿在這些部位先涂布一層。上層型盒灌注后約30分鐘，包埋石膏完全硬固，此時方可進(jìn)行燙盒處理。置入80°C以上熱水中浸泡5?10分鐘，打開型盒，去除軟蠟，用熱水的容器放于高處，用細(xì)水流沖洗干凈。樹脂充填在20°C左右室溫下，樹脂粉和液調(diào)和后約20分鐘達(dá)到面團(tuán)期，面團(tuán)期約維持5分鐘，此時進(jìn)行充填。全口義齒的熱處理可采用濕式聚合法（水浴加熱法）和干式聚合法兩種，目前常采用水浴加熱法。出盒時機(jī)，型盒經(jīng)熱處理后在水中自行冷卻，水溫降至50°C以下時，出盒最適宜?；薪M織面是口腔黏膜的真實(shí)反映，除樹脂瘤、尖銳的凸起、殘留石膏渣以及需緩沖骨突等處外，一般不應(yīng)研磨。全口義齒人工牙選磨調(diào)禾的原則注意保護(hù)功能尖，消除咬合時的早接觸點(diǎn)。去除下頜運(yùn)動時的咬合干擾，達(dá)到平衡禾。調(diào)磨順序為：正中禾的選磨T側(cè)方禾的選磨T前伸禾的選磨。在正中禾的選磨中，盡量調(diào)磨人工牙的斜面和窩，不降低牙尖高度。牙尖與斜面發(fā)生早接觸時，應(yīng)調(diào)磨斜面；牙尖與窩發(fā)生早接觸時，應(yīng)調(diào)磨與牙尖相對應(yīng)的窩；斜面與斜面發(fā)生早接觸時，兩斜面均可調(diào)磨。在側(cè)方禾的選磨中，工作側(cè)發(fā)生早接觸時，應(yīng)調(diào)磨早接觸的牙尖斜面；平衡側(cè)發(fā)生早接觸時，應(yīng)調(diào)磨上頜后牙舌尖的頰斜面或下頜后牙頰尖的舌斜面。側(cè)方禾上下尖牙禾干擾時，可調(diào)磨上頜尖牙的舌斜面或下頜尖牙的唇斜面。在前伸禾的選磨中，前牙接觸后牙不接觸時，應(yīng)調(diào)磨上前牙的舌窩或下前牙切緣的唇斜面；后牙接觸前牙不接觸時，應(yīng)調(diào)磨上頜后牙牙尖的遠(yuǎn)中斜面或下頜后牙牙尖的近中斜面?；胁幻芎现匾r的方法有:直接重襯法、間接重襯法、自凝軟襯材料重簡答題1、 簡述影響全口義齒固位的有關(guān)因素。（1）頜骨的解剖形態(tài)；（2）口腔黏膜的性質(zhì)；（3）睡液的質(zhì)和量；（4）基托的邊緣。2、 簡述影響全口義齒穩(wěn)定的有關(guān)因素。（1）良好的咬合關(guān)系；（2）合理的排牙；（3）理想的基托磨光面形態(tài)。3、 .簡述圍模灌注法的步驟和方法。在印模的周緣下約2mm處粘著一條約5mm寬的蠟棍，下頜印模的舌側(cè)邊緣間用蠟板封閉空隙；沿蠟棍外面及印模后緣圍繞一層成盒型蠟板，圍板上緣至印模最高處的距離不少于10mm。灌注石膏，完成4、 簡述基托磨光時需要注意的問題1）磨光需用各種磨具，磨具與義齒直接接觸，其質(zhì)量直接影響到研磨的效果，2）磨具的工作轉(zhuǎn)速對研磨有一定影響，工作轉(zhuǎn)速快，研磨效率高，（3）操作時兩手要拿穩(wěn)義齒，用力得當(dāng)，防止義齒在高速拋光下脫手飛出造成損壞。（4）操作時要遵循由粗磨逐漸到細(xì)磨的原則，細(xì)磨時要改變方向，使前后磨痕交叉成直角，使研磨均勻。（5）在細(xì)磨時，毛刷、布輪等工具一定要潤濕，并不斷加磨光糊劑，不能干磨。否則易因摩擦產(chǎn)熱，造成基托表面焦化，破壞表面形態(tài)。5、.簡述判斷樹脂充填是否足夠的標(biāo)志①型盒周邊有多余的樹脂被擠出；②玻璃紙較平整，皺褶不明顯；③樹脂致密，顏色較深。[A1型題]1、 上頜后部牙槽嵴骨吸收的方向為A向上、向后B向上、向外C向上、向內(nèi)D向后、向外E向上、向前2、 下頜后部牙槽嵴骨吸收的方向為A向下、向后B向下、向外C向下、向內(nèi)D向后、向外E向下、向前3、 全口義齒修復(fù)應(yīng)在拔牙多少時間后進(jìn)行A—周B三周C一個月D三個月E六個月4、 無牙頜頜患者下頜下于正中關(guān)系位時上下頜牙槽嵴頂間的距離稱為A開口度B息止合間隙C垂直距離D頜間距離E覆合5、 全口義齒的固位和支持有利的粘膜情況是A厚、松軟B厚、韌C薄D薄、干燥EB或D6、口腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切牙近中交界線的延長線上的是A舌系帶B唇系帶C頰系帶D口輪匝肌的起始部 E上頜義齒切跡7、腭小凹位于A切牙乳突前方 B腭皺與切牙乳突之間C腭皺后方D上頜牙槽嵴后緣E軟硬腭交界處，腭中縫兩側(cè)8、 上頜義齒后堤區(qū)位于A磨牙后墊B腭小凹前方C前顫動線之前D前后顫動線之間E后顫動線之后9、 后堤區(qū)的作用是A基托后緣定位B邊緣封閉作用C支持作用D排牙標(biāo)志E緩沖作用10、 切牙乳突的作用是A排列上頜中切牙的參考標(biāo)志B確定合平面的標(biāo)志C確定基托伸展范圍的標(biāo)志D確定牙槽嵴頂?shù)臉?biāo)志E確定后堤區(qū)的標(biāo)志11、 上頜中切牙的唇面通常位于切牙乳突中點(diǎn)前A1-4mmB5-7mmC8-10mmD11-15mmE16-20mm12、 上頜義齒基托不需要緩沖的部位是A切牙乳突B顴突區(qū)C腭中縫D顫動線E上頜隆突13、 切牙乳突是排列上牙切牙的解剖標(biāo)志，因為A切牙乳突位于上頜腭中縫的前端B切牙乳突與上頜中切牙之間有較穩(wěn)定的關(guān)系C切牙乳突下方為切牙孔，排牙時要防止此處壓迫D切牙乳突的位置變化較小E兩個上中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn)14、 下頜義齒的基托需要緩沖的部位是A磨牙后墊B下頜舌骨嵴C頰系帶D頰側(cè)翼緣區(qū)E舌側(cè)翼緣區(qū)15、 不利于義齒固位的解剖形態(tài)是A牙槽嵴豐滿B牙弓寬大C粘膜厚韌D腭蓋高聳E系帶附著近牙槽嵴頂16、 不屬于邊緣封閉區(qū)的是A上頜后堤區(qū)B下頜磨牙后墊區(qū)C牙槽嵴粘膜與唇頰粘膜的反折處D能承擔(dān)部分咀嚼壓力的區(qū)域E能阻止空氣進(jìn)入基托與所覆蓋組織之間的區(qū)域17、 屬于緩沖的部位是A切牙乳突區(qū)B磨牙后墊區(qū)C后堤區(qū)D牙槽嵴頂區(qū)E頰側(cè)翼緣區(qū)18、 根據(jù)無牙頜各部分組織結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及全口義齒的關(guān)系，無牙頜被分為以下四區(qū)，除了A主承托區(qū)B副承托區(qū)C邊緣封閉區(qū)D后堤區(qū)E緩沖區(qū)19、 全口義齒與唇頰肌作用關(guān)系最密切的表面是A禾平面B磨光面C咬合面D組織面E吸附面20、 全口義齒的固位是指A咀嚼時義齒不脫落B大張口時義齒不脫落C說話時義齒不脫落D抬頭時義齒不脫落E從口內(nèi)取下義齒時有阻力21、全口義齒的固位力不包括A吸附力B附著力C粘著力D磨擦力E大氣壓力22、 與大氣壓力的產(chǎn)生關(guān)系最密切的是A基托面積B牙槽嵴高度C邊緣封閉D后堤區(qū)寬度E粘膜厚度23、 與全口義齒固位無關(guān)的是A基托面積B牙槽嵴形態(tài)C粘膜性質(zhì)D唾液性質(zhì)E禾平衡24、與全口義齒穩(wěn)定無關(guān)的是A咬合關(guān)系B人工牙排列位置C禾平衡D基托密合E磨光面形態(tài)25、 適度擴(kuò)大基托面積，可以達(dá)到以下目的，除了A減小單位面積受力B增加義齒強(qiáng)度C增大義齒吸附力D增大大氣壓力的作用E利于組織保健26、 選擇上頜無牙頜印模托盤的標(biāo)準(zhǔn)包括A中部蓋過腭小凹后2mmB短于唇頰粘膜皺襞2mmC長于唇頰粘膜皺襞2mmDA+BEA+C27、 無牙頜的印模方法中錯誤的是A用印模膏取一次性印模B用印模膏取初印模C用印模膏做個別托盤D用舊義齒做個別托盤E用藻酸鹽印模材取終印模28、 灌注無牙頜石膏模型時，基厚度不應(yīng)少于A2mmB4mmC6mmD8mmE10mm29、在石膏模型上制作后堤區(qū)時，深度為A<0.5mmBC約2mmD4-5mmE6-10mm30、在石膏模型上制作后堤區(qū)時，最寬處的寬度為A1mmB3mmC5mmD8mmE10mm31、符合下頜托盤選擇要求的是A邊緣應(yīng)與唇頰溝等高B舌側(cè)與口底等高C寬度與下頜牙槽嵴等寬D后緣蓋過磨牙后墊E以上均是32、 不符合無牙頜印模要求的是A印模細(xì)致、清晰B邊緣盡量伸展C邊緣要圓鈍，有一定厚度D組織受壓均勻E采取功能性印模33、 制作個別托盤適用于以下情況，除了A所有取無牙頜印模的情況B無合適成品托盤時C牙槽峭低平，兩側(cè)吸收不一致D牙槽嵴過于豐滿E取研究模型時34、 關(guān)于取印模時邊緣整塑，錯誤的是A為了使義齒有良好的邊緣封閉B可用印模膏做C制作個別托盤后不需要D可由醫(yī)師牽拉患者面頰部E可以分區(qū)做35、 下頜基托一般應(yīng)蓋過磨牙后墊的A全部B前2/3C前1/3-1/2D前1/4E前緣36、 確定確定頜位關(guān)系是指A恢復(fù)面部適宜的垂直距離B確定正確的頜間距離C恢復(fù)面部生理生理形態(tài)D恢復(fù)髁突的生理后位和面部下1/3高度E糾正下頜習(xí)慣性前伸37、 垂直距離通常指A眼裂至口角的距離B鼻底至口角的距離C口角至頦底的距離D鼻底至頦底的距離E上下牙槽嵴項間的距離38、 垂直距離等于息止頜位垂直距離減去A1mmB2mmC5-6mmD7-8mmE9-10mm39、 恢復(fù)適當(dāng)?shù)拇怪本嚯x的作用不包括A避免下頜前伸B面部比例和諧C肌張力正常D發(fā)揮最大咀嚼效能E有益于顳下頜關(guān)節(jié)健康40、 確定正中關(guān)系綜合癥不正確的方法是A吞咽法B后牙咬合法C自主咬合法D肌監(jiān)控儀法E卷舌法41、 臨床上用于記錄頜位關(guān)系的是A基托B暫基托C禾堤D禾托E蠟基托42、 禾堤平面與上唇下緣的關(guān)系是A唇上2mmB與唇平齊C唇下2mmD唇下3mmE唇下4mm43、 前牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平行于A上唇B瞳孔連線C鼻底D鼻翼耳屏線E眶耳平面44、 后牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平行于A上唇B瞳孔連線C鼻底D鼻翼耳屏線E眶耳平面45、在禾堤上畫出的口角線為A上頜側(cè)切牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線B上頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線C下頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線D上頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線E下頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線46、 微笑時的唇高線位于上頜中切牙的A切緣B切1/3C切1/2D切2/3E齦緣47、 微笑時的唇低線位于下頜中切牙的A切緣B切1/3C切1/2D切2/3E齦緣48、 塑料牙與瓷牙比較，正確的說法是A塑料牙質(zhì)輕，咀嚼效能高B瓷牙耐磨，但咀嚼效能低C瓷牙的塑料基托組合好，但易崩裂D塑料牙調(diào)禾方便E塑料牙不易變色49、 解剖式人工牙的牙尖斜度為A45°B40°C30°D20°E0°56、非解剖式人工牙的牙尖斜度為A45°B40°C30°D20°E0°50、 全口義齒人工后牙的近遠(yuǎn)中總長度應(yīng)等于該側(cè)A尖牙近中面至磨牙后墊前緣的距離B尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊前緣的距離C尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/3處的距離D尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/2的距離E尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊后緣的距離51、全口義齒人工牙的排列要兼顧哪三個方面A美觀，功能和組織保健B美觀，堅固和舒適C美觀，衛(wèi)生和舒適D美觀，堅固E美觀，切割便利和舒適52、全口義齒的前牙要排列成淺覆合、淺覆蓋的目的是為了A美觀B排牙方便C易于取得前伸合平衡D發(fā)音清晰E與天然牙一致53、 人工牙排列要有平衡禾的主要原因是A增大接觸面積B提高咀嚼效率高C有利于義齒穩(wěn)定D使義齒美觀E糾正偏側(cè)咀嚼習(xí)慣54、 以下排牙措施中正確的是A上頜后牙頰尖位于牙槽嵴頂上B上頜后牙頰尖位于牙槽嵴舌側(cè)C上頜后牙舌尖位于牙槽嵴舌側(cè)D上頜后牙舌尖位于牙槽嵴頂上E上頜后牙舌尖位于牙槽內(nèi)頰側(cè)55、 上頜前牙頸部的唇舌向傾斜方向為A中切牙向唇側(cè)、側(cè)切牙、尖牙向腭側(cè)B中切牙、側(cè)切牙向唇側(cè)，尖牙向腭側(cè)C中切牙、側(cè)切牙向腭側(cè)，尖牙向唇側(cè)D中切牙向腭側(cè)，側(cè)切牙、尖牙向唇側(cè)E中切牙、側(cè)切牙和尖牙均向腭側(cè)56、 上頜前牙的遠(yuǎn)中向傾斜角度為A中切牙二側(cè)切牙二尖牙B中切牙＞側(cè)切牙〉尖牙C中切牙〉尖牙〉側(cè)切牙D側(cè)切牙〉尖牙〉中切牙E尖牙〉側(cè)切牙〉中切牙57、 上頜第一磨牙舌尖與禾平面的距離是A近中舌尖Omm,遠(yuǎn)中舌尖0.5mmB近中舌尖0mm,遠(yuǎn)中舌尖1mmC近中舌尖0mm,遠(yuǎn)中舌尖1.5mmD近中舌尖1mm,遠(yuǎn)中舌尖0.5mmE近中舌尖1mm,遠(yuǎn)中舌尖2mm58、 選擇人工前牙不必考慮的因素是A口角線、笑線的位置B患者面型及合弓型C患者膚色和年齡D患者健康狀況E患者的性別59、 解剖式后牙的排列方法中錯誤的是A4I4頰尖與禾平面接觸B5I5牙長軸與禾平面垂直C6丄6近中舌尖接觸禾平面D7I7頸部向腭側(cè)和遠(yuǎn)中傾斜E丄近中鄰面與仏遠(yuǎn)中鄰面接觸60、 全口義齒試戴的時間是在A義齒完成后B確定完頜位關(guān)系后C排好人工牙后D排列完前牙后E排列完前后牙后61、 試戴時,可采用如下方法判斷垂直距離是否正確,除了A戴入義齒后，是否不敢張口B面部比例是否自然協(xié)調(diào)C鼻唇溝，頦唇溝深度是否舒適D說話時上下牙之間是否有碰擊聲E面容是否蒼老62、全口義齒初戴時，如果出現(xiàn)前牙開合，其原因不可能是A禾關(guān)系錯誤B人工牙變位C上下頜基托遠(yuǎn)端有早接觸D后牙區(qū)咬合高E患者不會用義齒咬合63、 義齒初戴時出現(xiàn)哪一情況需要返工重作A就位困難B下頜偏向一側(cè)C發(fā)音不清D粘膜壓痛E基托邊緣過長64、 義齒初戴時出現(xiàn)疼痛的原因不包括A組織面有塑料小瘤B垂直距離過低C骨突處緩沖不夠D基托邊緣過長E咬合不平衡65、 義齒初戴時，給患者的醫(yī)囑中錯誤的是A會有異物感、發(fā)音不清等，要堅持戴用B先進(jìn)食小塊軟食C避免咬硬物D可能有疼痛，要堅持戴用E盡量用兩則后牙同時咀嚼66、 義齒正確的使用方法是A白天和晚上睡覺時都要戴義齒B初戴義齒后盡量白天和晚上都戴C晚上將義齒取下，浸泡在溫開水中D晚上將義齒取下，浸泡在冷水中E晚上盡量戴用或浸泡在冷水中67、 選擇后牙牙尖形態(tài)主要考慮：對頜牙的情況B.舊義齒的牙尖高度病人的意愿D.支持組織的條件E.價格因素68、全口義齒適應(yīng)的患者是()牙體缺損 B.牙體缺失C.牙列缺損 D.牙列缺失 E.以上都不對69、全口義齒基托與唾液或黏膜與唾液之間產(chǎn)生的吸力稱為：()。大氣壓力B.粘著力C.附著力摩擦力E.內(nèi)阻力70、 下列哪項不作為排牙的必需條件。人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位人工牙盡可能排在牙槽嵴頂上按一定規(guī)律排列，形成合適的補(bǔ)償曲線，橫禾曲線有禾平衡 E.根據(jù)患者的要求排牙71、 以下對無牙頜印模范圍的要求哪項不正確：( )包括整個牙槽嵴邊緣伸展到唇、頰、舌溝處上頜后緣伸展到腭小凹處上頜兩側(cè)后緣伸展到翼上頜切跡頰側(cè)蓋過上頜結(jié)節(jié)下頜后緣蓋過磨牙后墊72、 全口義齒排牙的原則是：()A牙合平面平分頜間距離氏牙弓與頜弓一致C.前牙排牙淺覆牙合D.后牙排出君曲線以上都是73、 塑料義齒磨光時，正確的操作是 。打磨從粗到細(xì)、先平后光。間斷打磨以免產(chǎn)熱過多不要破壞基托外形D.隨時變換打磨部位 E.以上均是74、 以下不是用于膠聯(lián)聚合設(shè)備的是：()A.壓榨器B.浸蠟器C.沖蠟器聚合器E.注塑機(jī)75、不是合理的排牙的是()。人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位人工牙盡可能排在牙槽嵴頂上按一定規(guī)律排列,形成合適的補(bǔ)償曲線，橫禾曲線有禾平衡E.完全根據(jù)患者的要求排牙76、 平衡禾是指( )。正中禾時有廣泛均勻的接觸前伸禾時,前后牙均有接觸側(cè)方禾時,工作側(cè)和非工作側(cè)均有接觸B與CE.A與B與C77、 全口義齒試戴時,發(fā)現(xiàn)()肯定需要重作。惡心B.中線不對C.垂直距離過高D.發(fā)音不清E.牙色不協(xié)調(diào)TOC\o"1-5"\h\z78、 全口義齒的緩沖區(qū)不包括( )。切牙乳突區(qū)B.下頜舌骨嵴區(qū)C.翼上頜切跡D.上頜硬區(qū)E.顴突區(qū)79、 全口義齒排牙時上頜第一磨牙近中舌尖應(yīng)( )。接觸禾平面B.離開禾平面離開禾平面D.離開禾平面E.離開禾平面80、 上頜全口義齒牙槽嵴與硬區(qū)之間的區(qū)域是( )。主承托區(qū)B.副承托區(qū)C.緩沖區(qū)邊緣伸展區(qū)E.邊緣封閉區(qū)81、 采取印模時作主動肌功能修整的方法是在印模未凝固之前( )輕輕拉上唇向上內(nèi)數(shù)次輕輕拉下唇向上內(nèi)數(shù)次輕輕拉頰部向前下內(nèi)、下頰部向前上內(nèi)數(shù)次D.囑患者相繼發(fā)出“喔”、“嘿”等音以上均不對82、加熱固化型塑料的填塞應(yīng)在塑料調(diào)和后的：()濕沙期B.稀糊期C.粘絲期面團(tuán)期E.橡膠期83、下頜基托一般應(yīng)蓋過磨牙后墊的()。全部B.2/3C.1/3?1/2D.1/4E.止于磨牙后墊前緣84、 以下哪種原因和修復(fù)體產(chǎn)生氣泡無關(guān)()A.單體比例不當(dāng)B.塑料填塞不足熱處理時升溫過快D.在密閉容器內(nèi)調(diào)拌E.填塞塑料后加壓不足TOC\o"1-5"\h\z85、 全口義齒修復(fù)中作用于基托與黏膜之間的力,應(yīng)稱之為( )。A.粘固力B.吸引力C.粘著力黏附力E.吸附力86、 調(diào)拌石膏的水粉比例應(yīng)按:( )A.30毫升：100克B40毫升：100克 C.45?50毫升：100克D.55?65毫升：100克E.70毫升：100克87、 與全口義齒后緣無關(guān)的解剖標(biāo)志是( )。A.腭小凹B.顫動線C.頰側(cè)翼緣區(qū)D.翼上頜切跡E.磨牙后墊88、 頜面部主要解剖與修復(fù)無關(guān)的是：()A.眶耳平面B.切牙乳頭C.耳屏鼻翼線D.耳垂E.頦點(diǎn)89、 以下措施肯定可以提高全口義齒固位和穩(wěn)定,除了( )。A.盡量擴(kuò)大基托面積B.準(zhǔn)確的印模C.有利的磨光面形態(tài)D.合理的排牙E.指導(dǎo)患者正確使用義齒90、全口義齒就位困難的原因有：()。倒凹過大B.義齒變形C.義齒戴錯D.A與BE.A與B與C91、確定頜位關(guān)系是指：(?)。恢復(fù)面部適宜的垂直距離確定正確的頜間距離恢復(fù)面部生理形態(tài)恢復(fù)正中頜位的垂直關(guān)系和水平關(guān)系糾正下頜習(xí)慣性前伸92、 雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)明顯突向頰側(cè),倒凹大者,全口義齒修復(fù)時要( )。A.患者先自行按摩，使突出骨質(zhì)吸收，去除倒凹B.減小此處基托伸展范圍基托組織面緩沖D.手術(shù)去除突出骨質(zhì)E.使義齒旋轉(zhuǎn)就位93、 牙列缺失后，隨著時間的增長，上頜愈變愈小，下頜愈變愈大，這是由于A.上頜骨吸收B.下頜骨增生C.上頜骨吸收，下頜骨增生上頜牙槽骨向上內(nèi)方吸收，下頜牙槽骨向下外方吸收以上均不是94、 關(guān)于石膏模型修整機(jī)使用方法不正確的是：()石膏模型修復(fù)整機(jī)應(yīng)固定在有水源及完善下水道的地方。安裝的高度和方向以便于操作為宜。使用前應(yīng)檢查砂輪有無松動、裂痕或破損。D.接通水源并打開電源開關(guān)。進(jìn)行干磨時，必須加壓95、 在全口義齒排牙中，切牙乳突的作用是( )。排列上頜中切牙的參考標(biāo)志確定平面的標(biāo)志確定基托伸展范圍的標(biāo)志確定牙槽嵴頂?shù)臉?biāo)志確定后堤區(qū)的標(biāo)志96、對牙槽嵴損傷最大的人工牙是下列那種()。解剖式瓷牙B.半解剖式瓷牙C.解剖式塑料牙D.半解剖式塑料牙非解剖式塑料牙97腭小凹位于切牙乳突前方B.腭皺與切牙乳突之間腭皺后方D.上頜牙槽嵴后緣軟硬腭交界處，腭中縫兩側(cè)98、 以下哪項不是全口義齒修復(fù)應(yīng)解決的問題( )全部天然牙的缺失B.口腔軟組織的吸收C.口腔硬組織的吸收D.口腔潰瘍99、 牙列缺失可對患者造成影響的除外()面容蒼老 氏咀嚼功能降低C.發(fā)音不清 D.口腔腫瘤100、 關(guān)于翼上頜切跡，說法錯誤的是：( )位于上頜結(jié)節(jié)之后是蝶骨翼突與上頜結(jié)節(jié)后緣之間的骨間隙C.是義齒的緩沖區(qū)是上頜全口義齒兩側(cè)后緣的界限101、 關(guān)于磨牙后墊，錯誤的說法是：()位于下頜最后磨牙遠(yuǎn)中牙槽嵴遠(yuǎn)端的粘膜軟墊下頜全口義齒后界封閉區(qū)下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過全部磨牙后墊 D.從垂直向看，磨牙后墊可決定下頜牙合平面的位置，下頜第一磨牙的牙合面應(yīng)與磨牙后墊的1/2等高102、 下列哪項關(guān)于義齒的基托邊緣不能伸展過多：()A.下頜前弓區(qū)B.頰側(cè)翼緣區(qū)遠(yuǎn)中頰角區(qū)D.舌側(cè)翼緣區(qū)103、 關(guān)于上頜前弓區(qū)，錯誤的是：( )A.位于口腔前庭區(qū)內(nèi)上頜唇頰系帶之間的區(qū)域B.不影響軟組織活動的情況下，此區(qū)應(yīng)盡量伸展此區(qū)不應(yīng)伸展過多此區(qū)為上頜全口義齒唇側(cè)翼緣區(qū)放置的部位104、 使用噴燈噴光時的注意事項不正確的是()噴光時要注意掌握好火焰的大小噴光時要注意掌握好火焰的方向在蠟型表面快速移動噴過不需要控制火焰的的距離105、 關(guān)于義齒的表面下列哪項不正確：()A.組織面B.頰舌面C.咬合面D.磨光面106、 關(guān)于制作個別托盤，下列哪項不正確()個別托盤適合個別患者口腔情況用印模膏取初印模用熱凝塑料制作個別托盤用修改初印模的方法制作個別托盤107、 下頜模型在磨牙后墊前緣起向后不少于()A．8mmB．7mmC．10mmD．6mm108、 下列哪項不是確定垂直距離的方法()瞳孔至口裂的距離等于垂直距離哥特式弓描C.面部外形的觀察法息止頜位法109、 下列哪項不是垂直距離過小的表現(xiàn)()A.面下1/3距離減小B.口角下垂頦唇溝變淺 D.頦部前突120、確定垂直距離常用哪種方法A.卷舌后舔法B.吞咽咬合法

C.后牙咬合法D.利用息止禾間隙法以上方法結(jié)合采用121、 下列哪項不是無牙頜上頜的解剖標(biāo)志：( )A.顴突B.切牙乳突C.遠(yuǎn)中頰角區(qū) D.顫動線122、 關(guān)于上頜硬區(qū)，錯誤的是：( )A.又稱上頜隆突 B.位于上腭中部的前份C.該區(qū)的基托組織面應(yīng)適當(dāng)緩沖D?該區(qū)粘膜厚、有彈性，不應(yīng)作緩沖123、 由于牙列缺失，舌失去牙的限制，說法錯誤的是：()A?舌體擴(kuò)大B?舌形態(tài)改變C?舌體縮小 D?味覺異常、口干124、 關(guān)于組織面的描述下列哪項不正確：( )A.基托與口腔粘膜組織接觸的面 B.組織面的所有部位應(yīng)與口腔粘膜組織緊密接觸C.打磨基托時，不能打磨基托組織面 D.基托與粘膜之間形成大氣負(fù)壓和吸附力125、 目前臨床廣泛采用的印模材料是()A.藻酸鹽彈性印模材料B.硅橡膠印模材料C.印模膏D.印模石膏126、 模型修整后底面要平，底座部分高度應(yīng)為工作部分的( )2334127、 制牙合托最后粘著一個直徑約5mm的蠟球，位置為()A.上牙合托腭中部 B.上牙合托后緣A.上牙合托腭中部 B.上牙合托后緣128、 吞咽咬合法是確定( )A.垂直頜位關(guān)系 B.水平頜位關(guān)系129、 關(guān)于牙合架，下列哪項不正確()A.是固定上下牙合托和模型的儀器C.在一定程度上模擬下頜運(yùn)動及咀嚼運(yùn)動C.下牙合托舌側(cè)D.磨牙后墊C.咬合關(guān)系D.前伸咬合關(guān)系具備與人體咀嚼器官相當(dāng)?shù)牟考完P(guān)節(jié)無論使用那類牙合架，修復(fù)效果是一樣的130、臨床全口義齒最常用的牙合架()半可調(diào)式牙合架 D.全可調(diào)式牙合架131、關(guān)于切導(dǎo)斜度，正確的是（）A.切道與眶耳平面的夾角 B.人體上的切道斜度轉(zhuǎn)移到合架上C.切導(dǎo)斜度是切導(dǎo)盤與垂直平面的夾角D.切導(dǎo)斜度固定在15°132、 全口義齒前牙的選擇主要考慮（）患者的性別和年齡人工牙顏色要盡量白一些人工牙的大小形態(tài)和顏色人工牙是瓷牙還是塑料牙133、 全口義齒排列時，上頜第二雙尖牙舌尖與牙合平面的關(guān)系（）A.與牙合平面相接觸B.離開牙合平面C.離開牙合平面1mmD.離開牙合平面134、 全口義齒排牙時，后牙與牙合平面接觸的牙尖是（）|45頰舌尖、6|6近中舌尖 |4頰尖、5|5頰舌尖、6|6近中舌尖|45頰尖、6|6近中頰尖 14頰尖、5|5頰尖、6|6近中舌尖135、 下前牙按常規(guī)排列，其切緣或牙尖頂與牙合平面的關(guān)系是（）切緣落在合平面上 13牙尖接觸牙合平面丁1切緣或牙尖頂均高于合平面約1mmD.以上都對136、 全口義齒的牙合力主要集中在：（）A.尖牙和雙尖牙區(qū)； B.雙尖牙區(qū)；C.第二雙尖牙區(qū)和第一磨牙區(qū)第一磨牙區(qū)；137、全口義齒作側(cè)方咬合時，工作側(cè)接觸，平衡側(cè)不接觸，應(yīng)調(diào)整（A.增大補(bǔ)償曲線曲度 B.增大橫牙合曲線C.減小補(bǔ)償曲線曲度 D.減小橫牙合曲線138、合架上調(diào)前伸平衡牙合時，前牙接觸，后牙無接觸，則應(yīng)（）A.增加切導(dǎo)斜度B.增大補(bǔ)償曲線曲度C.減少髁導(dǎo)斜度 D.增大橫牙合曲線139、 伸牙合時，下后牙牙尖的工作斜面是()下牙頰尖的遠(yuǎn)中斜面下牙頰尖的舌斜面下牙舌尖的頰斜面下牙頰尖的近中斜面140、 關(guān)于切道斜度正確的是( )與覆牙合成反變關(guān)系B?與覆蓋成正變關(guān)系是上下前牙長軸所形成的角度是切道與牙合平面相交的角度141、 試戴時，可采用如下方法判斷垂直距離是否正確，除了()A?戴入義齒后，是否不敢張口面部比例是否自然協(xié)調(diào)鼻唇溝，頦唇溝深度是否合適說話時上下牙之間是否有碰擊聲142、 基托的厚度為( )、有關(guān)齦緣的位置錯誤的是()齦緣線與牙頸線一致位于牙冠頸部高低適中的位置同一人工牙，齦緣位置的高低，不改變牙冠的長寬比例齦緣的形態(tài)對牙冠的外形美觀有影響144、基托向牙冠頸部近頸緣多少mm處形成逐漸變薄的斜坡()145、 對于牙根形態(tài)正確的是()上前牙牙根，尖牙最長，側(cè)切牙次之，中切牙最短下前牙牙根，尖牙最長，側(cè)切牙次之，中切牙最短前磨牙的牙根，外形明顯 D?磨牙牙根長而淺146、選擇型盒時，操作者可根據(jù)模型的大小來選擇，一般模型距型盒至少應(yīng)有()、對于型盒的描述正確的是()A.型盒由上半盒、下半盒和型盒蓋三部分組成