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第三節(jié)化學(xué)位移第1頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三化學(xué)位移:處于不同化學(xué)環(huán)境中的氫核所產(chǎn)生的共振吸收峰,會(huì)出現(xiàn)在圖譜的不同位置上。這種因化學(xué)環(huán)境的變化而引起的共振譜線在圖譜上的位移稱為化學(xué)位移。第2頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三一、化學(xué)位移的產(chǎn)生核外電子在外加磁場H。的誘導(dǎo)下,產(chǎn)生一個(gè)與磁場方向相反的感應(yīng)磁場He為去屏蔽常數(shù),氫核外圍電子云密度越大,越大。He=-
H0氫核受到的實(shí)際磁場強(qiáng)度為:H=(1-)H0第3頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三屏蔽效應(yīng):核外電子產(chǎn)生的感應(yīng)磁場削弱外加磁場的效應(yīng)。Larmor公式修正:0=/(2)*(1-)H0由于屏蔽作用的存在,氫核產(chǎn)生共振需要更大的外磁場強(qiáng)度(相對于裸露的氫核),來抵消屏蔽影響。第4頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三更準(zhǔn)確定義:處于不同化學(xué)環(huán)境中的氫核由于具有不同的屏蔽常數(shù),削弱外磁場的程度不同,要使其都發(fā)生共振,補(bǔ)償?shù)母郊哟艌鰪?qiáng)度不同,所產(chǎn)生的共振吸收峰,會(huì)出現(xiàn)在圖譜的不同位置上。即產(chǎn)生了化學(xué)位移。第5頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三二、化學(xué)位移的測量與表示方法相對測量法:相對差值法:第6頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三相對標(biāo)準(zhǔn):四甲基硅烷Si(CH3)4(TMS)(內(nèi)標(biāo))
位移常數(shù)TMS=0為什么用TMS作為基準(zhǔn)?a.12個(gè)氫處于完全相同的化學(xué)環(huán)境,只產(chǎn)生一個(gè)尖峰b.屏蔽強(qiáng)烈,共振峰位于高磁場。與有機(jī)化合物中的質(zhì)子峰不重迭;c.化學(xué)惰性;易溶于有機(jī)溶劑;沸點(diǎn)低,易回收。第7頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三例:①用一臺(tái)60MHZ的NMR儀器,測得某質(zhì)子共振時(shí)所需射頻場的頻率比TMS的高120HZ,②用一臺(tái)100MHZ的NMR儀器,進(jìn)行上述同樣測試
第8頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三
小,屏蔽強(qiáng),共振需要的磁場強(qiáng)度大,在高場出現(xiàn),圖右側(cè);
大,屏蔽弱,共振需要的磁場強(qiáng)度小,在低場出現(xiàn),圖左側(cè)。第9頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三3、影響化學(xué)位移的因素
化學(xué)位移核外電子云密度屏蔽作用核外電子云密度降低屏蔽作用降低Δ變大,低場去屏蔽效應(yīng)正屏蔽效應(yīng)反之第10頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三(一)取代基電負(fù)性電負(fù)性↑,核外e↓→低場位移δ↑I效應(yīng)通過成鍵e傳遞,相隔3個(gè)C以上可忽具有加和性化合物CH3XCH3FCH3OHCH3ClCH3BrCH3I
電負(fù)性(X)
4.0(F)3.5(O)3.1(Cl)2.8(Br)2.5(I)
δ(ppm)
4.263.403.052.682.16
第11頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三(二)化學(xué)鍵的磁各向異性由于感生磁場使氫核受到的實(shí)際磁場強(qiáng)度不同的作用稱為磁的各向異性效應(yīng)。主要發(fā)生在電子的基團(tuán)。第12頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三1、苯環(huán)芳環(huán)的上下方為屏蔽區(qū),其它地方為去屏蔽區(qū)H。第13頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三二、雙鍵雙鍵平面的上下方為正屏蔽區(qū),平面的周圍為去屏蔽區(qū)。第14頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三三、叁鍵叁鍵:鍵軸向?yàn)槠帘螀^(qū),其它為去屏蔽區(qū)。第15頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三羰基平面上下各有一個(gè)錐形的屏蔽區(qū),其它方向(尤其是平面內(nèi))為去屏蔽區(qū)。羰基第16頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三單鍵第17頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三(三)氫鍵的影響氫鍵可以降低質(zhì)子周圍的電子云密度,削弱氫鍵質(zhì)子的屏蔽,使共振吸收移向低場。分子內(nèi)氫鍵受環(huán)境影響較小,所以與樣品濃度、溫度變化不大;分子間氫鍵受環(huán)境影響較大,當(dāng)樣品濃度、溫度發(fā)生變化時(shí),氫鍵質(zhì)子的化學(xué)位移會(huì)發(fā)生變化用惰性溶劑稀釋時(shí),δ↓-OH:0.5~5;-CONH2:5~8;-COOH:10~13
第18頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三酸性H(與O、N、S相連的H),存在H交換反應(yīng):ROHa+R’OHb===ROHb+R’OHaδab=Naδa+Nbδb(Na,Nb:H的摩爾數(shù))4、活潑質(zhì)子交換:CH3COOHH2OCH3COOH+H2O1:1第19頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三當(dāng)兩個(gè)質(zhì)子在空間結(jié)構(gòu)上非??拷鼤r(shí),具有負(fù)電荷的電子云就會(huì)互相排斥,從而使這些質(zhì)子周圍的電子云密度減少,屏蔽作用下降,共振信號(hào)向低磁場位移,這種效應(yīng)稱為VanderWaals效應(yīng)。δ(ppm)(Ⅰ)(Ⅱ)Ha4.683.92Hb2.403.55Hc1.100.885電偶極和VanderWaals效應(yīng)第20頁,共21頁,2023年,2月20日,星期三飽和碳原子上的質(zhì)子的δ值:叔碳>仲碳>伯碳
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