![第二章晶體結(jié)構(gòu)的缺陷_第1頁](http://file4.renrendoc.com/view/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a1/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a11.gif)
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![第二章晶體結(jié)構(gòu)的缺陷_第3頁](http://file4.renrendoc.com/view/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a1/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a13.gif)
![第二章晶體結(jié)構(gòu)的缺陷_第4頁](http://file4.renrendoc.com/view/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a1/c1cba75788267984f72645b29d0cd6a14.gif)
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2.7半導(dǎo)體晶體中的摻雜缺陷—電子缺陷根據(jù)能帶理論,當(dāng)原子或離子緊密堆積形成晶體時(shí),外層價(jià)電子是離域的,所有的價(jià)電子歸整個(gè)晶格的原子所共有。外層電子(能量高)勢(shì)壘穿透概率較大,可以在整個(gè)固體中運(yùn)動(dòng),稱為共有化電子。內(nèi)層電子與原子核結(jié)合較緊,一般是非共有化電子。價(jià)電子波函數(shù)線性組合形成的分子軌道在空間上延伸到整個(gè)晶體。分子軌道數(shù)目很多,而其能量間隔極小,所以就形成能帶。
(1)固體的能帶結(jié)構(gòu)當(dāng)前第1頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)分子軌道理論的延伸:有限到無限,一維到三維
當(dāng)n時(shí)的線性氫原子鏈Hn的能級(jí)分布圖當(dāng)前第2頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)根據(jù)電子占據(jù)情況能帶分為:滿帶:由充滿電子的能級(jí)構(gòu)成,能量較低;價(jià)帶:由未充滿電子的能級(jí)構(gòu)成,能量較高;空帶:由未填電子的能級(jí)構(gòu)成,能量較高;
禁帶:滿帶頂?shù)綄?dǎo)帶底之間的能量間隔。能帶結(jié)構(gòu)及導(dǎo)體、半導(dǎo)體
和絕緣體的劃分固體中的軌道也稱為能級(jí)對(duì)半導(dǎo)體:滿帶也稱價(jià)帶空帶亦稱導(dǎo)帶當(dāng)前第3頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)吸收一定波長(zhǎng)的光如:514nm滿帶空帶hEg=2.42eVCdS半導(dǎo)體滿帶上的電子躍遷到空帶后,滿帶中出現(xiàn)空的電子能級(jí),稱為“空穴”。空穴帶一個(gè)單位的正電荷。電子和空穴總是成對(duì)產(chǎn)生或成對(duì)復(fù)合激子:電子-空穴對(duì)當(dāng)前第4頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)空帶滿帶滿帶中空穴下面能級(jí)上的電子躍遷到空穴上,相當(dāng)于空穴向下躍遷。滿帶中帶正電的空穴向下躍遷形成電流,稱為空穴導(dǎo)電。Eg在外電場(chǎng)作用下:關(guān)于空穴導(dǎo)電當(dāng)前第5頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)本征半導(dǎo)體:物體的半導(dǎo)體性質(zhì)是由電子從滿帶激發(fā)到導(dǎo)帶而產(chǎn)生的。
載流子:電子和空穴。高純半導(dǎo)體在較高溫度時(shí),才具有本征半導(dǎo)體的性質(zhì)。雜質(zhì)半導(dǎo)體:半導(dǎo)體中摻入雜質(zhì)時(shí),其導(dǎo)電性能和導(dǎo)電機(jī)構(gòu)與本征半導(dǎo)體不同。
載流子:電子(n-型)或空穴(p-型)。
實(shí)際使用的半導(dǎo)體都是摻雜的,摻雜不僅可增加半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力,并且可通過控制摻入雜質(zhì)原子的種類和數(shù)量形成不同類型的半導(dǎo)體。當(dāng)前第6頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)(2)雜質(zhì)半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
與本征半導(dǎo)體相比,雜質(zhì)半導(dǎo)體中除了具有與能帶相對(duì)應(yīng)的電子共有化狀態(tài)外,還存在一定數(shù)目的束縛狀態(tài)的電子,這些電子是由雜質(zhì)引起的,并為雜質(zhì)所束縛,如同一般電子為原子核所束縛的情況一樣,束縛電子也具有確定的能級(jí)。這種能級(jí)處于禁帶中間,對(duì)雜質(zhì)半導(dǎo)體的性質(zhì)起著決定作用。當(dāng)前第7頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
把VA元素(如P、As)摻入硅單晶中
正電荷中心束縛電子像磷這樣能給出電子的雜質(zhì),稱為施主(雜質(zhì)),這類缺陷稱為施主缺陷,摻有施主雜質(zhì)的半導(dǎo)體稱為n型半導(dǎo)體,載流子是電子,也稱為電子型半導(dǎo)體。
(PSi·)當(dāng)前第8頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)空帶滿帶施主能級(jí)Eg量子力學(xué)表明,摻雜后多余的電子的能級(jí)(施主能級(jí))在禁帶中緊靠空帶處,E~10-2eV,電子容易受激發(fā)躍遷到導(dǎo)帶中,成為導(dǎo)電的電子。施主(donor)能級(jí)施主能級(jí)
施主雜質(zhì)束縛的電子的能級(jí);雜質(zhì)給出的電子所在的能級(jí);雜質(zhì)提供的帶電子的能級(jí)。
Si中摻P時(shí)ED為0.045eVEDEED
當(dāng)前第9頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)硅、鍺單晶中摻入P、As等雜質(zhì)的電離反應(yīng):當(dāng)前第10頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
把ⅢA族元素(如B、Al)摻入硅單晶中
負(fù)電荷中心束縛空穴像硼這樣能接受電子給出空穴的雜質(zhì),稱為受主(雜質(zhì)),這類缺陷稱為受主缺陷,摻有受主雜質(zhì)的半導(dǎo)體又稱為p型半導(dǎo)體,載流子是空穴,也稱為空穴半導(dǎo)體。
(BSi’)
當(dāng)前第11頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)空帶E滿帶受主能級(jí)Eg量子力學(xué)表明,摻雜后多余的空穴的能級(jí)(受主能級(jí))在禁帶中緊靠滿帶處,E~10-2eV,極易產(chǎn)生空穴導(dǎo)電。Si中摻B時(shí)EA為0.045eV受主(acceptor)能級(jí)受主能級(jí)
受主雜質(zhì)束縛的空穴的能級(jí);受主雜質(zhì)提供的空能量狀態(tài)。
EAEA當(dāng)前第12頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)硅、鍺單晶中摻入B、Al等雜質(zhì)的電離反應(yīng):當(dāng)前第13頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)硅中摻雜形成施主能級(jí)和受主能級(jí)(統(tǒng)稱為雜質(zhì)能級(jí))的分子軌道理論解釋原子軌道有效組合形成分子軌道應(yīng)滿足的條件:能量相近、對(duì)稱性匹配、最大重疊。當(dāng)前第14頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)SiliconCrystalDopedwith(a)Arsenicand(b)Boron摻雜半導(dǎo)體導(dǎo)電機(jī)制:
跳躍式導(dǎo)電機(jī)理當(dāng)前第15頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)n型化合物半導(dǎo)體
例如,化合物GaAs中摻Te
,六價(jià)的Te替代五價(jià)的As可形成施主能級(jí),成為n型GaAs雜質(zhì)半導(dǎo)體。p型化合物半導(dǎo)體例如,化合物GaAs中摻Zn,二價(jià)的Zn替代三價(jià)的Ga可形成受主能級(jí),成為p型GaAs雜質(zhì)半導(dǎo)體。當(dāng)前第16頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)2.8非化學(xué)計(jì)量化合物(缺陷)
一般化合物其化學(xué)式符合倍比定律和定比定律。
非化學(xué)計(jì)量化合物:組成不符合倍比和定比定律,偏離其化學(xué)式的化合物。
例如:方鐵礦(Fe0.89O至Fe0.96O,通常記為Fe1-xO)TiO2-x、Zn1+xO及黃鐵礦FeS1+x等。
易形成非計(jì)量化合物的陰離子:O2-、S2-和H-離子;
陽離子:過渡金屬和稀土金屬,一般具有可變的化合價(jià)。
非化學(xué)計(jì)量化合物晶體中往往形成點(diǎn)缺陷結(jié)構(gòu),且這些缺陷一般是空位、間隙離子與電子、空穴的復(fù)合,具有半導(dǎo)體性質(zhì),或使材料出現(xiàn)一系列色心。當(dāng)前第17頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
根據(jù)點(diǎn)缺陷形式,非化學(xué)計(jì)量氧化物有如下四類:非化學(xué)計(jì)量化合物缺陷:由于化學(xué)組成偏離化學(xué)計(jì)量而產(chǎn)生的一種結(jié)構(gòu)缺陷,屬于點(diǎn)缺陷的范疇。
1.
陰離子空位型(TiO2-x、ZrO2-x)
2.陽離子空位型(Fe1-xO、Cu2-xO)
3.陰離子間隙型(UO2+x)
4.陽離子間隙型(Zn1+xO、Cd1+xO)
其導(dǎo)電性質(zhì)可分別歸屬為n型和p型半導(dǎo)體。當(dāng)前第18頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)(1)陰離子空位引起陽離子過剩(TiO2-x、ZrO2-x)當(dāng)環(huán)境氧分壓較低或在還原氣氛中,晶體中氧逸出而在晶格中產(chǎn)生氧空位。氧空位帶正電荷,束縛著以低價(jià)態(tài)形式存在的金屬上的電子,具有n型半導(dǎo)體的性質(zhì)。氧逸出釋放的電子被金屬離子接納從而使其價(jià)態(tài)降低。相當(dāng)于施主雜質(zhì)提供施主能級(jí)TiO2-x(陰離子空位型)結(jié)構(gòu)缺陷示意圖當(dāng)前第19頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)缺氧的TiO2可看作是四價(jià)鈦和三價(jià)鈦氧化物形成的固溶體,或三價(jià)鈦取代了部分四價(jià)鈦。e=TiTi
電子導(dǎo)電,n型半導(dǎo)體當(dāng)前第20頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)根據(jù)質(zhì)量作用定律:[OO]=1
當(dāng)前第21頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)(2)陽離子間隙引起陽離子過剩(Zn1+xO、Cd1+xO)
當(dāng)環(huán)境氧分壓較低或在還原氣氛中,晶體中氧逸出引起過剩金屬離子進(jìn)入間隙。間隙陽離子帶正電荷,等價(jià)的電子被束縛在周圍,具有n型半導(dǎo)體的性質(zhì)。
相當(dāng)于施主雜質(zhì)提供施主能級(jí)或看作金屬氧化物在其相應(yīng)的金屬蒸氣中加熱,金屬進(jìn)入間隙位置。陽離子間隙型缺陷結(jié)構(gòu)示意圖當(dāng)前第22頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)ZnO在Zn蒸氣中加熱:或:實(shí)測(cè)ZnO電導(dǎo)率與氧分壓的關(guān)系支持單電荷間隙的模型。當(dāng)前第23頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)(3)陰離子間隙引起陰離子過剩(UO2+x)
當(dāng)環(huán)境氧分壓較高時(shí),環(huán)境中氧以氧離子形式進(jìn)入晶格間隙。間隙氧離子帶負(fù)電荷,束縛著以高價(jià)態(tài)形式存在的金屬上的空穴,具有p型半導(dǎo)體的性質(zhì)。
相當(dāng)于受主雜質(zhì)提供受主能級(jí)陰離子間隙型缺陷結(jié)構(gòu)示意圖當(dāng)前第24頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
UO2晶體,這種缺陷可視作UO3在UO2
中的固溶體,或六價(jià)鈾取代了四價(jià)鈾。2當(dāng)前第25頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)(4)陽離子空位引起陰離子過剩(Fe1-xO、Cu2-xO)
當(dāng)環(huán)境氧分壓較高時(shí),環(huán)境中氧進(jìn)入晶格占據(jù)氧格位,導(dǎo)致產(chǎn)生金屬離子空位,該空位帶負(fù)電荷,束縛著以高價(jià)態(tài)形式存在的金屬上的空穴,具有p型半導(dǎo)體的性質(zhì)。
相當(dāng)于受主雜質(zhì)提供受主能級(jí)陽離子空位型缺陷結(jié)構(gòu)示意圖當(dāng)前第26頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
Fe1-xO,也可看作Fe2O3在FeO中的固溶體,或部分Fe3+取代了Fe2+。當(dāng)前第27頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)非化學(xué)計(jì)量化合物可看成是:
同一金屬但價(jià)態(tài)不同的兩種化合物所構(gòu)成的固溶體。
或:一種不等價(jià)雜質(zhì)取代缺陷,只是取代發(fā)生在同一種離子的高價(jià)態(tài)與低價(jià)態(tài)之間。非化學(xué)計(jì)量化合物的特點(diǎn):
其形成和缺陷的濃度與氣氛的性質(zhì)及相關(guān)組分的分壓大小密切相關(guān)。
當(dāng)前第28頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)例如,NiO在1000oC的空氣中高溫氧化,吸收氧,質(zhì)量增加并變?yōu)楹谏?,成為p型半導(dǎo)體。氧化時(shí),氧得到電子以O(shè)2-占據(jù)晶體表面,Ni2+擴(kuò)散到表面而在內(nèi)部產(chǎn)生陽離子空位,同時(shí)部分Ni2+變?yōu)镹i3+
。NiO的非化學(xué)計(jì)量示意圖NiO用作半導(dǎo)體的缺點(diǎn)是它的導(dǎo)電率同時(shí)依賴于溫度和氧分壓,難以控制。含兩種氧化態(tài)的某些過渡金屬化合物也具有半導(dǎo)體的性質(zhì)當(dāng)前第29頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)通過摻雜可使載流子濃度與溫度無關(guān),而只與摻雜物濃度有關(guān)NiO
+Li2O
2LiNi’+2NiNi·+2OO例如:NiO中摻入Li2O負(fù)電荷中心束縛空穴,p型半導(dǎo)體?O2(g)當(dāng)前第30頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)用施主摻雜產(chǎn)生準(zhǔn)自由電子控制電導(dǎo)率:用受主摻雜產(chǎn)生準(zhǔn)自由空穴調(diào)節(jié)電導(dǎo)率:氧化鋅材料的摻雜在化合物中摻雜時(shí),發(fā)生不等價(jià)取代缺陷,可構(gòu)成和n型或p半導(dǎo)體。當(dāng)前第31頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)2.9色心蒸汽,加熱
驟冷Na1+xCl(非化學(xué)計(jì)量)
NaCl
(無色透明)(黃色)晶體顯色是由于在其內(nèi)部產(chǎn)生了能夠吸收可見光的缺陷—色心。F色心缺陷點(diǎn)缺陷上的電荷具有一系列分離的允許能級(jí)。這些允許能級(jí)相當(dāng)于在可見光譜區(qū)域的光子能級(jí),能吸收一定波長(zhǎng)的光,使材料呈現(xiàn)某種顏色。色心能級(jí)示意圖當(dāng)前第32頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)化合物氟化物氯化物溴化物max顏色max顏色max顏色Li224/388黃綠459橙色Na344/459橙色539紫紅K459橙色563紫色620藍(lán)綠Rb620藍(lán)綠689藍(lán)綠MX色心的光譜數(shù)據(jù)當(dāng)前第33頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)F色心:陰離子空位捕獲1個(gè)電子(Vx·+e’)(缺陷締合體)或1個(gè)電子占據(jù)1個(gè)陰離子空位在氧化物中2個(gè)電子占據(jù)1個(gè)氧空位(Vx··+2e’)
F’色心:兩個(gè)電子占據(jù)同1個(gè)負(fù)一價(jià)陰離子空位(Vx·+2e’)
V色心:空穴占據(jù)1個(gè)陽離子空位(VM’+h·)
當(dāng)前第34頁\共有39頁\編于星期三\8點(diǎn)
色心的類型(缺陷的締合)名稱形成方式
符號(hào)中心陰離子空位VXF中心陰離子空位締合電子[VX
+e’]F’中心F中心締合電子[VX
+2e’]V1中心陽離子空位締合空穴[VM’
+h]V2中心相鄰的兩個(gè)陽離子空位締合兩個(gè)空穴[2VM’
+2h]FA中心雜質(zhì)陽離子A
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