真空濺射鍍膜技術課件

真空濺射鍍膜技術真空濺射鍍膜技術1目錄、濺射鍍膜的相關概念、濺射的基本原理三、濺射鍍膜的類型四、、濺射鍍膜相關外包廠簡介五、濺射鍍膜案例分析目錄2表面技術工程是將材料表面與基體一起作為一個系統(tǒng)進行設計,利用表面改性技術,薄膜技術和涂層技術,使材料表面獲得材料本身沒有而又希望具有的性能的系統(tǒng)工程。薄膜技術是表面工程三大技術之一。一般把小于25um大于100nm的膜層稱為薄膜,大于25um的膜層稱為厚膜。小于100nm的膜層稱為納米薄膜。真空鍍膜是薄膜技術的最具潛力的手段,也是納米技術的主要支撐技術。所謂納米技術,如果離開了真空鍍膜,它將會失去半壁江山。表面技術工程是將材料表面與基體一起作3嘉釜鍍躦盆姴柰答勢飾驚能鐨膜)和《化學氣相沉積)四種角鬏葑5鼕撓籌的素}譏射賾體原子或分子)從表面射出的現(xiàn)象,3中性原子在室溫下的熱運動能約為(0.026eV);4蒸發(fā)源蒸發(fā)出來的原子能量約(.1ev)。5、濺射鍍膜的特點正確的是:(A,B,C,D)A.任何物質均可以濺射,尤其是高溶點,低蒸氣壓的元素和化合物。B金屬、半導體、絕緣體、化合物和混合物等,只要是固體,不論是塊狀、粒狀都可以作為靶材。C濺射氧化物等絕緣材料和合金時可制得與靶材料相近的薄膜和組分均勻的合金膜、超導膜D濺射膜與基板的附著性好;6(沉積)和(刻蝕是濺射過程的兩種應用7靶材有(燒結)和(熱壓)兩種。(熱壓靶材)含有大量的氣體。(預濺射)可以使這些氣體得到釋放后被抽走。b對一個純金屬靶來說,它的表面會有一層氧化物),要想獲得純金屬膜,必須將這層氧化物去掉c.對合金或化合物靶,也必須作(預濺射),使靶面露出新材料嘉釜鍍躦盆姴柰答勢飾驚能鐨膜)和《化學氣相沉積)四種42.荷能粒子是指具有一定動能的電子、光子、重粒子(質子、中子、離子、原子)。如果它們以足夠的能量與固體表面碰撞,但又不足以發(fā)生核反應,這時所發(fā)生的種種次級反應是近代真空技術感興趣的內容1)在可控熱核反應真空空間,從等離子體內所逃逸的核能離子撞擊器壁表面,產(chǎn)生氣相雜質。嚴重地影響等離子體的濃度和溫度。2)高能加速器交叉儲存環(huán)要求良好的超高真空環(huán)境,然而,加速粒子對壁面的轟擊脫附出氣,會破壞已近達到的真空度;2.荷能粒子53)重粒子對材料的濺射剝蝕是濺射粒子泵、濺射鍍膜、離子刻蝕的基本工作依據(jù);4)氬氧混合輝光放電、氬離子轟擊是獲得清潔表面的有效手段;5)電子轟擊加熱、電子轟擊分解是電離規(guī)電真空器件電極出氣的重要方法之6)軟X射線光電流、電子誘導脫附是影響電離規(guī)測量下限的因素。用這些粒子以及熱、強電場為探針作用于固體表面,然后分析出射粒子的狀況,已獲得固體表面的豐富信息,這就是上個世紀七十年代發(fā)展起來的表面分析技術。3)重粒子對材料的濺射剝蝕是濺射粒子泵、63現(xiàn)代表面分析技術的手段:1)透射電子顯微鏡EM)和掃描電子顯微鏡(SEM);2)聲學成象和聲顯微鏡(SAM);3)掃描隧道顯微鏡(STM和原子力顯微鏡AFM)4)X光衍射儀5)低能電子衍射儀①EED);6)俄歇電子能譜AES7)X射線光電子能譜(XPS);8)二次離子質譜儀(SIMS);9)盧瑟福背散射能譜分析(RBS);10)溝道技術11)熱波檢測和熱波成象技術。3現(xiàn)代表面分析技術的手段:74粒子的能量:1)中性原子在室溫下的熱運動能約為0.026eV;2)蒸發(fā)源蒸發(fā)出來的原子能量約0.1eV。3)對入射粒子能量小于30eV,只發(fā)生背散射、輕的濺射和原子位移4)濺射出的原子能量在5-40eV,5)濺射時入射原子的能量一般在303000eV;6)離子鍍中轟擊離子的能量一般在50-5000eV。7)入射粒子能量在3×10410°eV主要發(fā)生非彈性碰撞,高激發(fā)能級變得很普遍,電離作用明顯,輻射探傷即在此區(qū)域。H,He原子的能量達10V即發(fā)生核反應,對重粒子發(fā)生核反應的原子能量為10eV4粒子的能量:8真空濺射鍍膜技術課件9在預濺射時,在靶面的正前方應有一個活動擋板擋住基片使其免遭污染。2)襯底的預處理a任何材料在裝入真空室之前都要進行化學清洗或適當?shù)某龎m處理;b在沉積膜之前,如果將基片接負電位,利用輝光放電,氣體離子可對基片進行轟擊實現(xiàn)濺射清洗可清除表面的吸附氣體、各種污染物和氧化物二可除掉粘附力弱的淀積粒子;三可使其表面增加活性使沉積膜與基片之間的附著力增加3)濺射的刻蝕作用濺射可以實現(xiàn)微米、亞微米和納米級的微細加工。a濺射刻蝕:待刻蝕的樣品作為陰極,輝光放電在預濺射時,在靶面的正前方應有一個活動擋10真空濺射鍍膜技術課件11真空濺射鍍膜技術課件12真空濺射鍍膜技術課件13真空濺射鍍膜技術課件14真空濺射鍍膜技術課件15真空濺射鍍膜技術課件16真空濺射鍍膜技術課件17真空濺射鍍膜技術課件18真空濺射鍍膜技術課件19真空濺射鍍膜技術課件20真空濺射鍍膜技術課件21真空濺射鍍膜技術課件22真空濺射鍍膜技術課件23真空濺射鍍膜技術課件24真空濺射鍍膜技術課件25真空濺射鍍膜技術課件26真空濺射鍍膜技術課件27真空濺射鍍膜技術課件28真空濺射鍍膜技術課件29真空濺射鍍膜技術課件30真空濺射鍍膜技術課件31真空濺射鍍膜技術課件32真空濺射鍍膜技術課件33真空濺射鍍膜技術課件34真空濺射鍍膜技術課件35真空濺射鍍膜技術課件36真空濺射鍍膜技術課件37真空濺射鍍膜技術課件38真