合肥工業(yè)大學(xué)材料測試方法題庫

第一章一、選擇題TOC\o"1-5"\h\z用來進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的X射線學(xué)分支是（）A.X射線透射學(xué)；B.X射線衍射學(xué)；C.X射線光譜學(xué)；D.其它M層電子回遷到K層后，多余的能量放出的特征X射線稱（）A.Ka；B.KB；C.Ky；D.La。當(dāng)X射線發(fā)生裝置是Cu靶，濾波片應(yīng)選（）A．Cu；B.Fe；C.Ni；D.Mo。當(dāng)電子把所有能量都轉(zhuǎn)換為X射線時(shí)，該X射線波長稱（）A.短波限入0；B.激發(fā)限入k；C.吸收限；D.特征X射線5?當(dāng)X射線將某物質(zhì)原子的K層電子打出去后，L層電子回遷K層，多余能量將另一個(gè)L層電子打出核外，這整個(gè)過程將產(chǎn)生（）（多選題）A.光電子；B.二次熒光；C.俄歇電子；D.（A+C）二、正誤題隨X射線管的電壓升高，入0和入k都隨之減小。（）激發(fā)限與吸收限是一回事，只是從不同角度看問題。（）經(jīng)濾波后的X射線是相對的單色光。（）產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（）選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料，而不需要考慮厚度。（）三、填空題當(dāng)X射線管電壓超過臨界電壓就可以產(chǎn)X射線和X射線。TOC\o"1-5"\h\zX射線與物質(zhì)相互作用可以產(chǎn)、經(jīng)過厚度為H的物質(zhì)后，X射線的強(qiáng)度為。X射線的本質(zhì)既是也是，具有性。短波長的X射線稱，常用于;長波長的X射線稱，常用于。習(xí)題X射線學(xué)有幾個(gè)分支？每個(gè)分支的研究對象是什么？分析下列熒光輻射產(chǎn)生的可能性，為什么？用CuKX射線激發(fā)CuK熒光輻射；TOC\o"1-5"\h\zaa用CuK/射線激發(fā)CuK熒光輻射；Ba用CuKX射線激發(fā)CuL熒光輻射。aa什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“熒光輻射”、“吸收限”、“俄歇效應(yīng)”、“發(fā)射譜”、“吸收譜”？X射線的本質(zhì)是什么？它與可見光、紫外線等電磁波的主要區(qū)別何在？用哪些物理量描述它？產(chǎn)生X射線需具備什么條件？X射線具有波粒二象性，其微粒性和波動性分別表現(xiàn)在哪些現(xiàn)象中？計(jì)算當(dāng)管電壓為50kv時(shí)，電子在與靶碰撞時(shí)的速度與動能以及所發(fā)射的連續(xù)譜的短波限和光子的最大動能。&特征X射線與熒光X射線的產(chǎn)生機(jī)理有何異同？某物質(zhì)的K系熒光X射線波長是否等于它的K系特征X射線波長？連續(xù)譜是怎樣產(chǎn)生的？其短波限九==1?24%103與某物質(zhì)的吸收0eVVhc1.24%103限九二二」—有何不同(V和V以kv為單位)？keVVKkkX射線與物質(zhì)有哪些相互作用？規(guī)律如何？對x射線分析有何影響？反沖電子、光電子和俄歇電子有何不同？試計(jì)算當(dāng)管壓為50kv時(shí)，X射線管中電子擊靶時(shí)的速度和動能，以及所發(fā)射的連續(xù)譜的短波限和光子的最大能量是多少？為什么會出現(xiàn)吸收限？K吸收限為什么只有一個(gè)而L吸收限有三個(gè)？當(dāng)激發(fā)X系熒光X射線時(shí)，能否伴生L系？當(dāng)L系激發(fā)時(shí)能否伴生K系？已知鉬的入Ka=0.71A，鐵的入Ka=1.93A及鉆的入Ka=1.79A，試求光子的頻率和能量。試計(jì)算鉬的K激發(fā)電壓，已知鉬的入k=0.619A。已知鉆的K激發(fā)電壓VK=7.71kv,試求其入K。X射線實(shí)驗(yàn)室用防護(hù)鉛屏厚度通常至少為lmm,試計(jì)算這種鉛屏對CuKa、MoKa輻射的透射系數(shù)各為多少？如果用1mm厚的鉛作防護(hù)屏，試求CrKa和Mo^的穿透系數(shù)。厚度為1mm的鋁片能把某單色X射線束的強(qiáng)度降低為原來的23.9%,試求這種X射線的波長。試計(jì)算含Wc=0.8%,Wcr=4%,Ww=18%的高速鋼對MoKa輻射的質(zhì)量吸收系數(shù)。欲使鉬靶X射線管發(fā)射的X射線能激發(fā)放置在光束中的銅樣品發(fā)射K系熒光輻射，問需加的最低的管壓值是多少？所發(fā)射的熒光輻射波長是多少？什么厚度的鎳濾波片可將CuKa輻射的強(qiáng)度降低至入射時(shí)的70%?如果入射X射線束中K和K強(qiáng)度之比是5：1,濾波后的強(qiáng)度比是多少？已知卩=49.03cm2/g,卩=290誠TOC\o"1-5"\h\zBmamB/g。如果Co的K、Kb輻射的強(qiáng)度比為5：1,當(dāng)通過涂有15mg/cm2的Fe0濾波片后，強(qiáng)度B23比是多少？已知Fe0的P=5.24g/cm3，鐵對CoK的卩=371cm2/g，氧對CoK的卩23amBm=15cm2/go計(jì)算0.071nm(MoK)和0.154nm(CuK)的乂射線的振動頻率和能量。(答案：4.23aaX10i8s-i,2.80X10-15J,1.95X1018S-1,1.29X10T5J)以鉛為吸收體，利用MoK、RhK、AgKX射線畫圖，用圖解法證明式(1-16)的正確性。aaa(鉛對于上述X射線的質(zhì)量吸收系數(shù)分別為122.8,84.13,66.14cm2/g)o再由曲線求出鉛對應(yīng)于管電壓為30kv條件下所發(fā)出的最短波長時(shí)質(zhì)量吸收系數(shù)。計(jì)算空氣對CrK的質(zhì)量吸收系數(shù)和線吸收系數(shù)(假設(shè)空氣中只有質(zhì)量分?jǐn)?shù)80%的氮和a質(zhì)量分?jǐn)?shù)20%的氧，空氣的密度為1.29X10-3g/cm3)。(答案：26.97ciWg,3.48X10-2cm-1為使CuK線的強(qiáng)度衰減1/2,需要多厚的Ni濾波片？(Ni的密度為&90g/cm3)。CuKa和CuK的強(qiáng)度比在入射時(shí)為2：1,利用算得的Ni濾波片之后其比值會有什么變化？a1a2試計(jì)算Cu的K系激發(fā)電壓。(答案：8980V)試計(jì)算Cu的K射線的波長。(答案：0.1541nm).al第二章一、選擇題TOC\o"1-5"\h\z1.有一倒易矢量為g*=2a*+2b*+c*，與它對應(yīng)的正空間晶面是()A.(210)；B.(220)；C.(221)；D.(110)；。2?有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是0.286nm,用鐵靶K(入K=0.194nm)照射該晶體能產(chǎn)aa生()衍射線。A.三條；B?四條；C.五條；D.六條。一束X射線照射到晶體上能否產(chǎn)生衍射取決于()。A.是否滿足布拉格條件；B.是否衍射強(qiáng)度IMO；C.A+B；D.晶體形狀。面心立方晶體(111)晶面族的多重性因素是()。A.4；B.8；C.6；D.12。二、正誤題倒易矢量能唯一地代表對應(yīng)的正空間晶面。()X射線衍射與光的反射一樣，只要滿足入射角等于反射角就行。()3?干涉晶面與實(shí)際晶面的區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬的，指數(shù)間存在公約數(shù)n。()4?布拉格方程只涉及X射線衍射方向，不能反映衍射強(qiáng)度。()5?結(jié)構(gòu)因子F與形狀因子G都是晶體結(jié)構(gòu)對衍射強(qiáng)度的影響因素。()三、填空題TOC\o"1-5"\h\z倒易矢量的方向是對應(yīng)正空間晶面的;倒易矢量的長度等于對。只要倒易陣點(diǎn)落在厄瓦爾德球面上，就表示i—滿足條件，能產(chǎn)生。影響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還，，，?？紤]所有因素后的衍射強(qiáng)度公式為,對于粉末多晶的相對強(qiáng)度為。結(jié)構(gòu)振幅用—表示，結(jié)構(gòu)因素用表示，結(jié)構(gòu)因素=0時(shí)沒有衍射我們稱或。對于有序固溶體，原本消光的地方會出。四、名詞解釋1.倒易點(diǎn)陣2.系統(tǒng)消光3.衍射矢量4.形狀因子5.相對強(qiáng)度1、試畫出下列晶向及晶面（均屬立方晶系）：［111］。［121］，［212］，（010）（110），（123）（211）。2、下面是某立方晶系物質(zhì)的幾個(gè)晶面間距，試將它們從大到小按次序重新排列（。123）（100）（200）（311）（121）（111）（210）（220）（030）（221）（110）3、當(dāng)波長為九的X射到晶體并出現(xiàn)衍射線時(shí)，相鄰兩個(gè)（hkl）反射線的程差是多少？相鄰兩個(gè)（HKL）反射線的程差又是多少？4、畫出Fe2B在平行于（010）上的部分倒易點(diǎn)。Fe2B屬正方晶系，點(diǎn)陣參數(shù)a=b=0.510nm,c=0.424nm。5、判別下列哪些晶面屬于［111］晶帶：（110），（133），（112），（132），（011），（212）。6、試計(jì)算（311）及（132）的共同晶帶軸。7、鋁為面心立方點(diǎn)陣，a=0.409nm。今用CrKa（九=0.209nm）攝照周轉(zhuǎn)晶體相，X射線垂直于［001］。試用厄瓦爾德圖解法原理判斷下列晶面有無可能參與衍射（：111），（200），（220），（311），（331），（420）。8、畫出六方點(diǎn)陣（001）*倒易點(diǎn)，并標(biāo)出a*,b*，若一單色X射線垂直于b軸入射，試用厄爾德作圖法求出（120）面衍射線的方向。9、試簡要總結(jié)由分析簡單點(diǎn)陣到復(fù)雜點(diǎn)陣衍射強(qiáng)度的整個(gè)思路和要點(diǎn)。10、試述原子散射因數(shù)f和結(jié)構(gòu)因數(shù)|F卩的物理意義。結(jié)構(gòu)因數(shù)與哪些因素有關(guān)系？HKL11、計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí)，基點(diǎn)的選擇原則是什么？如計(jì)算面心立方點(diǎn)陣，選擇（0，0，0）（1，1，0）、（0，1，0）與（1，0，0）四個(gè)原子是否可以，為什么？12、當(dāng)體心立方點(diǎn)陣的體心原子和頂點(diǎn)原子種類不相同時(shí)，關(guān)于H+K+L=偶數(shù)時(shí)，衍射存在,H+K+L=奇數(shù)時(shí)，衍射相消的結(jié)論是否仍成立?13、計(jì)算鈉原子在頂角和面心，氯原子在棱邊中心和體心的立方點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因數(shù)，并討論。14、今有一張用CuKa輻射攝得的鎢（體心立方）的粉末圖樣，試計(jì)算出頭四根線條的相對積分強(qiáng)度［不計(jì)e-2M和A（0）］。若以最強(qiáng)的一根強(qiáng)度歸一化為100，其他線強(qiáng)度各為多少？這些線條的°值如下，按下表計(jì)算。線條0/(*)HKLPsin0——nm-1九fF2①PF2①強(qiáng)度歸一化120.3229.2336.4443.6第三章五、選擇題1?最常用的X射線衍射方法是（）。A.勞厄法；B.粉末多法；C.周轉(zhuǎn)晶體法；D.德拜法。2?德拜法中有利于提高測量精度的底片安裝方法是（）。A.正裝法；B.反裝法；C.偏裝法；D.A+B。德拜法中對試樣的要求除了無應(yīng)力外，粉末粒度應(yīng)為（）。A.〈325目;B.>250目;C.在250-325目之間；D.任意大小。測角儀中，探測器的轉(zhuǎn)速與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是（）。A.保持同步1：1；B.2:1；C.1:2；D.1:0。TOC\o"1-5"\h\z衍射儀法中的試樣形狀是（）。A.絲狀粉末多晶；B.塊狀粉末多晶；C.塊狀單晶；D.任意形狀。六、正誤題大直徑德拜相機(jī)可以提高衍射線接受分辨率，縮短暴光時(shí)間。（）在衍射儀法中，衍射幾何包括二個(gè)圓。一個(gè)是測角儀圓，另一個(gè)是輻射源、探測器與試樣三者還必須位于同一聚焦圓。（）選擇小的接受光欄狹縫寬度，可以提高接受分辨率，但會降低接受強(qiáng)度。（）德拜法比衍射儀法測量衍射強(qiáng)度更精確。（）衍射儀法和德拜法一樣，對試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中，沒有應(yīng)力。（）七、填空題在粉末多晶衍射的照相法中包括、和。德拜相機(jī)有兩種，直徑分別是和^mm。測量9角時(shí)，底片上每毫米對應(yīng)_°和_。衍射儀的核心是測角儀圓，它由、和共同組成。可以用作X射線探測器的有和等。影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有和等。八、名詞解釋1.偏裝法——2.光欄——3.測角儀——4.聚焦圓——5.正比計(jì)數(shù)器6.光電倍增管習(xí)題：CuKa輻射（入=0.154nm）照射Ag（f.c.c）樣品，測得第一衍射峰位置29=38°，試求Ag的點(diǎn)陣常數(shù)。試總結(jié)德拜法衍射花樣的背底來源，并提出一些防止和減少背底的措施。粉末樣品顆粒過大或過小對德拜花樣影響如何？為什么？板狀多晶體樣品晶粒過大或過小對衍射峰形影響又如何？試從入射光束、樣品形狀、成相原理（厄瓦爾德圖解）、衍射線記錄、衍射花樣、樣品吸收與衍射強(qiáng)度（公式）、衍射裝備及應(yīng)用等方面比較衍射儀法與德拜法的異同點(diǎn)。衍射儀與聚焦相機(jī)相比，聚焦幾何有何異同？從一張簡單立方點(diǎn)陣物的德拜相上，已求出四根高角度線條的9角（系由CuKa所產(chǎn)生）及對應(yīng)的干涉指數(shù)，試用“a-cos29”的圖解外推法求出四位有效數(shù)字的點(diǎn)陣參數(shù)。HKL5326204435416115406219.角72.0877.9381.1187.44根據(jù)上題所給數(shù)據(jù)用柯亨法計(jì)算點(diǎn)陣參數(shù)至四位有效數(shù)字。&用背射平板相機(jī)測定某種鎢粉的點(diǎn)陣參數(shù)。從底片上量得鎢的400衍射環(huán)直徑2Lw=51.20毫米，用氮化鈉為標(biāo)準(zhǔn)樣，其640衍射環(huán)直徑2LNaCl=36.40毫米。若此二衍射環(huán)均系由CuKal輻射引起，試求精確到四位數(shù)字的鎢粉的點(diǎn)陣參數(shù)值。試用厄瓦爾德圖解來說明德拜衍射花樣的形成。同一粉末相上背射區(qū)線條與透射區(qū)線條比較起來其9較高還是較低？相應(yīng)的d較大還是較小？既然多晶粉末的晶體取向是混亂的，為何有此必然的規(guī)律衍射儀測量在人射光束、試樣形狀、試樣吸收以及衍射線記錄等方面與德拜法有何不同？測角儀在采集衍射圖時(shí)，如果試樣表面轉(zhuǎn)到與入射線成30°角，則計(jì)數(shù)管與人射線所成角度為多少？能產(chǎn)生衍射的晶面，與試樣的自由表面呈何種幾何關(guān)系？CuKa輻射（入=0.154nm）照射Ag（f.c.c）樣品，測得第一衍射峰位置29=38°，試求Ag的點(diǎn)陣常數(shù)。試總結(jié)德拜法衍射花樣的背底來源，并提出一些防止和減少背底的措施。圖題為某樣品德拜相（示意圖），攝照時(shí)未經(jīng)濾波。巳知1、2為同一晶面衍射線，3、4為另一晶面衍射線．試對此現(xiàn)象作出解釋．1234粉未樣品顆粒過大或過小對德拜花樣影響如何？為什么？板狀多晶體樣品晶粒過大或過小對衍射峰形影響又如何？試從入射光束、樣品形狀、成相原理（厄瓦爾德圖解）、衍射線記錄、衍射花樣、樣品吸收與衍射強(qiáng)度（公式）、衍射裝備及應(yīng)用等方面比較衍射儀法與德拜法的異同點(diǎn)。衍射儀與聚焦相機(jī)相比，聚焦幾何有何異同？第四章九、選擇題1?測定鋼中的奧氏體含量，若采用定量X射線物相分析，常用方法是（）A.外標(biāo)法；B.內(nèi)標(biāo)法；C.直接比較法；D.K值法。X射線物相定性分析時(shí)，若已知材料的物相可以查（）進(jìn)行核對。A.Hanawalt索引；B.Fenk索引；C.Davey索引；D.A或B。3?德拜法中精確測定點(diǎn)陣常數(shù)其系統(tǒng)誤差來源于（）。A.相機(jī)尺寸誤差；B.底片伸縮；C.試樣偏心；D.A+B+C。4?材料的內(nèi)應(yīng)力分為三類，X射線衍射方法可以測定（）。A.第一類應(yīng)力（宏觀應(yīng)力）；B.第二類應(yīng)力（微觀應(yīng)力）；C.第三類應(yīng)力；D.A+B+C。5.Sin2甲測量應(yīng)力，通常取甲為（）進(jìn)行測量。A.確定的甲角；B.0-45。之間任意四點(diǎn)；C.0°、45°兩點(diǎn)；D.0°、15°、30°、45°四點(diǎn)。十、正誤題1?要精確測量點(diǎn)陣常數(shù)。必須首先盡量減少系統(tǒng)誤差，其次選高角度e角，最后還要用直線外推法或柯亨法進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。（）X射線衍射之所以可以進(jìn)行物相定性分析，是因?yàn)闆]有兩種物相的衍射花樣是完全相同的。（）理論上X射線物相定性分析可以告訴我們被測材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有多少。（）4?只要材料中有應(yīng)力就可以用X射線來檢測。（）5?衍射儀和應(yīng)力儀是相同的，結(jié)構(gòu)上沒有區(qū)別。（）十^一、填空題TOC\o"1-5"\h\z在A0一定的情況下，e-_l，AsinG—_；所以精確測定點(diǎn)陣常數(shù)應(yīng)選。X射線物相分析包括和，而更常用更廣泛。&第一類應(yīng)力導(dǎo)致X射線衍射線，；第二類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線；第三類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線。9.X射線測定應(yīng)力常用儀器有和，常用方法有和。

10.X10.X射線物相定量分析方法有等。十二、名詞解釋柯亨法——Hanawalt索弓|直接比較法—Sin2甲法習(xí)題A—TiO（銳鐵礦）與R—TiO（金紅石：混合物衍射花樣中兩相最強(qiáng)線強(qiáng)度比I22A－TiO2/Ir-to2=1.50試用參比強(qiáng)度法計(jì)算兩相各自的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。求淬火后低溫回火的碳鋼樣品，不含碳化物（經(jīng)金相檢驗(yàn)）A（奧氏體）中含碳1%,M（馬氏體）中含碳量極低。經(jīng)過衍射測得A220峰積分強(qiáng)度為2.33（任意單位），M200峰積分強(qiáng)度為16.32，試計(jì)算該鋼中殘留奧氏體的體積分?jǐn)?shù)（實(shí)驗(yàn)條件：FeKa輻射，濾波，室溫20°C,a-Fe點(diǎn)陣參數(shù)a=0.2866nm，奧氏體點(diǎn)陣參數(shù)a=0.3571+0.0044wc,wc為碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。3-在皿203^2。3及Fes。。.混合物的衍射圖樣中，兩根最強(qiáng)線的強(qiáng)度比^。彳/1Fe3O4=1"3,試借助于索引上的參比強(qiáng)度值計(jì)算aFe2O3的相對含量。一塊淬火+低溫回火的碳鋼，經(jīng)金相檢驗(yàn)證明其中不含碳化物，后在衍射儀上用FeKa照射,分析出Y相含1%碳，a相含碳極低,又測得Y220線條的累積強(qiáng)度為5.40，a211線條的累積強(qiáng)度為51.2,如果測試時(shí)室溫為31C，問鋼中所含奧氏體的體積百分?jǐn)?shù)為多少？一個(gè)承受上下方向純拉伸的多晶試樣，若以X射線垂直于拉伸軸照射，問在其背射照片上衍射環(huán)的形狀是什么樣的？為什么？不必用無應(yīng)力標(biāo)準(zhǔn)試樣對比，就可以測定材料的宏觀應(yīng)力，這是根據(jù)什么原理？假定測角儀為臥式，今要測定一個(gè)圓柱形零件的軸向及切向應(yīng)力，問試樣應(yīng)該如何放置？總結(jié)出一條思路，說明平面應(yīng)力的測定過程。今要測定軋制7—3黃銅試樣的應(yīng)力，用CoKa照射（400）,當(dāng)甲=0°時(shí)測得29=150.1°,當(dāng)甲=45°時(shí)29=150.99°，問試樣表面的宏觀應(yīng)力為若干？（已知a=3.695埃，E=8.83X10X1010牛/米2,v=0.35）物相定性分析的原理是什么？對食鹽進(jìn)行化學(xué)分析與物相定性分析，所得信息有何不同？物相定量分析的原理是什么？試述用K值法進(jìn)行物相定量分析的過程。試借助PDF（ICDD）卡片及索引，對表1、表2中未知物質(zhì)的衍射資料作出物相鑒定。表1。d/AI/I]d/AI/I]d/AI/I]3.66501.46101.06103.171001.42501.01102.24801.31300.96101.91401.23100.85101.83301.12101.60201.0810表2。d/AI/I]d/AI/I]d/AI/I]2.40501.26100.93102.09501.25200.85102.031001.20100.81201.75401.06200.80201.47301.0210在一塊冷軋鋼板中可能存在哪幾種內(nèi)應(yīng)力？它的衍射譜有什么特點(diǎn)？按本章介紹的方法可測出哪一類應(yīng)力？一無殘余應(yīng)力的絲狀試樣，在受到軸向拉伸載荷的情況下，從垂直絲軸的方向用單色X射線照射，其透射針孔相上的衍射環(huán)有何特點(diǎn)？X射線應(yīng)力儀的測角器29掃描范圍143。?163°,在沒有“應(yīng)力測定數(shù)據(jù)表”的情況下，應(yīng)如何為待測應(yīng)力的試件選擇合適的X射線管和衍射面指數(shù)（以Cu材試件為例說明之）。在水平測角器的衍射儀上安裝一側(cè)傾附件，用側(cè)傾法測定軋制板材的殘余應(yīng)力，當(dāng)測量軋向和橫向應(yīng)力時(shí)，試樣應(yīng)如何放置？用側(cè)傾法測量試樣的殘余應(yīng)力，當(dāng)甲=0°和甲=45。時(shí)，其x射線的穿透深度有何變化？A-Ti02%（銳鈦礦）與R-Ti02（金紅石）混合物衍射花樣中兩相最強(qiáng)線強(qiáng)度比IA-Ti02/IR-TiO2=1?5?試用參比強(qiáng)度法計(jì)算兩相各自的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。2某淬火后低溫回火的碳鋼樣品，不含碳化物（經(jīng)金相檢驗(yàn)）A（奧氏體〕中含碳1%,M（馬氏體）中含碳量極低。經(jīng)過衍射測得A峰積分強(qiáng)度為2.33（任意單位〕〕M峰積220211分強(qiáng)度為16.32。試計(jì)算該鋼中殘留奧氏體的體積分?jǐn)?shù)（實(shí)驗(yàn)條件：FeKa輻射，濾波，室溫20°C°a—Fe點(diǎn)陣參數(shù)a=0.2866nm奧氏體點(diǎn)陣參數(shù)a=0。3571+0.0044Wc,Wc為碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)）。某立方晶系晶體德拜花樣中部分高角度線條數(shù)據(jù)如右表所列。試用"a一cos29”的圖解外推法求其點(diǎn)陣常數(shù)（準(zhǔn)確到4位有效數(shù)字）。H2+K2+L2Sin29380.9114400.9563410.9761420.9980欲在應(yīng)力儀（測角儀為立式）上分別測量圓柱形工件之軸向、徑向及切向應(yīng)力工件各應(yīng)如何放置？

第五章十三、選擇題1?若H-800電鏡的最高分辨率是0.5nm，那么這臺電鏡的有效放大倍數(shù)是（）。A.1000；B.10000；C.40000；D.600000?？梢韵南癫钍牵ǎ.球差；B.像散；C.色差；D.A+B?？梢蕴岣逿EM的襯度的光欄是（）。A.第二聚光鏡光欄；B.物鏡光欄；C.選區(qū)光欄；D.其它光欄。電子衍射成像時(shí)是將（）。A.中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合；B.中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合；C.關(guān)閉中間鏡；D.關(guān)閉物鏡。5?選區(qū)光欄在TEM鏡筒中的位置是（）。A.物鏡的物平面；B.物鏡的像平面C.物鏡的背焦面；D.物鏡的前焦面。十四、正誤題TEM的分辨率既受衍射效應(yīng)影響，也受透鏡的像差影響。（）孔徑半角a是影響分辨率的重要因素，TEM中的a角越小越好。（）有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者僅僅是儀器的制造水平。（）TEM中主要是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，所以不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過凹凸鏡的組合設(shè)計(jì)來減小或消除像差，故TEM中的像差都是不可消除的。（）TEM的景深和焦長隨分辨率Ar。的數(shù)值減小而減??；隨孔徑半角a的減小而增加；隨放大倍數(shù)的提高而減小。（）十五、填空題11.12.13.14.15.TEM中的透鏡有兩種，分別是.TEM中的三個(gè)可動光欄分別是于11.12.13.14.15.TEM中的透鏡有兩種，分別是.TEM中的三個(gè)可動光欄分別是于TEM成像系統(tǒng)由TEM的主要組成部分是由、電磁透鏡的像差包括_位于,.和，和和，位于組成。和觀組成。位；輔助部分十六、名詞解釋景深與焦長——電子槍——點(diǎn)分辨與晶格分辨率消像散器——選區(qū)衍射——分析型電鏡——極靴——有效放大倍數(shù)Ariy斑——孔徑半角——思考題什么是分辨率，影響透射電子顯微鏡分辨率的因素是哪些？有效放大倍數(shù)和放大倍數(shù)在意義上有何區(qū)別？球差、像散和色差是怎樣造成的？如何減小這些像差？哪些是可消除的像差？聚光鏡、物鏡和投影鏡各自具有什么功能和特點(diǎn)？影響電磁透鏡景深和焦長的主要因素是什么？景深和焦長對透射電子顯微鏡的成像和設(shè)計(jì)有何影響？消像散器的作用和原理是什么？何為可動光闌？第二聚光鏡光闌、物鏡光闌和選區(qū)光闌在電鏡的什么位置？它們各具有什么功能？比較光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡成像的異同點(diǎn)。電子束的折射和光的折射有何異同點(diǎn)？比較靜電透鏡和磁透鏡的聚焦原理。球差、色差和像散是怎樣造成的？用什么方法可以減小這些像差？說明透鏡分辨率的物理意義，用什么方法提高透鏡的分辨率？電磁透鏡的景深和焦長是受哪些因素控制的？說明透射電鏡中物鏡和中間鏡在成像時(shí)的作用。物鏡光闌和選區(qū)光闌各具有怎樣的功能點(diǎn)分辨率和晶格分辨率在意義上有何不同？電子波有何特征？與可見光有何異同？分析電磁透鏡對電子波的聚焦原理，說明電磁透鏡結(jié)構(gòu)對聚焦能力的影響。說明影響光學(xué)顯微鏡和電磁透鏡分辨率的關(guān)鍵因素是什么？如何提高電磁透分辨率？電磁透鏡景深和焦長主要受哪些因素影響？說明電磁透鏡的景深大、焦長長，是什么因素影響的結(jié)果？假設(shè)電磁透鏡沒有像差，也沒有衍射Airy斑，即分辨率極高，此時(shí)景深和焦長如何？透射電鏡主要由幾大系統(tǒng)構(gòu)成？各系統(tǒng)之間關(guān)系如何？照明系統(tǒng)的作用是什么？它應(yīng)滿足什么要求？成像系統(tǒng)的主要構(gòu)成及其特點(diǎn)是什么？分別說明成像操作與衍射操作時(shí)各級透鏡（像平面與物平面）之間的相對位置關(guān)系，并畫出光路圖。樣品臺的結(jié)構(gòu)與功能如何？它應(yīng)滿足哪些要求？透射電鏡中有哪些主要光闌，在什么位置？其作用如何？如何測定透射電鏡的分辨卒與放大倍數(shù)。電鏡的哪些主要參數(shù)控制著分辨率與放大倍數(shù)？十七、選擇題單晶體電子衍射花樣是（）。A.規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn)；B.同心圓環(huán)；C.暈環(huán)；D.不規(guī)則斑點(diǎn)。薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（）。A.尺寸很小的倒易點(diǎn)；B.尺寸很大的球；C.有一定長度的倒易桿；D.倒易圓盤。當(dāng)偏離矢量S<0時(shí)，倒易點(diǎn)是在厄瓦爾德球的（）。A.球面外；B.球面上；C.球面內(nèi)；D.B+C。能幫助消除180°不唯一性的復(fù)雜衍射花樣是（）。A.高階勞厄斑；B.超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)；C.二次衍射斑；D.孿晶斑點(diǎn)。菊池線可以幫助（）。A.估計(jì)樣品的厚度；B.確定180°不唯一性；C.鑒別有序固溶體；D.精確測定晶體取向。如果單晶體衍射花樣是正六邊形，那么晶體結(jié)構(gòu)是（）。A.六方結(jié)構(gòu)；B.立方結(jié)構(gòu)；C.四方結(jié)構(gòu)；D.A或B。十八、判斷題多晶衍射環(huán)和粉末德拜衍射花樣一樣，隨著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（）單晶衍射花樣中的所有斑點(diǎn)同屬于一個(gè)晶帶。（）因?yàn)閷\晶是同樣的晶體沿孿晶面兩則對稱分布，所以孿晶衍射花樣也是衍射斑點(diǎn)沿兩則對稱分布。（）4?偏離矢量S=0時(shí)，衍射斑點(diǎn)最亮。這是因?yàn)镾=0時(shí)是精確滿足布拉格方程，所以衍射強(qiáng)度最大。（）對于未知晶體結(jié)構(gòu)，僅憑一張衍射花樣是不能確定其晶體結(jié)構(gòu)的。還要從不同位向拍攝多幅衍射花樣，并根據(jù)材料成分、加工歷史等或結(jié)合其它方法綜合判斷晶體結(jié)構(gòu)。（）電子衍射和X射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。（）十九、填空題電子衍射和X射線衍射的不同之處在于不同、不同，以及不同。TOC\o"1-5"\h\z電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花樣是、、、和。18?偏離矢量s的最大值對應(yīng)倒易桿的長度，它反映的是e角布拉格方程的程度。單晶體衍射花樣標(biāo)定中最重要的一步是。二次衍射可以使密排六方、金剛石結(jié)構(gòu)的花樣中在產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面心立方結(jié)構(gòu)的花樣中。二十、名詞解釋偏離矢量S16.180°不唯一性

菊池線高階勞厄斑習(xí)題6-1.從原理及應(yīng)用方面分析電子衍射與X衍射在材料結(jié)構(gòu)分析中的異、同點(diǎn)。6-2.用愛瓦爾德圖解法證明布拉格定律。6-3.試推導(dǎo)電子衍射的基本公式，并指出L入的物理意義。6-4.簡述單晶子電子衍射花樣的標(biāo)定方法。6-5.說明多晶、單晶及厚單晶衍射花樣的特征及形成原理。6-6.下圖為18Cr2N4WA經(jīng)900°C油淬后在透射電鏡下攝得的選區(qū)電子衍射花樣示意圖，衍射花樣中有馬氏體和奧氏體兩套斑點(diǎn)，請對其指數(shù)斑點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)定。6-1.18Cr2N4WA經(jīng)900C油淬后電子衍射花樣示意圖QEQEr1「1f、f/h匸i1}'■iR=10.0mm,R=10.0mm,R=10.0mm,2R=16.8mm,3叫和R2間夾角為70R=10.2mm,1R=10.2mm2,R=14.4mm,3叫和只2間夾角為90°,L入二2.05mm?nm6-7.下圖為18Cr2N4WA經(jīng)900C油淬400C回火后在透射電鏡下攝得的滲碳體選區(qū)電子衍射花樣示意圖，請對其指數(shù)斑點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)定。Rl=9.8mm,R2=10.0mm,①=95°,L入=2.05mm?nm6-8.為何對稱入射時(shí)，即只有倒易點(diǎn)陣原點(diǎn)在愛瓦爾德球面上，也能得到除中心斑點(diǎn)以外的一系列衍射斑點(diǎn)？6-9.舉例說明如何用選區(qū)衍射的方法來確定新相的慣習(xí)面及母相與新相的位相關(guān)系。6-10.試正明倒易矢g與所對應(yīng)的（hkl）面指數(shù)關(guān)系為g=ha*+kb*+lc*。6-11.為什么說從衍射觀點(diǎn)看有些倒易點(diǎn)陣也是衍射點(diǎn)陣，其倒易點(diǎn)不是幾何點(diǎn)？其形狀和所具有的強(qiáng)度取決于哪些因素，在實(shí)際上有和重要意義？6-12.為什么說斑點(diǎn)花樣是相應(yīng)倒易面放大投影？繪出fcc（lll）*倒易面。6-13.為什么TEM既能選區(qū)成象又能選區(qū)衍射？怎樣才能做到兩者所選區(qū)域的一致性。在實(shí)際應(yīng)用方面有和重要意義？6-14.在fee中，若孿晶面（111）,求孿晶（31T）倒易陣點(diǎn)在基體倒易點(diǎn)陣中的位置。6-15.試說明菊池線測試樣取向關(guān)系比斑點(diǎn)花樣精確度為高的原因。第七章二十一、選擇題1?將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像，這是（）。A.明場像；B.暗場像；C.中心暗場像；D.弱束暗場像。當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（）。A.Ig=O；B.Ig<0；C.Ig>0；D.Ig=Imax。已知一位錯(cuò)線在選擇操作反射g1=（110）和g2=（111）時(shí)，位錯(cuò)不可見，那么它的布氏矢量是（）。A.b=（0-10）；B.b=（1-10）；C.b=（0-11）；D.b=（010）。當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)的成像襯度是（）。A.質(zhì)厚襯度；B.衍襯襯度；C.應(yīng)變場襯度；D.相位襯度。當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)所看到的粒子大?。ǎ?。A.小于真實(shí)粒子大?。籅.是應(yīng)變場大??；C.與真實(shí)粒子一樣大?。籇.遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真實(shí)粒子。二十二、判斷題實(shí)際電鏡樣品的厚度很小時(shí),能近似滿足衍襯運(yùn)動學(xué)理論的條件,這時(shí)運(yùn)動學(xué)理論能很好地解釋襯度像。（）2?厚樣品中存在消光距離Eg,薄樣品中則不存在消光距離Eg。（）明場像是質(zhì)厚襯度，暗場像是衍襯襯度。（）4?晶體中只要有缺陷，用透射電鏡就可以觀察到這個(gè)缺陷。（）5?等厚消光條紋和等傾消光條紋通常是形貌觀察中的干擾，應(yīng)該通過更好的制樣來避免它們的出現(xiàn)。（）二十三、填空題TOC\o"1-5"\h\z運(yùn)動學(xué)理論的兩個(gè)基本假設(shè)和。對于理想晶體，當(dāng)或連續(xù)改變時(shí)襯度像中會出現(xiàn)或。對于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起的導(dǎo)致衍射波振幅增加了一個(gè)，但是若=2n的整數(shù)倍時(shí)，缺陷也不產(chǎn)生襯度。一般情況下，孿晶與層錯(cuò)的襯度像都是平行—，但孿晶的平行線，而層錯(cuò)的平行線是的。實(shí)際的位錯(cuò)線在位錯(cuò)線像的，其寬度也大大小于位錯(cuò)線像的寬度，這是因?yàn)槲诲e(cuò)線像的寬度是寬度。二十四、名詞解釋中心暗場像消光距離Eg等厚消光條紋和等傾消光條紋不可見性判據(jù)應(yīng)變場襯度習(xí)題7-1．制備薄膜樣品的基本要求是什么？具體工藝如何？雙噴減薄與離子減薄各適用于制備什么樣品？7-2.何謂襯度？TEM能產(chǎn)生哪幾種襯度象，是怎樣產(chǎn)生的，都有何用途7-3．畫圖說明衍襯成象原理，并說明