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目錄 M+能 M+ 光學(xué)分析法(光譜分析法)是建立在物質(zhì)發(fā)射的電磁輻射或電磁輻射與物質(zhì)相互作用基礎(chǔ)上的各種根據(jù)物質(zhì)吸收或者發(fā)射電磁輻射的不同就可以對物質(zhì)進?定性、定量分析???光學(xué)分析法主要是 §2- 電磁輻射是以巨大速度通過空間,不需要 1680年,牛頓主張光是象經(jīng)典力學(xué)中的質(zhì)點那樣的粒子流,光之所以有不同顏色是因為粒子 1690年,惠更斯則提出了另一種看法:認為光是由光源在其周圍介質(zhì)里引起彈性振動而形成的波,光之所以有不同顏色是
一種電磁波,于是光的波動學(xué)說更戰(zhàn)勝了粒子學(xué)說,在相當(dāng)長 子學(xué)說解釋光電效應(yīng)得到成功,并進一步被其它實驗證實,迫使人們在承認光是波的同時又承認光是由一定能量和動量的粒子(光子)所組成。光具有波動和微粒的雙重性質(zhì)就稱為光的波粒二象性,其波粒二象性可以被波動EH 波數(shù)σ-每厘米內(nèi)波的數(shù)目;cm-1,σ=1/λ傳播速度v-v =
==c=nlc=2.99792458×108m?s-單位:eV或J(1eV=1.602×10-19J,1J=
=
==h=6.626·10-34Je=hne=hn=hc=普朗克公式把光的粒子性與波動性統(tǒng)?起來,不 位cm-1解 E=Js×2.998×101cms-=3.75×10-191J=6.241×1018eVE=3.75×10-19J×6.241×1018eVJ-1=2.34ν=c/λ=2.998×1010cms-1/530×10-7σ=1/λ=1/530×10-7cm=1.89×104cm- 則γc/λ=3.0×108/0.9×10-93.3×1017s-σ=1/λ=1/0.9×10-7=1.1×107cm- 1010-2 10 102 104 0.1 103 105 1010-2 10 102 104 0.1 103 105 從上到下,波?,光量子的頻率和能 譜 譜高能輻射區(qū):λ<10nm,ε>102光學(xué)光譜區(qū):10nmλ102eV>ε>10-4 區(qū):λ>1mm,ε<10-4 ?.
通過測量分子或原子的特征發(fā)射光譜來研究物質(zhì)結(jié)構(gòu)M2-2-2. DE=hn=hlM2-2-3.頻率為ν0的單色光照射透明物質(zhì),化,它的能量也發(fā)生變化,則稱為移.Raman位移的大小與分子的振動
TheNobelPrizeinPhysics1930“forhisworkonthescatteringoflightandforthediscoveryoftheeffectnamedafterhim”彈性碰撞,方向改變,l不變,1 解釋為什么晴朗的天空是藍色
§2- 光學(xué)光譜儀基本上均由五部分組成,即:光源(輻射源)、單色器、樣品池、檢測器和 2-3-1. 2-3-2.單色器(分光系統(tǒng) 準(zhǔn)鏡 1
照準(zhǔn)色投明直散影系系系系統(tǒng)統(tǒng)統(tǒng)統(tǒng)透鏡組KS得到均勻照明,即在S作用:把狹縫S入射的光線轉(zhuǎn)變?yōu)槠叫泄馐?,使其到達分O2F的不同Dldl2.分辨率2.分辨率R值越大,分辨能力越強,一般光譜儀的分辨率在5000~60000之間。例:光譜儀在300.0nm附近的R是50000,波長差為多少的譜 =300/50000=0.006nm 分辨率是光譜儀的一個綜合指標(biāo),一方面與光譜儀的線色散率有一定關(guān)系,另一方面又與線色散率存在本質(zhì)區(qū)別。集光本領(lǐng)定義:光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)傳遞輻射的能力。L=E/Bf
dq
dnξ因此,增加角色散率dq/dl的方式有三:
=
2mfsinDl
也與波長有關(guān),一般λ,Dl。即相
f:物鏡焦距ξR理
=
dndλL=E=ptsine(d
光柵光譜的產(chǎn)生是多縫干涉和單縫衍射二者聯(lián)合作用的結(jié)果。多縫干涉決定光譜線的空間位置,單縫光程差CD;D=CD-CD=dAB=dsind(sina-sinb)=Kl(K=0,±1,22121 )=)=d(sina+sind(sind(sina–sin)= 光譜級次(K≠0),衍射角隨波長的增大而增大,即產(chǎn)生光柵光譜存在譜級重疊。在應(yīng)用光柵攝譜儀時常利用感光板的光譜靈敏度不同進行譜級分離,也可采用濾光片或(3)K=0時,β=-α,即衍射角等于入射角,且二者分居 由光柵方程d(sinαsinβKλ對λ求導(dǎo)得到,在一定dldcos ddl dcos =dl=dcosb?D=意義:焦面上每mm距離內(nèi)所容納的波長數(shù),也稱作強度定向光柵,特點是在閃耀波長處將集中~80%的入射光的輻射能,而在此波長的2/3及3/2處,光強閃耀光柵技術(shù)的核心是控制刻痕形狀和光柵刻劃角,這里的光柵刻劃角是指光柵刻槽的反射面與i,也稱作光柵閃耀角,用γ閃表 KλKλ閃2dsin )l ·560= 2+l ·560= 2-1.R理KN
=o
sin =1 l=1·570.0=1+ 長波極限:1 l=1·570.0=1140.0nm1-0.5 D=
=
·106
=0.8nm/ 度低(8~900條/mm)、刻槽深度大(微米級)。它與其高度的幾倍,階梯之間的距離是欲色散波長的10~儀。具有色散率高、緊湊、造價低等優(yōu)點。(五)(五)3.狹縫寬度的選擇原則
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