PVDFFEPZnO復(fù)合涂層的制備及防垢性能研究_第1頁(yè)
PVDFFEPZnO復(fù)合涂層的制備及防垢性能研究_第2頁(yè)
PVDFFEPZnO復(fù)合涂層的制備及防垢性能研究_第3頁(yè)
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PVDFFEPZnO本文研究了以PVD(PulsedVaporDeposition)技術(shù)為基礎(chǔ)、采用PVD-FFEP技術(shù)(即PVD技術(shù)與氟化物電解質(zhì)處理技術(shù)的結(jié)合)制備的表明,PVD-FFEP-ZnO復(fù)合涂層具有很好的防垢性能,并且具有高的硬度、傳統(tǒng)的純金屬氧化物涂層在某些情況下的防垢效果不佳,為了提高FPFPO復(fù)合涂層在防垢性能上優(yōu)于其他復(fù)合涂層。P-FEP技D和氟化物電解質(zhì)處理技術(shù)的方法,可以使金屬氧化物涂層表面形成具有致密骨架結(jié)構(gòu)的氟化物膜,從而具有更好的抗污垢、抗腐蝕效果。PVD-FFEP-ZnO復(fù)合涂層的制備方法,并對(duì)其防垢性能3英寸(111)nZnO1PVD-FFEP-ZnO復(fù)合涂層制備工藝參數(shù)(sccm壓強(qiáng)(Pa)掃描電壓(V)Ar103.5×10^-1100O213.5×10^-1Zn33.5×10^-1ZnOFFEP處理裝置進(jìn)行氟化物電2FFEP-氫氟酸電流密度0.1A/cm^2處理時(shí)間20FFEP氟化物電解質(zhì)處理之后,樣品的表面形成了具有致密骨架結(jié)構(gòu)的氟化物膜,膜厚約為10nm左右。整個(gè)復(fù)合涂層的厚度為150nm左右。Ca2+的貢獻(xiàn)量:1000測(cè)試時(shí)間:24h1cm^2SEM掃描可以看到,PVD-FFEP-ZnO復(fù)合涂層表面致密平滑,1SEM掃描圖(aZnO膜表面,b為復(fù)合涂層nano-indentation技術(shù)對(duì)復(fù)合涂層的硬度進(jìn)行測(cè)試,測(cè)試結(jié)果顯示其硬度為16.7GPa。力較高,垢垢的質(zhì)量?jī)H有純金屬氧化物涂層的1/3左右??梢赃_(dá)到67%。本文使用PVD-FFEP技術(shù)制備了PVD-FFEP-ZnO復(fù)合涂層

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