裝飾性鍍鉻故障分析：鍍鉻層不均勻

裝飾性鍍鉻故障分析：鍍鉻層不均勻

（1）可能原因：各部分與陽極距離不均處理方法：a.合理布置陽極；b.合理設(shè)計掛具和槽體尺寸。（2）可能原因：工件形狀復(fù)雜處理方法：設(shè)計陽極形狀，必要時采用輔助陰極和象形陽極，使整個工件的電力線分布均勻（3）可能原因：鉻酐與硫酸的比例不當(dāng)原因分析：鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的唯一來源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A/dm2時，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g/L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，最主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03:SO42-=(80～100):1，最佳值為100:1。當(dāng)SO42-含量過高時，對膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO42-含量過低時，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。處理方法：分析調(diào)整鍍液成分，并控制Cr03:H2S04=100:1

附：提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來提高鍍層的均勻性，下面談?wù)劯淖儙缀我蛩氐拇胧?

①采用象形陽極。象形陽極與陰極的距離相等，在陰極上電流分布均勻，但該陽極制作成本高，加工難度大，制作時要充分考慮到下列因素：陽極形狀、合金成分、鍍液流通和交換以及上、下部工件的屏蔽問題。

②采用屏蔽陰極。對于不能采用象形陽極的工件，可用非金屬材料(如塑料)屏蔽陰極的高電流密度區(qū)，使電流向低電流密度區(qū)分布，從而保證整個工件表面電流分布趨于一致。屏蔽陰極距陰極的距離越小，其屏蔽效果越好。

③增大陰陽極距離，合理布置陽極。陰陽極距離加大，使得零件的凸凹處距陽極的相對距離差縮小，可以使電流分布因零件形狀差異的影響變小，當(dāng)然陰陽極距離的加大，將導(dǎo)致槽壓升高。合理地布置陽極可以將邊角等高電流密度區(qū)的電流減小，使中、低電流密度區(qū)的電流加大，整個工件的電流分布更趨向均勻。一般陰極與陽極間距在200～300mm之間。

④采用旋轉(zhuǎn)陰極。當(dāng)工件圍繞陰極中軸作一個方向的旋轉(zhuǎn)時，工件各面與陽極的距離在不斷變化，由于這種變化是周期性的，使工件上電流分布的大小機(jī)會均等。但采用旋轉(zhuǎn)陰極，必須保證陰極導(dǎo)電軸與掛具的導(dǎo)電良好。

⑤采用輔助陽極。對于形狀復(fù)雜的工件，采用輔助陽極來縮短工件低電流密度區(qū)與陽極之間的距離，從而使低電流密度區(qū)的電流增大。

⑥采用沖擊電流施鍍。對于形狀復(fù)雜或表面多孔的工件鍍鉻，采用沖擊電流使工件低電流密度區(qū)沉積上一層鉻，氫在鉻層上的