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數(shù)智創(chuàng)新變革未來硅基光子集成電路設(shè)計(jì)硅基光子技術(shù)簡介集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)硅基光子器件設(shè)計(jì)集成電路工藝流程封裝與測試技術(shù)版圖設(shè)計(jì)與優(yōu)化可靠性與魯棒性展望與挑戰(zhàn)目錄硅基光子技術(shù)簡介硅基光子集成電路設(shè)計(jì)硅基光子技術(shù)簡介硅基光子技術(shù)概述1.硅基光子技術(shù)是一種利用硅材料實(shí)現(xiàn)光子功能的技術(shù),具有高速、高密度、低損耗等優(yōu)點(diǎn)。2.隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,硅基光子技術(shù)已成為光子集成電路的主流技術(shù)之一,廣泛應(yīng)用于通信、數(shù)據(jù)中心、傳感器等領(lǐng)域。3.硅基光子技術(shù)的發(fā)展趨勢是不斷提高集成度和性能,降低成本,推動光子技術(shù)的更廣泛應(yīng)用。硅基光子技術(shù)的原理1.硅基光子技術(shù)利用光子在硅波導(dǎo)中的傳輸來實(shí)現(xiàn)光子功能,通過調(diào)制光的振幅、相位和偏振等屬性實(shí)現(xiàn)各種光子操作。2.硅材料具有高折射率、低損耗等優(yōu)點(diǎn),使得硅基光子技術(shù)具有高速、高密度、低功耗等優(yōu)點(diǎn)。3.硅基光子技術(shù)的設(shè)計(jì)需要考慮光子的干涉、衍射等效應(yīng),需要精確控制波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)和尺寸。硅基光子技術(shù)簡介1.硅基光子技術(shù)已廣泛應(yīng)用于通信領(lǐng)域,用于實(shí)現(xiàn)高速光傳輸和光信號處理。2.在數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域,硅基光子技術(shù)可用于實(shí)現(xiàn)高速互連和光存儲,提高數(shù)據(jù)中心的性能和能效。3.硅基光子技術(shù)還可用于實(shí)現(xiàn)各種傳感器,如光學(xué)陀螺儀、壓力傳感器等。硅基光子技術(shù)的挑戰(zhàn)1.硅基光子技術(shù)的制造需要高精度的工藝和設(shè)備,制造成本較高。2.硅基光子技術(shù)的設(shè)計(jì)需要考慮多種因素,如光子的干涉、衍射等效應(yīng),設(shè)計(jì)難度較大。3.硅基光子技術(shù)的集成度和性能仍有提升空間,需要進(jìn)一步提高技術(shù)水平。硅基光子技術(shù)的應(yīng)用硅基光子技術(shù)簡介硅基光子技術(shù)的發(fā)展趨勢1.隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,硅基光子技術(shù)的集成度和性能將不斷提高,成本將不斷降低。2.硅基光子技術(shù)將與其他技術(shù)如電子、微流控等進(jìn)一步融合,推動光子技術(shù)的更廣泛應(yīng)用。3.新型材料和新技術(shù)如二維材料、人工智能等的應(yīng)用將進(jìn)一步推動硅基光子技術(shù)的發(fā)展。集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)硅基光子集成電路設(shè)計(jì)集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路設(shè)計(jì)概述1.集成電路設(shè)計(jì)是將多個(gè)電子元件集成在一塊微小的半導(dǎo)體材料上的過程,以實(shí)現(xiàn)特定功能。2.集成電路設(shè)計(jì)涉及電路設(shè)計(jì)、布局設(shè)計(jì)、物理驗(yàn)證等多個(gè)環(huán)節(jié),需要多領(lǐng)域的知識和技能。3.隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷縮小,集成電路設(shè)計(jì)面臨的挑戰(zhàn)越來越大,需要更高的精度和更復(fù)雜的流程。集成電路設(shè)計(jì)流程1.集成電路設(shè)計(jì)流程包括電路設(shè)計(jì)、布局設(shè)計(jì)、物理驗(yàn)證、版圖生成等多個(gè)步驟。2.電路設(shè)計(jì)是集成電路設(shè)計(jì)的核心,需要根據(jù)功能需求進(jìn)行電路分析和設(shè)計(jì)。3.布局設(shè)計(jì)和物理驗(yàn)證是確保集成電路能夠正確制造的關(guān)鍵步驟,需要考慮制造工藝和可靠性等因素。集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路設(shè)計(jì)工具1.集成電路設(shè)計(jì)需要使用專業(yè)的電子設(shè)計(jì)自動化(EDA)工具。2.EDA工具包括電路仿真器、布局編輯器、物理驗(yàn)證工具等,可提高設(shè)計(jì)效率和準(zhǔn)確性。3.隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,EDA工具也在不斷升級和完善,以適應(yīng)更復(fù)雜的設(shè)計(jì)需求。集成電路設(shè)計(jì)技術(shù)發(fā)展趨勢1.隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的快速發(fā)展,集成電路設(shè)計(jì)技術(shù)也在不斷演進(jìn)。2.新技術(shù)包括先進(jìn)封裝技術(shù)、異構(gòu)集成技術(shù)等,可提高集成電路的性能和可靠性。3.未來,集成電路設(shè)計(jì)技術(shù)將更加注重能效、安全性和可擴(kuò)展性等方面的考慮。集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)1.集成電路設(shè)計(jì)需要高素質(zhì)的人才,需要具備電路設(shè)計(jì)、半導(dǎo)體物理、制程技術(shù)等多方面的知識和技能。2.高校和科研機(jī)構(gòu)應(yīng)加強(qiáng)集成電路設(shè)計(jì)人才的培養(yǎng),提高人才培養(yǎng)質(zhì)量和實(shí)踐能力。3.企業(yè)也應(yīng)加強(qiáng)人才培養(yǎng)和引進(jìn),建立完善的人才激勵機(jī)制,促進(jìn)人才發(fā)展和創(chuàng)新。集成電路設(shè)計(jì)人才培養(yǎng)硅基光子器件設(shè)計(jì)硅基光子集成電路設(shè)計(jì)硅基光子器件設(shè)計(jì)硅基光子器件的設(shè)計(jì)原理1.硅基光子器件是利用硅材料的光學(xué)特性制作的光學(xué)器件,具有集成度高、功耗低、可靠性高等優(yōu)點(diǎn)。2.設(shè)計(jì)硅基光子器件需要考慮光學(xué)原理、材料特性、工藝技術(shù)等多方面的因素。3.常見的硅基光子器件包括波導(dǎo)、諧振腔、光開關(guān)、調(diào)制器等。硅基光子器件的設(shè)計(jì)流程1.硅基光子器件的設(shè)計(jì)流程包括需求分析、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、仿真優(yōu)化、版圖繪制等環(huán)節(jié)。2.需要充分考慮器件的性能指標(biāo)、工藝可實(shí)現(xiàn)性、成本等因素。3.設(shè)計(jì)流程需要結(jié)合實(shí)際情況進(jìn)行優(yōu)化和改進(jìn),提高設(shè)計(jì)效率和準(zhǔn)確性。硅基光子器件設(shè)計(jì)硅基光子器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)1.結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需要兼顧光學(xué)性能和機(jī)械穩(wěn)定性,確保器件的可靠性和耐久性。2.針對不同的應(yīng)用場景和功能需求,需要設(shè)計(jì)不同的結(jié)構(gòu)形式和材料組合。3.結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需要考慮制造工藝的限制和實(shí)際情況,確保設(shè)計(jì)的可實(shí)現(xiàn)性。硅基光子器件的仿真優(yōu)化1.仿真優(yōu)化是硅基光子器件設(shè)計(jì)的重要環(huán)節(jié),可以有效提高設(shè)計(jì)的準(zhǔn)確性和效率。2.需要利用專業(yè)的仿真軟件進(jìn)行光學(xué)性能仿真和結(jié)構(gòu)優(yōu)化。3.仿真結(jié)果需要結(jié)合實(shí)際測試結(jié)果進(jìn)行修正和改進(jìn),確保設(shè)計(jì)的準(zhǔn)確性和可靠性。硅基光子器件設(shè)計(jì)硅基光子器件的版圖繪制1.版圖繪制是將設(shè)計(jì)結(jié)果轉(zhuǎn)化為可制造版圖的過程,需要確保版圖的準(zhǔn)確性和可制造性。2.需要利用專業(yè)的版圖繪制軟件進(jìn)行繪制,遵循相關(guān)制造工藝和規(guī)范。3.版圖繪制需要考慮制造過程中的對齊、套刻等因素,確保制造的準(zhǔn)確性和效率。硅基光子器件的發(fā)展趨勢和前沿技術(shù)1.隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用需求的不斷提高,硅基光子器件的發(fā)展前景廣闊。2.未來硅基光子器件將更加注重集成化、微型化、多功能化等方向的發(fā)展。3.前沿技術(shù)包括新型材料、新工藝、新結(jié)構(gòu)等方面的探索和應(yīng)用,將為硅基光子器件的發(fā)展帶來新的機(jī)遇和挑戰(zhàn)。集成電路工藝流程硅基光子集成電路設(shè)計(jì)集成電路工藝流程集成電路工藝流程簡介1.集成電路工藝是將多個(gè)電子元件集成在一塊微小的半導(dǎo)體材料上的過程,以實(shí)現(xiàn)特定功能。2.隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷進(jìn)步,集成電路工藝越來越復(fù)雜,需要高精度的控制和高超的技術(shù)。光刻技術(shù)1.光刻技術(shù)是使用光線將圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上的過程,是集成電路制造中的關(guān)鍵步驟。2.隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小,光刻技術(shù)需要不斷提高分辨率和精度,以滿足制造需求。集成電路工藝流程刻蝕技術(shù)1.刻蝕技術(shù)是將未被光刻膠保護(hù)的材料去除的過程,從而形成所需的圖案。2.刻蝕技術(shù)需要具有高選擇性和高各向異性,以確保精確制造。薄膜沉積技術(shù)1.薄膜沉積技術(shù)是在集成電路表面沉積薄膜的過程,以改變表面性質(zhì)和增加功能。2.薄膜沉積技術(shù)需要控制薄膜厚度和均勻性,以確保器件性能。集成電路工藝流程1.化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)是用機(jī)械和化學(xué)方法去除表面材料的過程,以實(shí)現(xiàn)表面平坦化。2.化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)需要控制拋光速率和表面粗糙度,以確保制造精度。集成電路工藝發(fā)展趨勢1.隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷縮小,集成電路工藝將面臨越來越大的挑戰(zhàn)。2.未來集成電路工藝將更加注重材料的優(yōu)化和工藝整合,以實(shí)現(xiàn)更高效、更可靠的制造?;瘜W(xué)機(jī)械拋光技術(shù)封裝與測試技術(shù)硅基光子集成電路設(shè)計(jì)封裝與測試技術(shù)封裝技術(shù)1.封裝技術(shù)的主要目的是保護(hù)硅基光子集成電路免受外界環(huán)境的影響,同時(shí)提供良好的光學(xué)和電學(xué)接口。2.常見的封裝類型包括芯片級封裝、板級封裝和模塊級封裝,每種類型都有其特定的應(yīng)用和優(yōu)化方向。3.隨著技術(shù)的發(fā)展,封裝正在向小型化、高密度、高可靠性方向發(fā)展,以滿足日益增長的數(shù)據(jù)傳輸和處理需求。測試技術(shù)1.測試技術(shù)是確保硅基光子集成電路性能和可靠性的關(guān)鍵環(huán)節(jié),包括功能測試、性能測試和可靠性測試等方面。2.針對不同的測試需求,已經(jīng)發(fā)展了多種測試方法和技術(shù),如光波導(dǎo)測試、光電轉(zhuǎn)換效率測試等。3.隨著硅基光子集成電路的復(fù)雜度不斷提高,測試技術(shù)面臨著更大的挑戰(zhàn),需要不斷提高測試精度和效率。封裝與測試技術(shù)封裝與測試的集成1.封裝和測試技術(shù)的集成是提高硅基光子集成電路整體性能的重要環(huán)節(jié),有助于減小尺寸、降低成本、提高可靠性。2.集成封裝和測試技術(shù)需要考慮光學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)等多個(gè)方面的因素,確保整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性。3.隨著未來技術(shù)的不斷發(fā)展,封裝和測試的集成將更加注重高效、自動化和智能化,以滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需求。版圖設(shè)計(jì)與優(yōu)化硅基光子集成電路設(shè)計(jì)版圖設(shè)計(jì)與優(yōu)化版圖設(shè)計(jì)基礎(chǔ)1.掌握基本版圖設(shè)計(jì)規(guī)則:理解并熟悉硅基光子集成電路的基本版圖設(shè)計(jì)規(guī)則,如最小線寬、最小間距、對齊方式等。2.版圖與電路圖的對應(yīng)關(guān)系:明確版圖與電路圖的對應(yīng)關(guān)系,確保版圖實(shí)現(xiàn)電路圖的功能。3.版圖布局規(guī)劃:合理規(guī)劃版圖布局,提高集成度,降低損耗。版圖優(yōu)化技術(shù)1.減小損耗:通過優(yōu)化布線、選擇低損耗材料等方式,減小光子在集成電路中的損耗。2.提高集成度:采用先進(jìn)的版圖設(shè)計(jì)技術(shù),如多層布線、波導(dǎo)交叉等,提高集成度。3.優(yōu)化電磁兼容性:合理設(shè)計(jì)電磁屏蔽和接地,降低電磁干擾對集成電路性能的影響。版圖設(shè)計(jì)與優(yōu)化版圖驗(yàn)證與測試1.版圖DRC/LVS檢查:通過DRC(設(shè)計(jì)規(guī)則檢查)和LVS(版圖與電路圖一致性檢查),確保版圖設(shè)計(jì)的正確性。2.版圖寄生參數(shù)提?。禾崛“鎴D的寄生參數(shù),用于電路性能分析和優(yōu)化。3.版圖測試與調(diào)試:建立有效的測試與調(diào)試方法,對版圖進(jìn)行實(shí)際測試,驗(yàn)證其性能和功能。先進(jìn)版圖設(shè)計(jì)技術(shù)1.逆向設(shè)計(jì):利用逆向設(shè)計(jì)技術(shù),從電路性能需求出發(fā),反推版圖設(shè)計(jì)。2.人工智能輔助設(shè)計(jì):應(yīng)用人工智能算法,輔助版圖設(shè)計(jì),提高設(shè)計(jì)效率。3.3D集成技術(shù):探索3D集成技術(shù),進(jìn)一步提高硅基光子集成電路的集成度和性能。版圖設(shè)計(jì)與優(yōu)化1.向更小節(jié)點(diǎn)發(fā)展:隨著工藝技術(shù)的進(jìn)步,硅基光子集成電路的版圖設(shè)計(jì)將向更小節(jié)點(diǎn)發(fā)展,提高集成度。2.多學(xué)科交叉融合:版圖設(shè)計(jì)將更多地結(jié)合光學(xué)、電磁學(xué)、熱力學(xué)等多學(xué)科知識,實(shí)現(xiàn)更高效的設(shè)計(jì)。3.可持續(xù)性發(fā)展:在追求性能提升的同時(shí),注重可持續(xù)性發(fā)展,降低能耗和環(huán)境影響。版圖設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)與機(jī)遇1.技術(shù)挑戰(zhàn):隨著集成度的提高,版圖設(shè)計(jì)將面臨更多的技術(shù)挑戰(zhàn),如寄生效應(yīng)、熱管理、電磁兼容等。2.研發(fā)成本:高集成度的硅基光子集成電路研發(fā)成本較高,需要投入更多資源進(jìn)行技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。3.市場機(jī)遇:隨著數(shù)據(jù)中心、5G/6G通信等領(lǐng)域的快速發(fā)展,硅基光子集成電路的市場前景廣闊,為版圖設(shè)計(jì)帶來更多的機(jī)遇。版圖設(shè)計(jì)發(fā)展趨勢可靠性與魯棒性硅基光子集成電路設(shè)計(jì)可靠性與魯棒性可靠性的定義與重要性1.可靠性是評估硅基光子集成電路性能的重要指標(biāo),它確保了系統(tǒng)在長時(shí)間運(yùn)行和不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定性和可用性。2.高可靠性對于光子系統(tǒng)的應(yīng)用至關(guān)重要,如數(shù)據(jù)中心、通信和傳感等領(lǐng)域,因?yàn)檫@些系統(tǒng)的故障可能導(dǎo)致嚴(yán)重的服務(wù)中斷或數(shù)據(jù)丟失。3.隨著硅基光子集成電路規(guī)模的增大和復(fù)雜度的提高,確保系統(tǒng)的可靠性成為了一個(gè)重要的挑戰(zhàn)??煽啃缘挠绊懸蛩?.影響因素包括設(shè)計(jì)、制造、材料和環(huán)境等多個(gè)方面,每個(gè)方面都可能對系統(tǒng)的可靠性產(chǎn)生重大影響。2.設(shè)計(jì)方面,需要考慮電路的結(jié)構(gòu)、元件的參數(shù)和布局等,以確保系統(tǒng)在不同條件下的穩(wěn)定性。3.制造和材料方面,需要保證制造過程的可控性和材料的高質(zhì)量,以減少故障的可能性??煽啃耘c魯棒性提高可靠性的技術(shù)方法1.采用冗余設(shè)計(jì),通過增加備份元件或路徑來提高系統(tǒng)的可靠性。2.優(yōu)化設(shè)計(jì),通過改進(jìn)電路結(jié)構(gòu)或元件參數(shù)來提高系統(tǒng)的魯棒性。3.加強(qiáng)制造過程控制和材料篩選,以確保制造出的集成電路具有高可靠性。魯棒性的定義與重要性1.魯棒性是指系統(tǒng)在受到擾動或異常條件下的穩(wěn)定性和性能保持能力,是評估硅基光子集成電路性能的重要指標(biāo)之一。2.高魯棒性可以確保系統(tǒng)在不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定運(yùn)行,避免因環(huán)境因素的變化而導(dǎo)致性能的降低或故障的發(fā)生??煽啃耘c魯棒性影響魯棒性的因素1.魯棒性受到設(shè)計(jì)、制造和環(huán)境等多個(gè)因素的影響,需要綜合考慮這些因素來提高系統(tǒng)的魯棒性。2.設(shè)計(jì)方面,需要采用魯棒性設(shè)計(jì)方法,如參數(shù)優(yōu)化和容錯(cuò)設(shè)計(jì)等,以降低系統(tǒng)對擾動的敏感性。3.制造和環(huán)境方面,需要保證制造過程的穩(wěn)定性和環(huán)境條件的可控性,以減少因制造和環(huán)境因素變化對系統(tǒng)性能的影響。提高魯棒性的技術(shù)方法1.采用魯棒性設(shè)計(jì)方法,如參數(shù)優(yōu)化、容錯(cuò)設(shè)計(jì)和適應(yīng)性設(shè)計(jì)等,以提高系統(tǒng)的魯棒性。2.加強(qiáng)制造過程控制和環(huán)境適應(yīng)性測試,以確保制造出的集成電路具有高魯棒性。3.通過系統(tǒng)級優(yōu)化和協(xié)同設(shè)計(jì)來提高整個(gè)系統(tǒng)的魯棒性,確保系統(tǒng)在不同條件下的穩(wěn)定運(yùn)行。展望與挑戰(zhàn)硅基光子集成電路設(shè)計(jì)展望與挑戰(zhàn)1.隨著納米工藝技術(shù)的進(jìn)步,集成電路設(shè)計(jì)將更小,更快,更節(jié)能。2.人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)在集成電路設(shè)計(jì)中的應(yīng)用將進(jìn)一步提高設(shè)計(jì)效率和性能。3.系統(tǒng)級封裝和異構(gòu)集成技術(shù)將成為未來集成電路設(shè)計(jì)的重要方向。光子集成電路的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)1.光子集成電路具有高速、低損耗、抗電磁干擾等優(yōu)勢,將在未來通信、計(jì)算等領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。2.但是,光子集成電路的設(shè)計(jì)、制造和測試面臨諸多挑戰(zhàn),需要克服工藝、成本等難題。集成電路設(shè)計(jì)技術(shù)發(fā)展趨勢展望與挑戰(zhàn)硅基光子集成電路的發(fā)展前景1.硅基光子集成電路是未來光子集成電路的主流技術(shù)路線,具有廣闊的應(yīng)用前景
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